二极管泵浦克尔透镜锁模Nd:LMA激光器的研究

二极管泵浦克尔透镜锁模Ｎｄ：ＬＭＡ激光器的研究杨鸿儒，阎兴隆，常增虎（中国科学院西安光学精密机械研究所西安７１００６８）我们采用激光二极管端面泵浦（５×１０ｍｍ，掺杂原子百分浓度（ａｔ）为１０％）Ｎｄ∶ＬＭＡ激光晶体，成功地在１０５４ｎｍ波长处实现了...     

蓝宝石基片上制备双面Tl_2Ba_2CaCu_2O_8超导薄膜

在蓝宝石基片上,以CeO2为缓冲层制备了高质量的双面Tl2Ba2CaCu2O8(Tl-2212)超导薄膜。以金属铈靶作为溅射源生长了c轴取向的CeO2缓冲薄膜,并对CeO2薄膜进行了高温处理,有效改善了其结晶质量和表面形貌。采用两步法制备了双面的Tl-2212超导薄膜。XRD测试显示,薄膜为纯的Tl-2212相,且其晶格c轴垂直于衬底表面。超导薄膜的Tc为106K,Jc(77K,0T)为3.5MA/cm2,微波表面电阻Rs(77K,10GHz)为390μΩ。     

二极管泵浦Nd：LMA激光器1054mm连续波输出

报道了用一个３Ｗ激光二极管端面泵浦Ｎｄ：ＹＭＡ激光器。实验采用三镜折叠象散补偿腔。在１０５４ｍｍ波长，激光器ＣＷ输出功率达２３０ｍＷ，斜率效率为３８％，光－光转换效率９．５％，     

液晶光阀的像素结构在光学4f系统成像中作用的讨论

在阿贝-波特实验中,用液晶光阀显示的图像作为光学4f系统的输入,发现在频谱面上有多重衍射光点,这说明液晶光阀的光栅结构参与成像.但在频谱面上不加滤波器的情况下,在输出面上光栅结构却消失了.该现象可利用液晶光阀的像素尺寸与人眼的可分辨本领来解释.     

倾斜生长Tl2Ba2CaCu2O8超导薄膜的Ⅰ-Ⅴ曲线及快速反应特性

在10mm长、3mm宽的斜切LaAlO3衬底上制备出不同厚度的Tl2Ba2CaCu2O8(Tl-2212)超导薄膜.对薄膜的Ⅰ-Ⅴ特性进行测量,其临界电流密度小于正常生长的Tl-2212超导薄膜.对薄膜通过脉冲方波进行快速反应特性的测量,结果表明倾斜生长的Tl-2212超导薄膜在一个电压脉冲的作用下,产生宽度仅为μs量级的大电流脉冲,然后变为正常态.这和正常生长的超导薄膜不同,前者没有经过发热和升温的过程.利用这一特性可以制作高速高温超导开关和快速反应限流器等.     

2英寸双面Tl-2212超导薄膜

我们采用磁控离子溅射和后热处理的方法,在LaAlO3(001)单晶衬底上制作了2英寸直径的双面Tl-2212超导薄膜.薄膜的表面均匀,结构致密.X-光θ-2θ测试表明,薄膜具有很纯的Tl-2212超导相,并具有c-轴垂直于膜面的织构.电磁测试结果表明,薄膜的超导电性均匀,临界温度Tc大于100K,临界电流密度Jc(77K,0T)约1×106A/cm2, 微波表面电阻Rs(77K,10GHz)约0.5mΩ.     

厚度小于100nm的Tl2Ba2CaCu2Ox高温超导薄膜

采用直流磁控溅射和在纯氩气中后热处理的方法,在LaAlO3(001)衬底上生长出厚度小于100nm的Tl2Ba2CaCu2Ox(Tl-2212)超导薄膜.在77K和零磁场下,100nm厚的薄膜具有105.3K的超导转变温度和2.33×106A/cm2的临界电流密度.这些值与较厚的Tl-2212薄膜的最好值相符.30nm厚的薄膜仍具有大于100K的转变温度,并具有光滑致密的表面形貌和外延生长的晶体结构.20nm厚的薄膜仍显示出正常态的金属行为和充分的超导转变.当厚度小于20nm时,薄膜的表面形貌和超导电性明显变坏,6nm厚的薄膜在15K低温下,未发现超导转变.从这个意义上看,20nm为我们所研究的Tl-2212薄膜的临界厚度.     

不同气氛退火对Tl2Ba2CaCu2Ox超导电性的影响

本研究了Ａｒ气和Ｈ２／Ａｒ混合气体退火对Ｔｌ２Ｂａ２ＣａＣｕ２Ｏｘ（２２１２）超导体超导电性的影响。实验表明，在Ａｒ气中４００℃退火１至１２小时后Ｔｌ２Ｂａ２ＣａＣｕ２Ｏｘ的Ｔｃ（Ｒ＝０）随退火时间的增长明显降低。Ｘ－光衍射分析证实，在Ａｒ气或Ｈ２／Ａｒ混合气体中退火前后，Ｔｌ２Ｂａ２ＣａＣｕ２Ｏｘ超导体的结构没有发生变化。     

高温超导体的红外光谱研究

本文首次报道高温超导体的各向异性在其红外光谱中的表现行为,并在理论上进行了系统描述.通过对Y系单晶薄膜、Y系空气淬火系列样品及掺Pr的Y系样品的红外光谱研究,对Y系高温超导体的红外声子振动模进行了系统指认,并着重指出,CuO₂面内晶格振动模与超导电性存在密切关系,还讨论了这些振动对高温超导电性的作用.     

Euler方程的二速度三熵级格子Boltzmann模拟

提出了一个新的用于模拟可压缩Ｅｕｌｅｒ方程的格子Ｂｏｌｔｚｍａｎｎ模型，数值试验表明它可以模拟具有激波和接触面的问题。计算结果与经典算法的结果可以比较。