全文获取类型
收费全文 | 84篇 |
免费 | 16篇 |
国内免费 | 23篇 |
专业分类
化学 | 45篇 |
晶体学 | 4篇 |
力学 | 5篇 |
综合类 | 13篇 |
数学 | 15篇 |
物理学 | 41篇 |
出版年
2024年 | 1篇 |
2023年 | 2篇 |
2022年 | 3篇 |
2021年 | 1篇 |
2020年 | 2篇 |
2019年 | 3篇 |
2018年 | 4篇 |
2015年 | 5篇 |
2014年 | 7篇 |
2013年 | 3篇 |
2012年 | 3篇 |
2011年 | 1篇 |
2010年 | 5篇 |
2009年 | 2篇 |
2008年 | 2篇 |
2007年 | 3篇 |
2006年 | 5篇 |
2005年 | 3篇 |
2004年 | 4篇 |
2003年 | 7篇 |
2002年 | 1篇 |
2001年 | 1篇 |
2000年 | 1篇 |
1999年 | 4篇 |
1998年 | 1篇 |
1997年 | 2篇 |
1996年 | 3篇 |
1995年 | 5篇 |
1994年 | 3篇 |
1993年 | 4篇 |
1992年 | 5篇 |
1991年 | 7篇 |
1990年 | 4篇 |
1989年 | 2篇 |
1988年 | 3篇 |
1986年 | 2篇 |
1985年 | 3篇 |
1984年 | 3篇 |
1982年 | 1篇 |
1959年 | 1篇 |
1957年 | 1篇 |
排序方式: 共有123条查询结果,搜索用时 328 毫秒
71.
运用扫描电镜 (SEM )图像研究了聚四氟乙烯 (PTFE)粉料经过推挤、辊压和拉伸得到的微孔膜的形态结构 ,观察到膜是由网状纤维及由它所连接的结点所组成 .单相和双向拉伸显著影响到膜结构的改变 ,而未经热处理的拉伸膜的丝状纤维在放置中收缩改变了膜的微孔形态结构 ,但在孔径测定中没有显著变化 .认为纤维丝是PTFE粉料在推挤和辊压中形成的结点在拉伸中伸展引出的并产生孔隙 ,而由于从SEM仅能观察到 1nm深度的膜表面层 ,厚度达数十微米多孔膜的孔径分布应是很错杂的 . 相似文献
72.
膨体聚四氟乙烯微孔滤膜孔结构的扫描电镜图像解析 总被引:4,自引:0,他引:4
由拉伸法制得的膨体聚四氟乙烯(e PTFE)微孔滤膜,其孔结构与其他高分子材质膜截然不同.运用扫描电镜(SEM)图像解析方法描述纤维化的PTFE分子和相互连接的PTFE积聚分子结点,膜的孔性能分别以数字量化的参数: LF、WF、LN、WN、AN表示.测试结果与一般微孔滤膜常用泡压滤速法测定表示孔性能的表观密度和孔隙率有对应关系,说明SEM图像解析可作为表征e PTFE膜孔结构的方法之一.此外,图像解析还可显示原料PTFE分子量和机械操作中的拉伸比对生产的e PTFE膜孔结构的影响. 相似文献
73.
利用单色谱仪研究炸药粉快速反应产物发射谱 总被引:1,自引:0,他引:1
利用作者研制的快速反应(爆轰)光谱探测技术研究了五种常用猛炸药快速反应最终产物光谱。研究表明,随着炸药负氧平衡值的影响,最终产物H2O的含量也增加,同样随着炸药中碳含量的增加CO2量增加,固体C2也明显增多,它能为爆轰产物合成金刚石选用主炸药提供有参考价值的数据,实验值与BKW方程计算进行了比较,其趋势是一致的,为微观研究炸药粉快速反应提供了一个较简便而行之有效的方法。 相似文献
74.
75.
76.
利用激波管技术以及光辐射特性测量技术成功地研究了汽油燃烧转变为爆轰过程(DDT)中光辐射特性。沿着波阵面传播方向测量和垂直于波阵面传播方向的测量结果说明,这两种方法都能较好地研究汽油的DDT过程,平行于波阵面传播方向进行测量能在同一发实验中研究DDT全过程中的辐射特性的变化过程。研究发现,在DDT过程中快接近爆轰出现时,C2基从出现到最大值所需的感应时间c2大于CH基从出现到最大值所需的感应时间CM。在CH基明显增长时刻出现爆轰,此结果和传感器测量结果以及烟膜技术确定的爆轰波阵面胞格结构出现的位量完全相符。研究表明,C2基和CH基辐射感应时间都随着激励压力的增加而迅速减小。在激励压力比较低时,CH基出现的时间TCM大于C2基出现的时间TC2,在激励压力大于2.7MPa后,CH基和C2基出现的时间就比较接近。 相似文献
77.
78.
79.
摄像机标定精度研究中的图像及数据处理问题 总被引:1,自引:0,他引:1
在计算机视觉测量系统中,摄像机的标定精度对保证测量结果的可靠性起着至关重要的作用,本文利用数学形态学探讨了图像处理的精度,并论述了豪斯荷尔德矩阵分解法在确保求解数值稳定性中的作用,最后通过对标定块上特征点进行三维重建的精度分析,验证了摄像机的标定精度。 相似文献
80.
设G=(V(G),E(G))是一个n阶简单图,V(G),E(G)分别为图G的顶点集和边集.G的k阶谱矩sk(G)为G的所有特征值λ1,λ2,···,λn的k次幂之和,即sk(G)=n i=1λi k.该文首先列出图的五种变换,然后得到了其对任意图的零到四阶谱矩的变化规律,最后依次给出了树和单圈图依谱矩序列S4的字典序分别排在前4-6位和后4-6的图及其特征以及双圈图依谱矩序列S4的字典序排在前6位和后6位的图及其特征. 相似文献