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91.
碳化硅(SiC)雪崩光电二极管(APD)是一种独具优势的微弱紫外光探测器,其过偏压承受能力是确保器件可靠工作的一个重要因素。本工作设计并制备了穿通型SiC吸收层-电荷控制层-雪崩倍增层分离(SACM)APD。基于这种结构,器件电场从雪崩倍增层向吸收层扩展,从而减小了雪崩倍增层内电场强度变化率,最终将器件过偏压承受能力提高到10 V;得益于吸收层的分压,雪崩倍增层的电场强度得到有效降低,载流子隧穿可能性减小,这能够有效降低器件暗计数,从而有利于提高器件探测灵敏度;此外,设计的SiC SACM APD倾斜台面仅刻蚀到雪崩倍增层上表面,这能够让器件填充因子提高至约60%,显著改善了深刻蚀导致的传统SACM结构有效光敏区域减小的问题。 相似文献
92.
We investigate the possibility of probing R-parity violating interactions in forward-backward asymmetries, and conclude that the Tevatron collider is the best place to measure new interactions involving the first generation of quarks. With additional down type squark ~dk contributions, the charge asymmetry in e+e— events around Z-pole mass region at the Tevatron will be sensitive to R-parity violating couplings λ’11k, which was inaccessible to the LEP Qfb had inclusive measurement. Assuming no apparent deviation from SM prediction is observed, λ’11k〈 0.19 at 95% C.L. with squark mass Mdk=100 GeV can be derived. 相似文献
93.
珠脑速算教育是启迪智力,进行素质教育,功在当代,利在千秋的“重要工程”。它具有早期开发儿童智力,增强儿童感知力、想象力、记忆力等功能,那么这项科研项目,它的发展前景如何?成为从事这项科研的工作者 相似文献
94.
95.
本文综述了用于193 nm深紫外光刻胶的主体成膜树脂的种类及常用合成单体的研究进展,包括聚(甲基)丙烯酸酯体系、环烯烃-马来酸酐共聚物(COMA)体系、乙烯醚-马来酸酐共聚物(VEMA)体系、降冰片烯加成聚合物体系、环化聚合物体系、有机-无机杂化树脂体系以及光致产酸剂(PAG)接枝聚合物主链型等,并分析了目前关于曝光、分辨率和抗蚀刻性能方面存在的问题及未来的发展方向。 相似文献
96.
本文用红外光谱分析了聚氯乙烯(PVC)和氯化聚氯乙烯(CPVC)的分子结构,用电导法评价了它们的热稳定性. 试料 PVC系天津化工厂生产,XS-7型;CPVC系前者的氯化产品,由安徽化工研究所提供,含氯量64%,日本产CPVC,牌号H827,含氯量68.5%. 相似文献
97.
用密度泛函理论(DFT)的B3LYP方法, 在6-311G*水平上对AlmN2- (m =1~8)团簇的几何构型、电子结构、振动频率、电荷分布与成键方式进行了理论研究. 结果表明, AlmN2- 团簇的基态结构有两种基本构型, 一种是以N—N键为核心, 周围与Al原子配位形成的; 另一种是由两个AlnN(n<m)分子碎片通过共用Al原子或Al—Al键相互结合形成的. 对AlnN分子碎片相互结合形成的基态结构亲和能讨论得到, m为奇数的AlmN2-团簇比m为偶数的稳定. 相似文献
98.
本文概述了双扩散对流效应及其对晶体生长的影响.双扩散对流是能在静力稳定的流体系统中发生的一种特殊的对流效应.某些晶体生长过程中具备发生双扩散对流的条件,忽视双扩散对流效应的晶体生长理论会引起与实际过程的明显偏离.文中还评述了现有双扩散对流与结晶过程耦合的计算结果及有待进一步研究的问题. 相似文献
99.
100.
二维有机半导体晶体是利用分子间的范德瓦耳斯力进行自组装生长的单晶材料。本质上的单晶属性使其具备优异的电学特性。更重要的是,二维极限下增强的界面特性能够大幅调控器件行为,为构建多功能界面器件提供可能。此外,充分暴露的电荷输运沟道和极少的晶面内缺陷能够为研究本征的有机电子输运特性创造可能。目前,对于二维有机半导体晶体的生长工艺研究已经取得了较大的进展,但是从理论层面上研究二维晶体生长的自组装过程仍然十分匮乏。本工作利用添加剂辅助结晶技术成功制备出二维有机半导体晶体,并通过偏光显微镜和原子力显微镜对二维晶体进行了全面的表面形貌和结构表征。通过SEM结合EDS技术对关键的形核界面进行了结构和组成的表征以研究晶体生长的机制。研究结果表明:在添加剂界面上,生长材料能够稳定形核,并计算出添加剂构建的有利界面能够将形核势垒降低为SiO2界面上的1/5。这项工作充分展现了生长界面对于晶体生长的关键作用,并从理论上揭示了界面的调控行为,为二维有机半导体晶体的生长工艺设计提供了可靠的思路。 相似文献