腔内原有光场的振幅压缩

在注入原子的速度v可精确调控的情况,通过选择适当的v,可使腔内原来存在的光场成为振幅压缩态,也可使光子数分布形成若干个高峰。 关键词：     

在Tokamak装置中用中空超导环段冻结环向磁场的设想

本文提出一个设想:即将n个中空超导圆柱体放置于n饼纵场线圈之中,分段冻结环向磁场,则其所需要的电功率将比常规线圈降低到2/n倍。我们知道超导材料的冻结场可近似地写为。H_fj(r,T)=H_fj(r,0)[1-(T/(T_c))²。因此选定T=T₁,当轴向场H在大圆环的内壁达到H≥H_fj(r,T₁)时,中空体的内边缘达到临界场,则场进入中空区,再使H降到零,中     

微波灰化/DUO-ICP-AES测定残渣燃料油中的铝、硅、钒

采用微波灰化技术消解残渣燃料油,用全谱直读DUO-ICP-AES同时测定残渣燃料油中的铝、硅、钒,优化了仪器工作参数和实验条件.结果表明,在质量浓度0 ～25.0 mg/L范围内铝、硅、钒的线性关系良好(r=0.999 70 ～0.999 99),检出限、回收率和相对标准偏差分别为0.005 ～0.050 mg/L、8...     

中国战略性新兴产业国际竞争力评价

以"新钻石模型"为基础,从产业环境、产业支撑和产业创新等3个维度构建战略性新兴产业国际竞争力评价指标体系.运用2005~2014年的面板数据对战略性新兴产业进行因子分析.评价结果显示,电子及通信设备制造业与医药制造业国际竞争力明显高于计算机及办公设备制造业与医疗仪器设备及仪器仪表制造业.航空航天器及设备制造业国际竞争力有很大提升潜力.电子及通信设备制造业创新能力表现突出,但战略性新兴产业整体创新能力较低.     

曲面相机阵列多分辨成像方法

针对现有成像系统因数据冗余而无法兼顾大视场、高分辨、高效性的问题,结合人眼视网膜变分辨成像和并列式复眼成像原理,设计一种多分辨率成像的复合仿生成像系统.该成像系统按照球面和平面兼顾的曲面布局方式,利用11个相机镜头构建相机阵列,组成了四个等级分辨率的子眼拍摄模块.通过物距100 m的远景实验和物距10 m的近景实验发现,该系统在实现高分辨成像的同时,获得总视场达150.8°×37.8°.多分辨率成像实验结果表明,该系统获取的图像的分辨率从中心视场到边缘视场逐渐降低,并且相较于中心清晰全视场成像,四级分辨率成像的拼接图像数据量减少了17.2倍的数据冗余.     

非晶态超导体的转变温度Tc与原子质量的关系

本文探讨非晶态超导体的T_c与原子质量M之间的关系,发现在具有相同价电子数的同族元素中,超导T_c与原子质量的立方根成反比,即T_c∝l/M^1/3。讨论了晶态超导体的T_c问题,其中包括高T_c氧化物超导体。 关键词：     

金属玻璃(Cu1-xNix)33Zr67合金的低温电阻率

本文研究了金属玻璃(Cu_1-xNi_x)₃₃Zr₆₇合金的低温电阻输运特性。在较宽的温区(2—273K)测试了电阻率,测量结果符合Mooij判据。样品电阻率随温度的变化行为与双能级隧道模型符合较好。 关键词：     

低温硫化制备ZnS薄膜的物理性质研究

采用磁控溅射方法先在玻璃衬底上室温下沉积Zn金属薄膜,接着先后在200和400 ℃温度下的硫蒸气和氩气流中进行退火,生长出 ZnS 薄膜。薄膜样品的微观结构、物相结构、表面形貌和光学性质分别采用正电子湮没技术 (PAT)、X射线衍射仪 (XRD)、扫描电子显微镜 (SEM)和紫外-可见分光光度计进行表征。该ZnS薄膜在可见光范围具有约80%的高透光率,随着硫化时间的增加,其带隙由3.55 增加到3.57 eV,S/Zn原子比从0.54上升至0.89,薄膜质量明显得到改善,相对于以前报道的真空封装硫化所制备的ZnS薄膜,硫过量问题得到了较好解决。此外,慢正电子湮没多普勒展宽谱对硫化前后薄膜样品中膜层结构缺陷研究表明,硫化后薄膜的S参数明显增大,生成的ZnS 薄膜结构缺陷浓度高于Zn薄膜。     

Structure and microtribological characteristics of laser-arc deposited TiB2 thin film

TiB2 thin film was deposited by laser-arc deposition method on the surface of single crystalline silicon. The morphology, composition, structure and microtribological properties of the film were studied by using XPS, XRD and atomic force/friction force microscope (AFM/FFM). The results show that TiB2 (100) preferred growth on the Si(100)substrate, TiB2(001) preferred growth on the Si(111) substrate. The TiB2 thin film was composed of TiB2 and a small amount of TiO2. The friction coefficient of TiB2 film on substrates Si (100) and Si(111) in microtribological process were 0.087 and 0.073,respectively. TiB2 thin film displayed distinct ability of anti-scratch and wear-resistance.