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一种高效率光子晶体发光二极管 总被引:6,自引:1,他引:5
利用光子晶体设计了一种高效率的发光二极管结构,以一个面型光子晶体反射与输出光相反方向传播的光,以另一光子晶体反射层构成抛物面反射侧向发射的光并使之间接近于轴线的方向传播,发光区域位于抛物面的焦点平面外。当发光面直径为2F,抛物面焦心到上部与空气交界处的高度为63.83F时,可以保证从发光区域发出的光绝大部分能够透射出去,使得发光二极管的光学效率可以接近100%。我们还以1550nm的主波长发光二极管为例给出了光子晶体的结构参数的设计实例。 相似文献
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光子晶体超窄带滤波器 总被引:35,自引:13,他引:22
本文利用光学传输矩阵法研究了一种类似于谐振腔结构的光子晶体.研究发现在这种光子晶体的光子带隙的中央存在一个极窄的透光窗口,窗口的宽度在红外波段1500nm附近可以做到0.0001nm以下,窗口内的透光率峰值可以接近100%,窗口以外的区域的透光率可以做到0.01%以下.通过改变所研究结构中的周期厚度、中间夹层厚度、两边光子晶体的周期重复数和波的入射角可以改变窄带透过窗口的位置和窄带的宽度.这种光子晶体可以用来制作超窄带滤波器,有望在光通信超密度波分复用技术和光学信息精密测量技术当中获得应用. 相似文献
96.
Effect of pulsed bias on the properties of ZrN/TiZrN films deposited by a cathodic vacuum arc
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ZrN/TiZrN multilayers are deposited by using the cathodic vacuum arc method with different substrate bias(from 0 to 800 V),using Ti and Zr plasma flows in residual N 2 atmosphere,combined with ion bombardment of sample surfaces.The effect of pulsed bias on the structure and properties of films is investigated.Microstructure of the coating is analyzed by X-ray diffraction(XRD),and scanning electron microscopy(SEM).In addition,nanohardness,Young’s modulus,and scratch tests are performed.The experimental results show that the films exhibit a nanoscale multilayer structure consisting of TiZrN and ZrN phases.Solid solutions are formed for component TiZrN films.The dominant preferred orientation of TiZrN films is(111) and(220).At a pulsed bias of 200 V,the nanohardness and the adhesion strength of the ZrN/TiZrN multilayer reach a maximum of 38 GPa,and 78 N,respectively.The ZrN/TiZrN multilayer demonstrates an enhanced nanohardness compared with binary TiN and ZrN films deposited under equivalent conditions. 相似文献
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最近几年,紧凑型、便携式、低廉、可调谐的太赫兹波源由于具有广泛的应用前景因而成为太赫兹领域的研究焦点.波长为600—2000 nm范围的近红外光源由于具有体积紧凑、价格低廉、频率可调谐和工作稳定的特点,所以频繁被选为太赫兹波产生的抽运源.本文着重从双波长可调谐抽运源、内腔光参量振荡器太赫兹发生器两个方面进行了较系统的阐述.分析表明,近红外相对中红外双波长抽运光源由于具有更紧凑的结构而成为研究热点;差频和非线性级联过程由于具有调谐范围宽的特点而成为产生太赫兹辐射的重要手段.
关键词:
太赫兹辐射
近红外波段
调谐宽度
非线性级联过程 相似文献
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利用脉冲高能量密度等离子体法在光学玻璃衬底上、在室温下成功的制备了光滑、致密、均匀的纳米类金刚石膜.工艺研究表明:放电电压和放电距离以及工作气体种类对纳米类金刚石膜的沉积起着关键作用.利用拉曼光谱、扫描电镜以及电子能量损失谱分析薄膜的形态结构表明:薄膜具有典型的类金刚石特征;纳米类金刚石膜的晶粒尺寸小于20nm甚至为非晶态;类金刚石膜中含有一定量的氮原子,随着沉积能量的升高,氮的含量增大.纳米类金刚石膜的薄膜电阻超过109Ω/cm2.对放电溅射过程进行了理论分析,结果与工艺研究的结论吻合. 相似文献