长余辉碳点材料研究进展

长余辉材料因其特殊的发光效果而广受关注,但现有长余辉体系普遍存在成本高、工艺烦琐等问题,因此构筑廉价高效的新型余辉材料体系成为主流趋势.碳点是近年来发展迅速的荧光纳米碳材料之一,除其荧光特性广受重视之外,以室温磷光(RTP)、热活化延迟荧光(TADF)为主的余辉特性也引起广大科研工作者的关注.综合碳点低成本、低毒且制备...     

氢化硅薄膜介观力学行为及其与微结构内禀关联特性

使用等离子体增强化学气相沉积系统，在射频和直流负偏压的双重激励下制备了本征和掺杂后的氢化硅薄膜.利用拉曼谱对薄膜进行了微结构分析，用纳米压痕系统研究了薄膜的介观力学行为.研究表明：制备于玻璃衬底上的氢化硅薄膜，由于存在非晶态的过渡缓冲层，弹性模量小于相应的制备于单晶硅衬底的薄膜.对于掺杂的氢化硅薄膜，由于磷的掺入使得薄膜晶粒细化、有序度提高，薄膜的晶态比一般在40％以上.而硼的掺入，薄膜晶态比减小，一般低于40％.同时发现，掺磷、本征和掺硼的氢化硅薄膜分别在晶态比为45％，30％和15％左右处，弹性模量较 关键词： 氢化硅薄膜 拉曼谱 弹性模量 晶态比     

柱面镜组的计算机辅助调校

计算机辅助装调技术是通过计算机对理论和实时检测结果的分析计算来有效地指导装调技术。本文通过计算机对由柱面反射镜组成的红外反射扩束系统的各种调整自由度的详细分析 ,以及在检测时对结果的实时分析 ,可确定合理的检测方案 ,有效的减少了调整时间 ,得到了理想的结果     

精密气动液压伺服系统用于傅里叶变换光谱仪光谱测量

讨论了傅里叶变换光谱仪动镜稳定平移的重要性,研制了以高压无氧氮气为动力源的精密气动液压系统用于推进在研傅里叶变换光谱仪“猫眼”动镜系统,并在此基础之上测量了ＺＹＧＯ干涉仪光源光谱图。     

约束面投影成型室基底微观特征对透光性的影响

为了探明约束成型室基底微观孔隙特征对固化光源传播特性的影响规律,从而对光固化成型精度进行分析和预测,采用时域有限差分软件对成型室约束基底引入微孔特征条件下的透光性及在固化区光能量分布特性进行了数值模拟,并通过实验对模拟结果进行了验证.结果表明,约束基底引入微孔的形状、尺寸以及周期等微观几何特征影响基底的透光性及其透过基底在成型区的光强分布;相对于基底微孔形状,其尺寸和周期的影响更显著,减小微孔尺寸和周期有利于透光性以及光强在成型区分布的均匀性;微孔直径小于半波长、微孔边缘间距与微孔直径的比值小于1∶1时可以显著减小微孔的负面影响;微孔直径远大于半波长时,基底上的微孔将在成型零件表面形成不期望的附加特征,从而影响成型精度.研究结果可以为基底制备提供工艺改进的方向和理论依据.     

一种新型铕的有机配合物的光物理特性及机理研究

基于吸收及荧光光谱技术对一种新型铕的有机配合物发光材料在不同状态下的光谱特性进行了表征,并分析了该配合物的光物理特性与机理。发现该配合物的吸收光谱主要是配体邻菲咯啉(phen)的贡献;随着浓度增大自短波到长波区域逐渐出现了饱和吸收现象,光谱向长波方向延伸、展宽,而且这种特征在样品的激发光谱上得到了体现;该配合物在不同状态下的荧光光谱均由Eu3+的4个特征荧光峰组成,且出现617 nm强荧光峰。提出该配合物的荧光光谱主要是在配体乙酰苯胺的微扰或介导作用下,改变了Eu3+能量场的宇称态,导致跃迁概率大大增强,并使配体phen将吸收的能量转移给Eu3+,发出617 nm强荧光峰。表明这种新型铕的有机配合物是一种有效的红光有机发光材料,具有潜在的应用价值。     

基于改进LCCD算法的高分六号WFV数据云检测研究

高分六号WFV是搭载在我国高分六号卫星上的高空间分辨率多光谱传感器,该传感器实现了高分辨率和宽覆盖的结合。精确识别高分六号WFV数据的云像元对于农业资源监测、林业资源调查以及防灾减灾等行业具有重要意义。基于全球土地覆盖产品FROM-GLC10数据,改进地表类型支持的云检测算法(LCCD算法),开展了高分六号WFV数据的云检测工作。以FROM-GLC10作为先验数据,充分考虑不同地表类型反射率的变化,在每种地表类型上分别采用不同的方法设置阈值。通过目视解译的方法对云检测结果进行精度评价,云正确率整体达到了92.46%,其中植被类、水体类、高亮地表类的云正确率分别为93.09%、95.60%和88.70%。结果表明,改进的基于地表类型的云检测算法有效提高了高分六号WFV数据云检测的精度。     

Effect of nitrogen gas flow and growth temperature on extension of GaN layer on Si

The effect of nitrogen flow and growth temperature on extension of GaN on Si substrate has been studied. By increasing the nitrogen flow whose outlet is located in the center of the MOCVD (metal-organic chemical vapor deposition) gas/particle screening flange and by increasing the growth temperature of HT-AlN and AlGaN buffer layers near the primary flat of the wafer, the GaN layer has extended more adequately on Si substrate. In the meantime, the surface morphology has been greatly improved. Both the AlN and GaN crystal quality uniformity has been improved. X-ray diffraction results showed that the GaN (0002) XRD FWHMs (full width at half maximum) decreased from 579 arcsec～ 1655 arcsec to around 420 arcsec.     

铜镍合金滑动摩擦学行为的分子动力学模拟

基于分子动力学模拟建立金刚石结构粗糙磨粒球与Ni60/10%Cu (C1)和Ni60/20%Cu (C2)铜镍合金滑动摩擦结构模型,通过探究铜镍合金在金刚石磨粒不同摩擦深度下滑动摩擦行为,结合合金的磨损形貌、磨损原子数目及分布、摩擦力和亚表面损伤对合金纳米尺度下磨损机理进行了研究.结果表明：在摩擦过程中,合金磨损原子首先堆积在磨粒前方,随着滑动摩擦的进行,当压入深度为10?时,磨损原子与磨粒之间黏附力较小,磨损原子流向磨痕两侧,当压入深度为20?时,磨损原子数量增加,增加的磨损原子主要堆积在磨粒前方,共同对合金进行磨损.随压入深度的增加,合金在摩擦过程中的位错密度上升,合金亚表面损伤程度提高,但在相同压入深度下,C2合金平均位错密度大于C1合金,C1合金的亚表面质量优于C2合金,这表明摩擦深度是影响合金亚表面质量的重要因素,且Cu原子数目增加会提高合金在纳米尺度下摩擦过程中亚表面损伤.     

矩形口径离轴非球面在数控加工过程中的检测

介绍了空间相机中的离轴非球面第三反射镜 (矩形口径 )在数控加工过程中在研磨和抛光阶段的检测情况。利用自行研制的非球面测量机对研磨阶段离轴非球面的面形精度进行了测量 ,其最后的研磨精度达到了 1 μm(RMS)。抛光阶段离轴非球面的检测采用的是补偿法 ,其中零位补偿器是补偿检验的关键元件。该离轴非球面的最终面形达到了在 2 0 0mm通光口径内约λ/30的精度 (λ=0 .632 8μm)。