磁控反应溅射法制备渐变折射率薄膜的模型分析

阐述了磁控反应溅射法制备渐变折射率薄膜的机理;探讨了磁控反应溅射法制备渐变折射率薄膜的理论模型,给出了渐变折射率薄膜的折射率与反应气体分压的关系,在一定的沉积参数下,由要得到的膜层折射率随膜层几何厚度的变化规律可推导出反应气体分压比随时间的变化规律;最后以制备折射率线性变化的薄膜为例说明了如何推导得到反应气体分压比随时间的变化规律. 关键词： 渐变折射率 磁控反应溅射 模型     

新一代光谱仪器：Leeman ICP／Echelle

引言自十九世纪中叶火焰光度计面世后,发射光谱便成为一种被普遍采用的分析方法。二十世纪四十年代出现的电弧/火花光电直读光谱仪,提高了分析速度,直至二十世纪七十年代电感耦合等离子体(ICP)激发光源,以其稳定性好、激发温度高,分析浓度范围宽和化学干扰少等优点,开拓了发射光谱分析应用的领域。目前,等离子发射光谱     

Design and preparation of frequency doubling antireflection coating with different thicknesses of interlayer for LiB3O5 crystal

Design and preparation of frequency doubling antireflection coating with different thicknesses of interlayer were investigated for LiB3O5 (LBO) substrate. The design was based on the vector method. The thickness of the inserted SiO2 interlayer could be changed in a wide range for the four-layer design with two zeros at 1064 and 532 nm. The coatings without any interlayer and with 0.1 quarter-wave (λ/4), 0.3λ/4, 0.5λ/4 SiO2 interlayer were deposited respectively on LBO by using electron beam evaporation technique. All the prepared coatings with SiO2 interlayer indicated satisfying optical behavior. This expanded our option for the thickness of an interlayer when coating on LBO substrate. The prepared films with SiO2 interlayer showed better adhesion than that without any interlayer. The thickness of the interlayer affected the adhesion, the adhesion for the coating with 0.5λ/4 SiO2 interlayer was not as good as the other two.     

硅钼蓝光度法测定沸石分子筛中的硅

提出沸石分子筛中硅含量测定的硅钼蓝光度法。方法基于盐酸介质中Si（Ⅳ）与钼酸铵形成硅钼黄杂多酸后，用抗坏血酸还原硅钼黄形成硅钼蓝的原理进行硅的测定。本文实验条件下，体系的λmax位于770nm，表观摩尔吸光系数εmax=1.92×10^4L·mol^-1·cm^-1，硅量在0－0.60μg/mL范围内遵守比耳定律。本文提出的新方法已成功地用于某些沸石分子筛中的硅测定。     

伺服台台面与恒温箱间的隔热方法

本文提出了伺服转台台面恒温箱与台面之间的隔热方法，通过理论计算和实验结果证实，隔热效果显著，能够达到理想的技术指标。     

用X—射线和电子衍射对合成汞系超导体的预烧样品的研究

在６００℃－９００℃的温度范围内，每间隔１００℃用固态反应技术将按２：２：３的比例混合的ＢａＯ，ＣａＯ及ＣｕＯ的混合物进行烧结，将不同温度和不同反应时间下进行反应的产物通过Ｘ－射线衍射和电子衍射分析，我们得到了一种新的相化合物可能具有Ｂａ２Ｃａ２Ｃｕ３Ｏ７的分子式。     

短波长软X射线多层膜高级次峰设计与制备

考虑了短波长软X射线多层膜的设计问题，比较了一、二、三级布喇格衍射峰设计的反射率结果，分析了反射率与周期厚度及金属层在周期中的比率的关系．本文认为，在存在不连续金属膜层的情况下，用布喇格衍射峰的二级次设计，有助于获得实测的反射率．给出了利用磁控溅射方法沉积的Mo/Si多层膜在4.47nm处同步辐射测量，在60°入射角下获得8.5%实测反射率的结果． 关键词：     

钌取代的钨锗和钨硼杂多合物的合成与表征

本文合成了Ｋｅｇｇｉｎ结构的［ＧｅＷ１１Ｏ３９（Ｒｕ·ＯＨ２）］＾５－和［ＢＷ１１Ｏ３９（Ｒｕ·ＯＨ２）］＾６－杂多阴离子的四丁基铵盐。通过紫上－可见、红外光谱、核太共振、顺磁共振和循环伏安法对上述化合物进行了表征。结果表明Ｒｕ（Ⅲ）处于一个八面体弱场中，Ｒｕ（Ⅲ）的顺磁性和核四级矩对＾１８３Ｗ的化学位移和强度有明显的影响，其电化学还原与Ｗ（Ⅳ→Ⅴ）相关。Ｒｕ（Ⅲ）填充了缺位杂多阴离子的空位，但仍     

螺吡喃衍生物在固相基质中的应用

合成了一种新的螺吡喃衍生物, 将其应用到PVC膜固相基质中, 用于Zn²⁺的荧光检测. 优化条件下, 该敏感膜对Zn²⁺的响应范围为4.94×10^−7~4.15×10^−4 mol·L^−1, 检测限为1.51×10^−7 mol·L^−1. 实验发现, 该敏感膜具有很好的光学稳定性、重现性和可逆性, 而且与其他过渡金属离子如Hg²⁺, Cd²⁺, Pb²⁺, Cu²⁺, Fe³⁺或碱金属和碱土金属离子相比, 该敏感膜对Zn²⁺的荧光增强具有高选择性.