XRD和XPS法研究WO3/SiO2体系

用X射线衍射(XRD)相定量外推法和X射线光电子能谱(XPS)峰强度比(Iw_(4f)/I_(i-p))法定量测定了WO_3在硅胶表面的最大分散量,两种方法的结果一致,为1.8×10_(-4)克WO_3/米~2(即4.6×10~(17)W原子/米~2)。表明WO_3在硅胶表面呈单层分散,但不是密置单层分散,WO_3在硅胶表面的单层覆盖率只有9%。     

溶胶凝胶法制备CdS/SiO2量子点玻璃的研究

通过溶胶凝胶转变过程制备了硫化镉／二氧化硅量子点复合玻璃材料（硫化镉在复合材料中的最大掺杂质量比可达到30％）；并针对两种催化剂对复合体系的不同影响对这一类体系的物理化学性质进行了较为系统的研究．复合体系的溶胶凝胶转变点可通过对复合溶胶粘度随时间变化的观测而确定．TEM法与低频Raman散射法的测定表明实验制备的样品中CdS颗粒基本为nm级的球形粒子。其CdS颗粒粒径随CdS含量增加而增大。随CdS／SiO2量子点玻璃材料中CdS颗粒粒径的减小，其吸收光谱中的吸收边界与常规尺寸颗粒的吸收光谱边界相比有明显的蓝移，体现出显著的量子效应．适宜的热处理过程对复合材料中CdS颗粒粒径的减小和量子效应的增强起着有利的作用．     

AN INVESTIGATION OF THE DISPERSION OF CuCl ON γ-Al_2O_3 SURFACE AND THE ADSORPTION OF ETHYLENE ON CuCl/γ-Al_2O_3 AND OTHER SUPPORTED TRANSITION METAL SALTS

In this work we investigate the dispersion of CuCl on γ-Al_2O_3 surface and the adsorptionof ethylene on CuCl/γ-Al_2O_3. X-ray diffraction experiments and u.v. diffuse reflectancespectra have shown that CuCl is highly dispersed on γ-Al_2O_3 surface, very likely as a mono-layer. The maximun amount of dispersion of CuCl on γ-Al_2O_3 surface determined by X-ray quantitative phase analysis is 0.095 g CuCl/100 M~2 on γ-Al_2O_3. The adsorption ofethylene on dispersed CuCl can be conveniently studied by the temperature programed de-sorption (TPD) method and shown to be achieved readily at ambient temperature and nor-mal pressure. The ability of adsorption for ethylene on CuCl/γ-Al_2O_3 is greater by threeorders of magnitude than that on undispersed CuCl particles of comparable size. The max-imum molecular ratio of ethylene adsorbed to dispersed CuCl is 0.19 C_2H_4/Cu~ . The cu-prous ions of dispersed CuCl can form surface complex with molecules such as C_2H_4 or C_3H_6so long as the stereochemical conditions are satisfied. These results may provide additionalscientific basis for separating unsaturated molecules from saturated ones by CuCl/γ-Al_2O_3.     

新型光化学电池高活性铂电极的研究

应用循环伏安法，在导电玻璃表面沉积微量铂，制备新型光电化学电池的高比表面高洁性对电极所获得的电极比表面最高达371m2·g-1;同时发现，该电极对的质量交换电流密度随铂沉积量的增加而减小，而相对于宏观面积的交换电流密度几乎没有变化，因此，在实验可控制的限度内，用微色的铂就可以获得高活性的对电极     

MoO3负载在新型TiO2/γ-Al2O3载体上的表面状态与性质

MoO_3担载在TiO_2或γ-Al_2O_3载体上是一类重要的工业催比剂, 其表面状态和表面性质国内外已有过许多报导, 本文报导~[1-5], MoO_3负载在我们所研制的新型TiO_2/γ-Al_2O_3载体(指以γ-Al_2O_3为骨架, 表面上铺以TiO_2物种的载体)上的表面状态与性质。     

以多孔硅为模板制备取向碳纳米管

制备具有取向性好的碳纳米管阵列,尤其在硅基上的定向生长对实现碳纳米管的应用有着十分重要的意义．采用有机气体催化热解的方法,以多孔硅为模板,在硅基上制备出了具有取向性的碳纳米管阵列．结果表明,这种具有取向性的碳纳米管石墨化程度较高．孔径在１０～１００ｎｍ之间的多孔硅衬底,对碳纳米管的生长有控制作用,碳纳米管的直径随着衬底孔径的增大而增大．而大孔硅则没有类似的控制作用．     

负载型三氧化钼催化剂表面结构和表面酸位的激光Raman光谱研究

测定了MoO3/γ-Al2O3、MoO3/TiO2、MoO3/SiO2的激光Raman谱. 通过MoO3/γ-Al2O3、MoO3/TiO2在吡啶吸附前后、氨水提取前后的谱图对比说明, 单层分散的MoO3, 即特征峰为～950cm^-^1的"二维聚钼酸"中钼的配位状态不是单一的,其中一种表面含钼物种(Mo-1)不吸附吡啶, 不溶于氨水, 不显示较强的表面酸性; 另一种表面含钼物种(Mo-2)可吸附吡啶, 溶于氨水, 与催化剂的表面酸位密切相关. 我们认为Mo-1为四面体配位的钼; Mo-2为八面体配位的钼. MoO3/SiO2中的MoO3能100%被氨水溶去, 其酸位数与表面Mo^6^+数之比接近1, 是由其中Mo-2的比例较高, 载体与活性组分之间的相互作用较弱这两个因素所造成的。     

透光导电金属及氧化铂半导体薄膜的制备与表征

通过PPh~3对“非保护型”铂金属纳米簇进行表面修饰,并将其萃取至甲苯中,制备的PPh~3修饰的Pt金属钠米簇于空气中可自发地在玻璃表面生长出均匀透光的金属钠米簇薄膜。该金属钠米簇薄膜经空气中加热处理后可转化为透光导电的氧化铂半导体薄膜。考察了金属钠米簇薄膜生长过程中UV-vis吸收光谱的变化。采用SEM和TEM等方法,表征了纳米簇的粒径及膜的多孔结构,由此解释了其透光原因。研究了薄膜的导电性与处理条件的关系,并采用XPS表征了处理过程中的物质变化。初步探索了PPh~3-Pt纳米簇自发成膜过程的机理,确定了氧气在此过程中的重要作用。     

多孔陶瓷膜与溶胶-凝胶方法

一、简介膜如同国界,界两边既相联系又相隔离,选择性通过是其基本特征。国界的选择性由关卡完成,而膜是通过特定的孔道来实现,故孔道的不同决定了膜有不同的用途。分离是膜的最基本的应用。同其他方法相比,膜分离具有能耗低、选择性高、可在常温下进行等显著优点。     

论无水亚硫酸钠的晶体结构

本文按 Zachariasen 和 Buckley 的衍射数据检查了无水亚硫酸钠晶胞中原子的分布方式,并对它的 Laue 对称性 C_(6h)和晶胞中原子据以分布的对称性 C_(3i)~1相适应的方式提出了新的看法。Zachariasen 和 Buckley 引出的晶胞中原子分布方式的模型是正确的,但真正能概括全部衍射效应的必须是一个由二种在物理意义上相同的分布方式叠合而成,其中原子按 C_(6h)分布的统计晶胞。经过进一步的考虑,晶体可能系由边长为10~3—10~4(?)的镶嵌晶块组成,同一种原子的分布方式只贯彻在每一个镶嵌晶块中。