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115.
Pure zinc blende GaAs nanowires were grown by metal organic chemical vapor deposition on GaAs(111)B substrates via Au catalyzed vapor-liquid-solid mechanism. The diameter, size distribution, and density of Au particles can be changed by varying the Au film thickness. We find that the grown nanowires are of rod-like shapes and pure zinc blende structure; moreover, the growth rate depends on the density of Au particles and it is independent of its diameters. It can be concluded that the nanowire was grown with main contributions from the direct impingement of vapor species onto the Au-Ga droplets and contributions from adatom diffusion can be negligible. The results indicate that the droplet acts as a catalyst rather than an adatom collector. 相似文献
116.
为了验证理论分析得到的圆锥形喷管在单脉冲条件下的激光推进能量相似律,用2维轴对称辐射流体动力学方法,计算得到了不同构形的推进性能参数,分析了锥角、长度、无量纲因子、入射激光能量对冲量、冲量耦合系数的影响。计算揭示的激光推进能量相似律合理,在理论模型可以描述的范围内,其定性规律与理论分析、实验结果之间相互印证。结果表明:当锥角固定时,冲量和冲量耦合系数随无量纲因子先增大后减小,极大值对应的无量纲因子仅与气体比热比相关;当无量纲因子固定时,冲量随入射激光能量增加而增大,冲量耦合系数受激光能量的影响很小,冲量和冲量耦合系数均随锥角增大而单调减小。 相似文献
117.
利用金辅助金属有机化学气相沉淀法(MOCVD)在GaAs(111)B衬底上分别制备了InAs/GaAs和InAs/In x Ga1-xAs/GaAs(0≤x≤1)纳米线异质结构.实验结果显示,直接生长在GaAs纳米线上的InAs纳米线生长方向杂乱或者沿着GaAs纳米线侧壁向衬底方向生长,生长的含有In x Ga1-xAs组分渐变缓冲段的InAs/In x Ga1-x关键词:
纳米线异质结构
xGa1-xAs')" href="#">InxGa1-xAs
组分渐变缓冲层
金属有机化学气相沉淀法 相似文献
118.
黄辉 《高校应用数学学报(A辑)》2007,22(1):74-80
考虑了伪凸集值映射的误差界.证明了对于伪凸集值映射,局部误差界成立意味着整体误差界成立.通过相依导数,给出了伪凸集值映射存在误差界的一些等价叙述. 相似文献
119.
多孔硅/硝酸钆复合材料制备与表征 总被引:1,自引:0,他引:1
多孔硅/硝酸钆复合材料因具有爆炸能量高和环境危害小等特点而受到世界各国广泛关注.采用电化学阳极氧化法制备新鲜多孔硅并滴加硝酸钆形成复合材料,表征其化学组成与结构.结果表明,当电解液HF与EtOH体积比为1∶1、电流密度为50mA·cm-2、阳极氧化时间为30min时,形成的多孔硅孔隙率较大,适宜与硝酸钆形成复合材料;与新鲜多孔硅相比,滴加硝酸钆乙醇溶液的多孔硅在1675、1534、1382和1217cm-1出现了4个新的吸收峰,结合N1s和Si2p结合能有明显化学位移的现象,表明硝酸钆乙醇溶液与多孔硅之间存在相互作用,结构中有-NH2形成,表面Si-Hx键被氧化为si-O键;当电火花触发时,观察到多孔硅/硝酸钆复合材料爆炸现象. 相似文献
120.
芳族硝基化合物电还原中Cu-Ni合金的电极活性 总被引:5,自引:0,他引:5
本文采用共沉积法制备了以铜为基体的不同Cu/Ni比的Cu-Ni合金镀层,并用稳态极化法研究了这些镀层在使用硝基苯(NB)和1,5-二硝基蒽醌(1.5-DNA)制备对氨基苯酚(PAP)及1,5-二氨基-4,8-二羟基蒽醌(1,5-DA-4,8-DHA)等电化学还原过程中的阴极活性.研究表明,在PAP和1,5-DA-4,8-DHA电合成体系中,不同Cu/Ni比的合金阴极具有不同的交换电流密度(io)和表观活化能(EA),其中以0.05mol/LCuSO4·5H2O+0.6mol/LNiSO4·6H2O+0.25mol/LNa3Cit·2H2O组成的镀液,并在控制电流密度为0.6A·dm-2、pH值为6、体系温度为50℃等工艺条件下镀制的Cu-Ni合金试片(CN-30),具有最大的io和最小的EA值,与常规所用的Cu、Cu/Hg、蒙乃尔合金等阴极相比,CN-30试片的电极性能最佳 相似文献