Electron–phonon coupling in topological insulator Bi_2Se_3 thin films with different substrates

Broadband transient reflectivity traces were measured for Bi_2 Se_3 thin films with various substrates via a 400 nm pump–white-light-probe setup. We have verified the existence of a second Dirac surface state in Bi_2 Se_3 and qualitatively located it by properly analyzing the traces acquired at different probe wavelengths. Referring to the band structure of Bi_2 Se_3, the relaxation mechanisms for photo-excited electrons with different energies are also revealed and studied. Our results show a second rise of the transient reflection signal at the time scale of several picoseconds. The types of substrate can also significantly affect the dynamics of the rising signal. This phenomenon is attributed to the effect of lattice heating and coherent phonon processes. The mechanism study in this work will benefit the fabrication of high-performance photonic devices based on topological insulators.     

ITO玻璃芯片上温度分布对成肌细胞生长增殖的影响

为了研究不同温度对小鼠成肌细胞生长增殖的影响,在ITO玻璃芯片上加载电场形成一定的温度分布。在不同温度(38、39、40和41℃)所对应的区域加工相同尺寸的PDMS微型培养腔室用于小鼠成肌细胞的培养。通过对芯片上培养的小鼠成肌细胞连续5 d的热刺激(30 min/d),研究不同温度短期热刺激对成肌细胞增殖的影响。细胞形态显微观察和流式细胞仪检测结果表明,一定的温度刺激对小鼠成肌细胞的增殖有促进作用,其中40℃刺激后的细胞数目增加最明显。在总刺激时间(30 min)相同情况下,短时多次热刺激的效果更理想,细胞增殖指数最高可达38.39。     

MCM-41表面氧化铜的分散研究

金属离子修饰的M41S介孔分子筛催化剂体系是当前多相催化剂研究的热点.虽然有关介孔分子筛金属离子修饰的方法有多种[1],但均存在着负载的金属粒子在载体表面负载量低或分散不均匀等缺点;采用本课题组的有机官能团化法[2]可以得到高分散度和高负载量的介孔分子筛负载金属氧化物     

中国陆架沉积物标准物质研制

报道了我国研制的2个大陆架沉积物标准物质MS-E1,MS-S1。MS-E1和MS-S1的原样分别取自东海和南海。样品经风干、破碎,球磨制备成均匀的粉体样品。均匀性采用高精度的X射线荧光光谱法检验。样品的化学组分采用国内外多实验室协同分析方式定值,有7个国内实验室和9个国外实验室参加了合作分析。测试组分均为67个,分别有43和42个组分定为保证值,8和9个组分作为参考值。全组分百分总和分别为99.8%和99.6%。经2年多的试用,2个标准物质已于2005年被国家计量部门批准为国家一级标准物质,其编号分别为:GBW07335和GBW07336。     

合成化合物动物体内抗肿瘤实验方法研究进展

进行了动物体内抗肿瘤活性研究的多为天然药物,但其来源有限;虽然用于抗肿瘤研究的合成化合物种类较多,但对于其在动物体内抗肿瘤研究又相对偏少,所以,合成化合物抗肿瘤体内研究已经成为研究热点之一。本文对合成化合物抗肿瘤作用机制、体内肿瘤模型建立方法和体内抑瘤实验研究等方面的研究进展进行了评述,并通过大量实验数据对合成化合物毒性评价方法、抑瘤基本观察指标测定、氧化损伤相关酶活力的测定方法、组织病理学评价方法等体内抑瘤实验的评价标准和方法进行了详细总结,提出了合成化合物在体内动物抗肿瘤实验研究方法中亟待解决的问题,为新型抗肿瘤合成化合物体内药学活性研究提供有益的参考。     

全纯函数的某些性质

在本文中’),我俐将主要研究牙。族的某些性鬓.我们靓翠位圆内之全钝函数〔穿,,那是要封敖任何的r,0相似文献   

I_(01)逼近和多项式计算中的系数舍入

本文首先讨论多项式的0,1系数多项式逼近(简称I_(01)逼近)问题,然后用所得到的结果研究多项式计算中的系数舍入问题,提出了一个新的、较为简单的系数舍入算法.证明了用这种舍人算法带来的舍入误差较通常的四舍五入(十进制)法或零舍一入(二进制)法要低得多,在使用方便和误差方面,都比一松信的算法为好.     

无限级整函数的插补问题

А.Ф.Леонтъев曾讨论了一些有限级整函数的插补问题,并将其用之于Dirichlet级数的讨论.本文的目的是对于无限级整函数,特别是对具熊庆来氏无限级的整函数考虑其插补问题,其应用则在它文中述及.我们说整函数f(z)以ρ(r)为无限级,那是要:     

利用原子层沉积技术实现有机电致发光器件的薄膜封装EI北大核心CSCD

有机电致发光器件(Organic light emitting diode,OLED)具有轻薄、便于携带、自发光、能耗低、亮度更大、柔性显示等特点,可以增加显示产品的附加值,因此被科学和产业界广泛关注。然而,OLED器件中的有机材料对空气中的水汽和氧气十分敏感,若器件在无封装保护的情况下长期在空气中存放,将会严重影响OLED的工作性能和寿命。除了选择合适的传输层材料、表面层结构和利用界面工程提高材料水氧耐受能力之外,对器件进行可靠的封装是隔绝空气中水汽和氧气侵蚀的一种有效手段。原子层沉积(Atomic layer deposition,ALD)是一种已经在实验室验证的有效薄膜沉积封装技术,由于ALD的自限制反应特性,可以在低温下沉积出厚度精确可控且均匀致密的薄膜,利用ALD沉积的薄膜往往拥有良好的机械柔性、超高的阻隔性能和光学透过率。本文将回顾原子层沉积技术的原理,分析ALD制备薄膜的水汽透过率,比较ALD在单层、有机-无机叠层薄膜封装制备上的技术优势。     

有向树上的可加枚举问题

作者在[1]中提出了简单生成树族上的可加枚举问题,并建立了统一的求解模式,有向树族不是一个简单生成树族,就是说,它的生成函数 A(z)=sum from n=1 to ∞(a_nz~n) (1)(a_n——具有n个节点的有向树的个数)不满足任何函数关系