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71.
72.
Frame Wavelets with Compact Supports for L^2(R^n)   总被引:1,自引:0,他引:1  
The construction of frame wavelets with compact supports is a meaningful problem in wavelet analysis. In particular, it is a hard work to construct the frame wavelets with explicit analytic forms. For a given n × n real expansive matrix A, the frame-sets with respect to A are a family of sets in R^n. Based on the frame-sets, a class of high-dimensional frame wavelets with analytic forms are constructed, which can be non-bandlimited, or even compactly supported. As an application, the construction is illustrated by several examples, in which some new frame wavelets with compact supports are constructed. Moreover, since the main result of this paper is about general dilation matrices, in the examples we present a family of frame wavelets associated with some non-integer dilation matrices that is meaningful in computational geometry.  相似文献   
73.
Polypropylene microporous membranes were treated with plasma in a mixture of N2 and H2 (1:2 in volume). Attenuated total reflectance Fourier transform infrared spectroscopy (ATR-FTIR), X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) and ultra-violet (UV) spectra demonstrated the success of grafting amino groups. The density of the polar amino groups on the membrane surface is about 0.59 μmol/cm^2. The as-treated membranes were successively applied to the in situ synthesis of oligonucleotides and an average coupling yield was more than 98%. The surface feature of the treated membrane is suggested to be responsible for its advantage over a glass slide.  相似文献   
74.
MEASUREMENTSOFFeANDCuK-ShelIONIZATIONCROSSSECTIONSBYSLOWELECTRONIMPACTLiTaihuaAnZhuLuoZhengmingCenterforRadiationPhysics,Ins...  相似文献   
75.
众所周知,四阶以上辛群中指数型道路的Maslov指标可以取任意整数.本文给出了二阶辛群中指数型道路的分类及其Maslov指标的取值范围,指出了与高阶情形的不同之处.  相似文献   
76.
Eu,Dy共掺杂SrAl2O4长余辉材料制备新工艺   总被引:6,自引:6,他引:0       下载免费PDF全文
活化Al-Sr合金粉末水解制备SrAl2O4长余辉材料的前驱体,并采用高温固相反应法制备出Eu,Dy共掺杂的SrAl2O4长余辉材料,对其微观结构和发光特性进行了研究。实验结果表明:前驱体中Al、Sr元素在微观状态下分布均匀,所制成的长余辉发光材料的发射主峰位于520nm附近,为典型的Eu2+离子4f5d-4f的特征发射,初始亮度达到18cd/m2,余辉时间长达46h。  相似文献   
77.
本文分析计算了荧光光纤温度传感器的温敏元件——GsAlAs/GaAs双异质结半导体材料的荧光辐射效率与激励光波长的关系。讨论了温度测量范围及温敏元件GaAlAs层铝含量对激励光源的限制,在0~200℃测温范围内,若采用LED作激励光源,其峰值波长应在0.70~0.76μm之间选择。  相似文献   
78.
用飞秒激光(200 fs,1 kHz,800 nm)脉冲在掺杂稀土离子Ce3 的聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)膜中进行了光存储实验研究,包括对样品的吸收光谱、激光照射前后的电子旋转共振(Electron spin resonance,ESR)光谱的测量和讨论。结果表明掺杂稀土离子Ce3 的聚甲基丙烯酸甲酯膜具有较低的写入阈值,有利于高速、并行的三维光存储。实验结果采用传统光学显微镜并行读出。给出了四层存储结果(点间距和层间距分别是4μm和16μm),并讨论了脉冲能量的大小对空腔尺寸的影响,进行高密度存储时,在保证读出信号灰度值足够大的情况下,应选择尽量小的激光脉冲写入能量。实验结果表明这种材料可以应用于三维光信息存储。  相似文献   
79.
萨宁  康晋锋  杨红  刘晓彦  张兴  韩汝琦 《物理学报》2006,55(3):1419-1423
研究了HfN/HfO2高K栅结构p型金属-氧化物-半导体(MOS)晶体管(MOSFET)中,负 偏置-温度应力引起的阈值电压不稳定性(NBTI)特征.HfN/HfO2高K栅结构的等效 氧化层厚度(EOT)为1.3nm,内含原生缺陷密度较低.研究表明,由于所制备的HfN/HfO2 高K栅结构具有低的原生缺陷密度,因此在p-MOSFET器件中观察到的NBTI属HfN/HfO2高K栅结构的本征特征,而非工艺缺陷引起的;进一步研究表明,该HfN/HfO2高K栅结构中观察到的NBTI与传统的SiO2基栅介质p-MOSFET器件中观察 到的NBTI具有类似的特征,可以被所谓的反应-扩散(R-D)模型表征: HfN/HfO2 栅结构p-MOSFET器件的NBTI效应的起源可以归为衬底注入空穴诱导的界面反应机理,即在负 偏置和温度应力作用下,从Si衬底注入的空穴诱导了Si衬底界面Si-H键断裂这一化学反应的 发生,并由此产生了Si陷阱在Si衬底界面的积累和H原子在介质层内部的扩散 ,这种Si陷阱的界面积累和H原子的扩散导致了器件NBTI效应的发生. 关键词: 高K栅介质 负偏置-温度不稳定性(NBTI) 反应-扩散(R-D)模型  相似文献   
80.
The influence of interdiffusion on eigenstates in an interdiffusion-induced GaAs/AlxGa1-xAs single-quantum-well structure is analysed numerically by the finite element method. In this approach, the confinement potential profile of the interdiffused quantum well structure is nonlinear and is modelled by an error function and, in particular, the nature of the effective mass of an electron is considered. The results show that the number of eigenstates and energy levels varies with the extent of the interdiffusion. Numerical results for the quasi-bound states in the quantum well structure with an applied electric field are also presented.  相似文献   
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