新题征展(116)

A 题组新编 1.(胡寅年)设{an}是首项为1的正项数列,且n+1a2n+1-na2n+an+1an=0. (1)求{an}的通项公式; (2)设bn=(ln(1+an))/(an),证明:①bn≤bn+1;②ln2≤bn相似文献   

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通过构建等离子体数字测控系统,测量了等离子体发生器不同工况下的工作参数,包括工作气体流量、冷却水温升、弧电压与弧电流等。运用能量平衡原理,计算了等离子体发生器出口射流平均焓值、平均温度及其分布。结果表明,在等离子体发生器的出口处,射流温度呈抛物线分布,增加主气气体流量,射流焓值与温度呈下降趋势,而添加氢气为辅助工作气体时,射流焓值与温度将会得到显著提高。     

注意细节,周密慎思

在解数学题时,一定要注意细节、全面考虑、周密慎思,防止解题出错,以下举几例说明,在解题中,稍不注意就会出错.分析说明错误解题方法及出错的原因分析,并给出正确解法,以供大家参考.一、错因之一:没有正确分类.例1已知存在实数a满足ab2>a>ab,则实数b的取值范围为_____.     

用平行线移位求解空间距离与空间角

直线在空间平行移动过程中,它携着点、牵着面自由自在“行走”空间,使线与线、线与面、面与面的平行（重合外）与垂直关系,转换过来又转换过去不断相互转化,其本质都是平行线移来又移去,平行与垂直关系的不变性所决定的,平行线的这一永不变节的几何属性,自然决定了它在立体几何中不可缺失的地位和作用,证离不开它,用它来移位求解空间距离...     

图的第四大无符号拉普拉斯特征值的一个下界

设G是一个阶数大于等于4的简单连通图．代4（G）和d4（G）分别表示G的第四大无符号拉普拉斯特征值和第四大度．本文证明了K4（G）≥d4（G）一2．     

块Toeplitz方程组的快速块Gauss-Seidel迭代算法

本文研究块Toeplitz方程组的块Gauss-Seidel迭代算法。我们首先讨论了块三角Toeplitz矩阵的一些性质,然后给出了求解块三角Toeplitz矩阵逆的快速算法,由此而得到了求解块Toeplitz方程组的快速块Gauss-Seidel迭代算法,最后证明了当系数矩阵为对称正定和H-矩阵时该方法都收敛,数值例子验证了方法的收敛性。     

图带宽和与其对偶超图带宽和的关系

设H=（E1,E2,…,Em）是集合X上的一个超图,一个1-1映射f:X→{1,2,…,|X|}称为H的一个标号,对H的任一标号f,BS（H,f）=∑(E∈H)max{|f(u)-f(v)|;u,v∈E}称为超图H的关于标号f的带宽和BS(H)=min{BS(H,f)|f是超图H的标号|}称为H的带宽和．论文研究图带宽和与其对偶超图的带宽和这两个参数间的关系．     

改性HZSM—5分子筛催化合成巯基乙酸酯的研究

用改性ＨＺＳＭ－５分子筛作催化剂制备了７种巯基乙酸酯：巯基乙酸丙酯、巯基乙酸正丁酯、巯基乙酸正戊酯、巯基乙酸基乙酸正庚酯、巯基乙酸异辛酯、巯基乙酸二乙醇酯及巯基乙酸苯乙醇酯，收率９０％左右，讨论了影响反应的诸因素。     

静/动态刻蚀对熔石英表面质量和激光损伤的影响

为了研究静/动态刻蚀过程中熔石英表面质量和抗激光损伤性能的演变规律,优化化学刻蚀工艺,使用HF酸缓冲液对熔石英分别进行了不同时间的静/动态刻蚀处理。实验表明,由于兆声场辅助搅拌作用,熔石英动态刻蚀的刻蚀速率快于静态刻蚀。动态刻蚀后熔石英表面均方根(RMS)粗糙度和反射面形分别为 < 1 nm和0.46λ,其3倍频透射率先小幅增加后保持稳定,相比初始表面增加约0.1%。而静态刻蚀使得表面RMS粗糙度和反射面形分别增加至~5 nm和0.82λ,其3倍频透射率先基本不变后下降,相比初始表面下降约0.4%。二者损伤阈值呈现明显不同变化规律:静态刻蚀使熔石英损伤阈值先小幅增加约30%后逐渐降低,动态刻蚀使熔石英损伤阈值增加近一倍后保持相对稳定。结果表明,动态刻蚀后熔石英光学元件性能明显优于静态刻蚀。     

微波萃取——植物酶抑制法快速检测蔬菜中有机磷农药残留

应用植物酶抑制法检测蔬菜中的农药残留.用小柱对样品进行预处理,可去除叶绿素和杂质的干扰,提高方法灵敏度.采用微波辅助萃取,能有效地去除蔬菜本身含有的植物酶对显色反应的影响,提高萃取效率和灵敏度.所建立的方法快速、灵敏、可靠.