具有禁带展宽特性的一维光子晶体

提出了介质的光学厚度系数成圆形分布的一维光子晶体结构,与周期结构的光子晶体相比,该结构具有禁带展宽特性.同时讨论了起止膜层及膜层的光学厚度对该结构禁带特性的影响,优化出了在所选材料的介电常数所允许的频率范围内,具有完全禁带特征的光子晶体结构.     

多种X光激光靶的研究

Ｘ光激光靶是Ｘ光激光实验重要组成部分。针对不同Ｘ光激光打靶方案，开展多种Ｘ光激光靶的制备和参数测量。     

单能电子在聚酯薄膜(PET)中射程的测量

聚酯薄膜(PET)作为由C，H，O三种元素组成的有机物，与生物组织的组成较为相似，测量单能电子在PET中的射程在放射性防护方面有一定的价值，本文在RES系列相对论效应实验谱仪平台上测量了单能电子在PET中的射程，给出了相应的实验方法和数据处理方法，实现了在普通实验室进行单能电子射程的测量。     

改进BaF2闪烁体光输出特征研究

介绍旨在抑制BaF₂闪烁体慢发光成分，拓展其应用领域的紫外滤光膜系设计和 性能测量结果，研究表明，以Al₂O₃/MgF₂/Al/MgF₂为 基本结构优化设计的紫外滤光膜系对来自BaF₂闪烁体不同角度入射的快/慢成分光分别具有高透射和强截止特性.还提供 了用纳秒级脉冲辐射源激发“BaF₂+紫外滤光膜系+光电闪烁探测器”系统获得的BaF₂闪烁体时间响应曲线，并对紫外滤光膜系中子辐照损伤特性进行了研究. 关键词： 2闪烁体')" href="#">BaF₂闪烁体 紫外线 滤光片 时间响应     

软X射线Mo/Si多层膜反射率拟合分析

由于多层膜的表界面粗糙度和材料之间的相互扩散等因素，导致多层膜的实际反射率小于理论计算的反射率，因此，多层膜结构参量的确定对镀膜工艺参量的标定具有重要意义。由于描述单个非理想粗糙界面散射的Stearns法适用于软X射线短波段区域，采用它的数学模型来描述软X射线多层膜的粗糙度，利用最小二乘法曲线拟合法对同步辐射测得的Mo／Si多层膜的反射率曲线进行拟合，得到了非常好的拟合结果，从而确定了多层膜结构参量，同时分析了多层膜周期厚度，厚度比率，界面宽度以及仪器光谱分辨率对多层膜反射特性的影响，这些工作都为镀膜工艺改进提供了一定的理论依据。     

13.9 nm马赫贞德干涉仪用软X射线分束镜研究

 介绍了13.9 nm马赫贞德干涉仪用软X射线分束镜的设计、制备与性能检测。基于分束镜反射率和透过率乘积最大的评价标准，设计了13.9 nm软X射线激光干涉实验用多层膜分束镜。采用磁控溅射方法在有效面积为10 mm×10 mm、厚度为100 nm的Si3N4基底上镀制了Mo/Si多层膜，制成了多层膜分束镜。利用X射线掠入射衍射的方法测量了Mo/Si多层膜的周期。用扩束He-Ne激光束进行的投影成像方法定性分析了分束镜的面形精度，利用光学轮廓仪完成了分束镜面形精确测量。利用北京同步辐射装置测量了分束镜反射率和透射率，在13.9 nm处，分束镜反射率和透过率乘积达4%。使用多层膜分束镜构建了软X射线马赫贞德干涉仪，并应用于13.9 nm软X射线激光干涉实验中，获得了清晰的含有C8H8等离子体电子密度信息的动态干涉条纹。     

改进BaF2闪烁体光输出特征研究

介绍旨在抑制BaF2闪烁体慢发光成分,拓展其应用领域的紫外滤光膜系设计和性能测量结果,研究表明,以Al2O3/MgF2/Al/MgF2为基本结构优化设计的紫外滤光膜系对来自BaF2闪烁体不同角度入射的快/慢成分光分别具有高透射和强截止特性.还提供了用纳秒级脉冲辐射源激发"BaF2+紫外滤光膜系+光电闪烁探测器"系统获得的BaF2闪烁体时间响应曲线,并对紫外滤光膜系中子辐照损伤特性进行了研究.     

Determination of Tungsten Layer Profiles in Bilayer Structures Using X-Ray Reflectivity Method

An effectual method is presented to determine the profiles of a tungsten （W） layer, such as the density, the thickness and the roughness in the multilayer structures, using the x-ray reflectivity technique. To avoid oxidation effects of tungsten, a B4 C capping layer is deposited onto to the W layer. To observe the profiles of the tungsten layer with different thicknesses, three groups of W/B4 C bilayers with different thicknesses are prepared by using ultra high vacuum dc magnetron sputtering and measured by an x-ray diffractometer. A type of genetic algorithm called the differential evolution is used to simulate the measurement data so as to obtain the parameters of bilayers. According to the simulation, it is shown that the W layer density varies from 95.26% to 97.51% compared to the bulk. In our experiment, the deposition rate is 0.044 nm/s, and the thickness is varied in the range of 9.8-19.4 nm.     

在动量为68±6亿电子伏/c的π~-介子与质子相互作用下(?)~0(∑~0)及K~0的产生

在这一工作中研究了动量为68±6亿电子伏/c的π介子与质子相互碰撞时产生∧~0(∑~0)超子及K~0介子的过程。得到了关于∧~0(∑~0)与K~0产生的截面,Y~0K与K~0K对的产生截面之比,荷电粒子的多重率,在产生时质量中心系统中∧~0与K~0的角布及动量谱与∧~0及K~0的横向动量分布的结果。     

可实现真空和气氛退火的高精度温控退火炉的研制

从退火炉的整体构造，管端配件的设计、控温电路和温度程序控制调节器的使用三个方面，介绍了由同济大学玻耳固体物理研究所自行研制的小型高精度温控退火炉装置，并针对典型的晶体退火过程，详细分析了温控系统中PID参数的选取和控温程序的调度工作，通过不同气氛条件下对钨酸铅（PbWO4)的退火处理实验证实，这套装置能够满足晶体生长后期退火处理的实际需要。