关于集值条件期望和本性上确界

本文首先讨论集值随机变量族本性上确界和集值条件期望运算的交换性;其次给出集值条件期望族本性上确界的轶性质.     

一种自适应的自动聚焦算法

自动聚焦是图像测量和计算机视觉中的重要技术。研究发现,以前的一些自动聚焦算法,在没有噪声的影响下,效果较好,但一旦有噪声的影响,算法可能会失效,因此,提出了一种自适应的自动聚焦方法。首先通过一个基于局部小窗口的自适应门限将边缘像素和非边缘像素区别开来,然后再加上一个全局门限来进一步滤除噪声的影响,最后用一些自动聚焦算法来计算经过自适应处理后的图像,画出它们的聚焦曲线。经过大量的实验,结果表明,该算法不仅具有单峰性强,无偏性好,灵敏度高等特点,而且还具有很好的抗噪声性能。     

图象的自反与渐近自反

本文对B（X,Y）的自反子空间及渐近自反子空间上的映射（或映射组）,分别给出了一些判别它们的图象（或联合图象）仍为自反及渐近自反的方法。     

新型草酰胺桥联Cu(Ⅱ),Ni(Ⅱ)均双核配合物的合成及表征

合成了一种新配体N ,N′ 二 (2 氨乙基 ) 草酰胺双缩邻氨基苯甲醛Schiff碱 (H4L)及其Cu(Ⅱ )、Ni(Ⅱ )均双核配合物。并用元素分析、红外光谱、电子光谱、室温磁化率等对其组成和结构进行表征。室温磁矩表明配合物中两金属离子间通过草酰胺桥存在着反铁磁性自旋偶合作用。     

两种不对称草酰胺桥联双核铜(Ⅱ)配合物的合成及电化学性质

合成了两种新型草酰胺桥联双核铜配合物 ,并以元素分析、红外光谱、电子光谱、摩尔电导、热重分析和室温磁矩对所合成铜配合物进行表征 ,推定新合成的双核铜配合物具有草酰胺桥联结构 .采用循环伏安法测定了双核配合物的氧化还原电位 ,表明两种配合物均显示一个单电子还原过程 .     

薛定鄂方程临界边值问题的惟一性定理

研究了Ｌｉｐｓｃｈｉｔｚ区域Ｄ上的薛定鄂方程,－△ｕ＋Ｖｕ＋ｉλｕ＝０的临界边值问题,证明了只要奇异位势Ｖ∈Ｂｎ／２,基ｕ的梯度的非切向极大函数可积,则Ｌ＾１－边值Ｎｅｕｍａｎｎ问题的解惟一。     

导电高分子PEDOT/PSS稳定的Pt3Co纳米粒子的制备及电、磁性

利用一步共还原法在导电高分子聚二氧乙基噻吩/聚对苯乙烯磺酸(PEDOT/PSS)水溶液中合成了磁性纳米复合物Pt₃Co-PEDOT/PSS. 利用透射电镜(TEM)、X射线衍射(XRD)、拉曼光谱、超导量子干涉仪(SQUID)对其进行了表征.结果表明Pt₃Co纳米粒子为面心立方结构(fcc), 粒子平均粒径为9.6 nm, 标准偏差为2.4 nm. 用旋转涂膜法制备的Pt₃Co-PEDOT/PSS薄膜导电率(?)在1.6～4.0 S/cm之间. 当温度在阻塞温度(T_B, 110.5 K)以上时, 纳米复合物Pt₃Co-PEDOT/PSS显示出超顺磁性, 低于T_B时呈铁磁性, 在5 K时其剩磁(M_r)和矫玩力(H_c)分别为4.1 emu/g和701 Oe(奥斯特).     

聚合物固载芳亚胺环金属化合物的合成及其催化性能

聚合物固载的催化剂用于有机合成时,既具有相转移催化反应的特点:反应条件温和,操作简便,选择性高;又具有高分子试剂的优越性:在有机溶剂中的高催化活性,可回收并循环利用,反应产物易于纯化,可减少对环境的污染,因此具有广阔的应用前景.芳亚胺环金属化合物作为均相催化剂对Heck反应具有很高的催化活性,不足之处是难以回收和循环使用.本工作将不同芳亚胺环金属化合物固载到聚合物链上,制备了二个系列高分子固载金属催化剂,研究了它们对Heck反应的催化性能.     

含多个氧化还原中心的卟啉化合物的电化学及光谱电化学行为(Ⅰ)

在DMF及DMSO中用循环伏安法、现场紫外可见光谱电化学方法及现场FT-IR光谱电化学方法研究了含多个氧化还原中心的卟啉化合物[四(对-硝基苯基)卟啉合钴(Ⅱ)]的氧化还原性质。指出该化合物的第一步氧化或第一步还原为中心金属钴失去或得到1个电子;第二步还原为卟啉环meso位的4个对硝基苯基上的硝基在同一电位下各得1个电子,形成相应的阴离子自由基;第三步还原为卟啉环得到1个电子,但该步反应不可逆。同时发现硝基与卟啉环及中心金属钴之间存在分子内电子相互作用,而4个硝基取代基之间未发现分子内电子相互作用。     

Oxone/CaCl2/TEMPO体系在温和条件下对醇的氧化反应

Oxone/TEMPO/CaCl₂ (TEMPO＝2,2,6,6-Tetramethyl-1-piperidinyloxy)是一种稳定安全和易得的氧化催化体系, 在室温条件下, 可以氧化苄基或烷基醇生成醛或酮. 苄基伯醇很容易被氧化成相应的醛, 有较高的反应收率(90%～96%), 仲醇氧化成相应的酮, 收率在81%～85%之间, 1,4-丁二醇环氧化生成γ-丁内酯得到了94%的收率.