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11.
针对玻璃缺陷在线无损检测的迫切需求,本文报道了一种基于线照明并行谱域光学相干层析成像系统的大视场检测系统.该系统采用快速面阵CMOS相机,单次拍摄即可获取完整的横截面(B-scan)图像.基于线照明面阵探测器的并行谱域光学相干层析成像系统,可以同时获取沿线照明方向各位置处的深度分辨信息,避免了横向扫描机构的应用.研制系统的轴向分辨率为17.9μm,并行方向上的横向分辨率55.7μm,扫描方向上的横向分辨率为24.8μm,轴向扫描速率为128 000 A-scan/s,横向视场为32 mm,空气中成像深度大于6 mm,成像灵敏度达到62 dB以上.利用研制的线照明并行谱域光学相干层析成像系统,开展了不同类型玻璃表面及其内部缺陷的检测应用研究. 相似文献
12.
ECR离子源的等离子体阻抗对其微波传输与阻抗匹配设计至关重要。在中国科学院近代物理研究所现有的2.45 GHz ECR 质子源上,对等离子体阻抗进行了测量。首先用水吸收负载代替等离子体负载测量得到了所用微波窗阻抗,然后根据质子源测量数据,推算得到了等离子体阻抗。实验结果表明,脊波导输出端阻抗与后续负载不完全匹配,等离子体阻抗随微波功率变化呈非线性。这些结果为ECR离子源过渡匹配和微波窗的设计提供了参考依据。Plasma impedance of an ECR ion source is important for microwave transmission and impedance matching design. Plasma impedance was measured indirectly with the 2.45 GHz ECR proton source at the Institute of Modern Physics, Chinese Academy of Sciences. In the test, we got microwave window mpedance by using water absorption load instead of plasma load, and the source plasma impedance was derived from the test data with the 2.45 GHz ECR proton source and microwave window impedance. The experimental results show that ridge waveguide output impedance and the subsequent load does not exactly match, plasma impedance variation is nonlinear with microwave power. The achievedresult is useful in the design of ridged waveguide and microwave window. 相似文献
13.
为了提高强流ECR 离子源的引出束流品质,分别设计了1# 和2# 引出系统,利用束流引出模拟软件PBGUNS 对1# 和2# 引出系统进行了质子束流引出与传输的模拟计算,结合实际测得的发射度数据分析引出系统,发现2# 引出系统比1# 引出系统引出束流品质高。对ECR 离子源引出系统的电势等位线分布等参数引起的球差进行了简单数学推导及MATLAB 绘图,并结合1# 和2# 引出系统束流相图模拟结果证明了球差会使引出束流品质有效发射度增长,通过适当加大电极孔径可改善束流聚焦情况,得到了束流光学聚焦较好的束流引出系统设计。To improve the quality of extracted ion beam from a high current ECR ion source, 1# and 2# extraction systems were designed and tested. The PBGUNS code was used to simulate the 1# and 2# extraction systems of proton ion beam. The emittance measurement results with the two different extraction systems were compared and analyzed with the simulation, the conclusion that more high quality beam extracted from 2# system than 1# system was got. The formula derivation of ECR ion source extraction system spherical aberration and MATLAB drawing was done by the analyzing on the distribution of extraction field equipotentials, effective emittance increasing caused by spherical berration was proved by 1# and 2# extraction systems beam phase space simulation result, beam focusing would be improved if electrode hole size increasing appropriately and a general concept on good optics focusing of ion beam extraction system was proposed finally. 相似文献
14.
15.
16.
Two new organic crystals of 2,8-bisthienyldibenzothiophene(BTDT) and 2,8-bis-dithienyldibenzothiophene(BDTDT) compounds were successfully obtained.The change of end-capped group from thiophene to dithiophene causes big differences in molecular packing and carrier-transport property.The adjacent molecules of compound BTDT adopt face-to-face π stacking and exhibit two-dimensional interchain interactions.On the contrary,BDTDT molecules are arranged in an edge-to-face motif and show mainly one-dimensional interacting character.The packing mode exerts dramatic effect on the carrier-transport property.The crystal of BTDT belongs to the orthorhombic system,space group P21212 with a = 20.1427(11),b = 4.6016(3),c = 8.6340(5) ,V = 800.27(8) 3,Z = 2,Dc = 1.446 g/cm3,F(000) = 360,S = 1.019,the final R = 0.0491 and wR = 0.0960 for 1605 reflections with I > 2σ(I).The crystal of BDTDT belongs to the orthorhombic system,space group P212121 with a = 7.2636(15),b = 25.359(5),c = 25.359 ?,V = 4670.9(14) ?3,Z = 8,Dc = 1.458 g/cm3,F(000) = 2112,S = 0.880,the final R = 0.0597 and wR = 0.1318 for 8047 reflections with I > 2σ(I). 相似文献
17.
用差示扫描量热、元素分析、红外光谱、氢核磁共振等方法对自制双(4-羧苯基)苯基氧化膦(BCPPO)进行定性分析.其结构和纯度经确认后,紫外光谱扫描发现:BCPPO的吡啶溶液在302 nm波长处有稳定吸收,在6.0×10-5~3.6×10-3mol·L-1之间,吸光度与浓度呈线性关系.应用紫外-分光光度法对BCPPO进行定量分析时,相对标准偏差(n=5)在0.14%~0.25%之间,可有效避免反应副产物苯甲酸对测定的影响. 相似文献
18.
19.
对于高光表面及小圆角结构工件,传统的光学测量方法以及设备难以满足工程要求,基于蓝光扫描仪,提出一种球心偏置测量方法。在待测工件表面附着经220目砂粒喷砂处理的钢球,利用蓝光扫描仪对钢球进行快速扫描并拟合出扫描点云的球心点,沿待测工件表面法矢方向偏置钢球半径可得到工件表面实测点。利用该方法对标准圆棒进行测量,拟合直径差值为0.000 2 mm,测量精度在0.03 mm以内,验证了该方法原理的可行性。以进排气边圆角R < 0.1 mm的抛光叶片某条截面线为例,测量精度在0.03 mm以内。该方法不受待测工件表面材质影响,对于高反光表面以及具有微小结构特征工件的测量具有重要意义。 相似文献
20.