掠入射平面镜反射率在同步辐射源上的标定方法研究

在北京同步辐射源的3W1B束线上,利用平面变间距光栅分光,获得单色性较好,强度较高,能谱连续可调的单色光源.利用该光源,我们实现了掠入射平面镜反射率的精密标定,解决了角度基准,转动精度,大动态范围测量的问题.在2度时,角度的不确定度为2%,反射率的不确定度0.1%,取得了突破性的进展.     

基于多层膜偏振元件的同步辐射光束线偏振特性测量研究

利用自行研制的同步辐射软X射线多层膜综合偏振测量装置, 对北京同步辐射装置(BSRF)的3W1B软X射线光束线的偏振特性进行了系统的研究. 给出了多层膜偏振元件起偏前后的测量结果, 测量能量为206eV时, 经反射镜、光栅等光束线光学元件后输出的线偏振度(起偏前)为0.585, 经多层膜偏振元件起偏后输出光的 线偏振度达到0.995.     

q软X光多层镜反射率在同步辐射源上的标定

软X光多层镜反射率标定实验在北京同步辐射装置上进行,利用BSRF-3W1B 束线及其反射率计靶室(主靶室)标定不同材料的多层镜样品的反射率.多层镜的标定采用波长扫描法,以得到样品反射率随波长变化的曲线.给出了21°-B4C/Si,21°-B4C/Mo,10°-Cr/Ti,15°- B4C/W,10°- B4C/W以及6.86°-B4C/W等6块多层镜在50～1 500 eV能段上的反射率标定曲线,并将其与理论计算结果进行比较.结果表明标定曲线与理论曲线很好地符合.影响标定结果的总不确定度的主要因素是光子能量不确定度,其次是角度不确定度,测量不确定度的影响很小.     

复合样品厚度参数同步辐射测量方法

 薄膜样品在实验研究领域要求样品的厚度测量精度非常高,但由于样品质量小,采用称重的方法,测量精度较差。在北京同步辐射装置的中能（4B7A）和低能（4B7B）束线上（光源能区为0.1～6.0 keV,能量分辨大于1 000）,采用材料对单能光子的透过率来确定样品的质量厚度,通过不同能点的测量值进行不确定度分析,提高测量精度,降低不确定度。利用该方法开展了复合样品厚度的测量方法研究,给出了有CH衬底的薄膜样品的厚度,通过不确定度分析得出,薄膜样品厚度的测量不确定度小于1％。     

A new soft X-ray magnetic circular dichroism facility at the BSRF beamline 4B7B

X-ray magnetic circular dichroism (XMCD) has become an important and powerful tool because it allows the study of material properties in combination with elemental specificity, chemical state specificity, and magnetic specificity. A new soft X-ray magnetic circular dichroism apparatus has been developed at the Beijing Synchrotron Radiation Facility (BSRF). The apparatus combines three experimental conditions: an ultra-high-vacuum environment, moderate magnetic fields and in-situ sample preparation to measure the absorption signal. We designed a C-type dipole electromagnet that provides magnetic fields up to 0.5 T in parallel (or anti-parallel) direction relative to the incoming X-ray beam. The performances of the electromagnet are measured and the results show good agreement with the simulation ones. Following film grown in situ by evaporation methods, XMCD measurements are performed. Combined polarization corrections, the magnetic moments of the Fe and Co films determined by sum rules are consistent with other theoretical predictions and experimental measurements.     

nm量级薄膜厚度测量

 为了获得nm量级薄膜样品的精确厚度,采用软X射线反射率拟合方法、Bragg衍射方程方法和反射率Fourier变换方法分析了常规Cu靶X射线衍射数据及软X射线反射率数据。对厚度测量结果进行比较,3种方法得到的结果一致性很好。其中,软X射线反射率拟合和Bragg衍射方程方法精度很高,优于1 nm,Fourier变换方法精度稍低。对于单层W薄膜样品,3种方法获得厚度分别为(15.21±0.60) nm,(14.0±1.0) nm和(13.8±1.5) nm;对于双层W/C薄膜样品,W层厚度分别为(12.64±0.60) nm,(13.0±1.0) nm和(13.9±1.5) nm。这3种方法测量结果精度主要取决于反射率数据测量精度,而Fourier变换方法精度随着能量升高而提高,随着掠入射角范围增大而提高。