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171.
Improvement of laser damage thresholds of fused silica by ultrasonic-assisted hydrofluoric acid etching 下载免费PDF全文
Polished fused silica samples were etched for different durations by using hydrofluoric(HF) acid solution with HF concentrations in an ultrasonic field. Surface and subsurface polishing residues and molecular structure parameters before and after the etching process were characterized by using a fluorescence microscope and infrared(IR) spectrometer, respectively. The laser induced damage thresholds(LIDTs) of the samples were measured by using pulsed nanosecond laser with wavelength of 355 nm. The results showed that surface and subsurface polishing residues can be effectively reduced by the acid etching process, and the LIDTs of fused silica are significantly improved. The etching effects increased with the increase of the HF concentration from 5 wt.% to 40 wt.%. The amount of polishing residues decreased with the increase of the etching duration and then kept stable. Simultaneously, with the increase of the etching time, the mechanical strength and molecular structure were improved. 相似文献
172.
West[4],Phillips[3]的关于AR(1)过程的一些有关渐近正态性的结果推广到了拟整过程,所得的结果更具一般性,从而可用来进行单位根据检验及协整检验的功效分析。 相似文献
173.
以1,3,5-三苯酰基苯(TBP)作为电子受体, 1,8-二甲基咔唑(Dm Cz)和1,3,6,8-四甲基咔唑(TmCz)分别作为电子给体,合成了两种新的热活化延迟荧光材料TBP-DmCz和TBP-TmCz.热重和差热测试结果表明,这两种材料都具有高热稳定性.理论计算显示,材料的最高电子占据轨道和最低电子未占轨道分别分布在咔唑和1,3,5-三苯酰基苯结构单元上,两种分子轨道几乎没有重叠,具有热活化延迟荧光材料分子轨道的典型特征.分子轨道能级测算结果显示,增加咔唑结构单元上甲基的数量,能明显升高材料的最高电子占据轨道能级.TBP-DmCz和TBP-TmCz的最低激发单重态和最低激发三重态间能级差(ΔEST)都非常小,分别为0.05和0.01eV.在甲苯溶液中,两种材料均表现出了明显的分子内电荷转移跃迁吸收, TBP-DmCz和TBP-TmCz的发光峰分别出现在488和502 nm.用TBP-DmCz和TBP-TmCz作为掺杂客体材料制备出了两种高性能电致发光器件,器件的最大外量子效率分别达到了13.6%和18.3%. 相似文献
174.
近年来,以设计-采购-施工(EPC)为代表的项目总承包模式发展迅速,总承包商作为项目建设各环节的责任主体,关系到整个项目的质量和成本,做好总承包商的选择至关重要.立足于EPC项目业主的角度构建指标体系,通过COWA算子对指标进行赋权,并将累积前景理论和灰靶理论相结合构建EPC项目总承包商选择模型,考虑到决策环境中决... 相似文献
175.
The microstructure of aqueous CuCl2 has been studied through lots of technologies for many years; however, it remains a controversial subject. In this study, a new spectroscopic method has been proposed to analyze the UV-visible spectra of thin film of CuCl2/H2O solutions at different concentrations. This method is the combination of ratio spectra, difference spectra and second order difference spectra. By using this method, two new bands at ~230 and ~380 nm are obviously observed. The bands are assigned as the contacted ion pairs[CuCl3(H2O)n]- or[CuCl4(H2O)n]2-, which demonstrates that ion pairs exist in the CuCl2/H2O solution. Such finding agrees with the recent theoretical spectra obtained by time-dependent density functional theory. Furthermore, the populations of the contacted ion pairs are discussed. This study not only offers the direct spectroscopic evidence of[CuCl3(H2O)n]- or[CuCl4(H2O)n]2- in aqueous CuCl2, but also suggests that the spectroscopic analysis method is powerful to extract the weak bands in a strong overlapping spectrum. 相似文献
176.