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991.
992.
本文研究了在两束高斯光束照明条件下,由旋转散射体产生的双散射光合成的远场动态散斑的统计性质.这种动态散斑的统计性质由它的强度涨落的空-时相关函数描述.文中推导了这个函数的解析表达式,并采用了光子计算及光子相关技术,从实验上证实了这个表达式的正确性. 相似文献
993.
软X射线多层膜色散元件 总被引:1,自引:0,他引:1
介绍研制软X射线多层膜色散元件的初步结果,结合M0/S1、S/S1色散元件的研制实例,讨论了包括设计、性能模拟计算、镀膜工艺、检测等在内的制备过程,这些元件将在X射线光学和X射线光谱学的有关研究工作中得到应用。 相似文献
994.
采用束箔技术研究47MeV能量的氖离子和不同材料、不同厚度的C箔(39μg/cm2)和Al箔(3.4mg/cm2)相互作用,产生高离化态的类H(Ne X)、类He(Ne Ⅸ)、类Li(Ne Ⅷ)、类Be(Ne Ⅶ)等少电子离子,并测量了这些离子的激发光谱和能级寿命. 相似文献
996.
镜面起伏对1.55μm Si基MEMS光滤波器的影响 总被引:6,自引:0,他引:6
用传输矩阵方法,在简化的光学模型基础上,分别讨论了分布式Bragg反射镜DBR(Distributed Bragg Reflector)的生长精度及镜面起伏对1.55 μm Si基MEMS(Micro-Electro-Mechanical-System)可调谐光滤波器透射谱的影响.计算表明:DBR生长误差仅使主透射峰位置发生变化,而镜面起伏是导致主透射峰性能劣化的主要原因,它使得FWHM增大,透射峰强度下降.理论计算结果能较好地解释实验现像.在此基础上,进一步讨论了引起镜面起伏的多种原因,并提出了可能的解决方法. 相似文献
997.
998.
采用求解传导方程数值解的方法,计算封闭式异步电动机的动态温升,所得的准确程度与稳定态温升计算法的准确程度相同。 相似文献
999.
利用射频磁控溅射方法制备了低介电常数材料多孔非晶SiOx薄膜,溅射压强从1Pa—3Pa变化,傅立叶变换红外吸收光谱测行x的范围为1≤x≤1.6.同步辐射X射线反射(XRR)测量结果显示了随着溅射压强的增大,薄膜的孔隙率(体积比)从6%上升到24%,同时估计了薄膜的厚度.慢正电子湮没多普勒展宽测量探测了薄膜中的缺陷分布信息,结果显示随着溅射压强的增加,薄膜中的E'中心缺陷增加,其抑制了电子偶素的生成,从而使S参数呈下降趋势,利用VEPFIT程序对正电子湮没结果进行了拟合,得到的膜厚与XRR结果较为接近. 相似文献
1000.