Ⅴ.35标准光纤多路复用器

英国Pilkington Communication Systeros公司已研制出一种双信道双工CCITT V.35型光纤多路复用器,它是该公司2000系列中的一种新产品。该公司声称,这种新式2002型光纤多路复用器的每个信道的成本比传统多路复用器低得多。其内部或外部波特率为1.2～128千比特/秒,聚集数据率为1.2288兆比特/秒。该多路复用器能使两个数据端口的传输完全同步,并能全双工工作。同步由多路复用器自身的波特率     

矿物中药自然铜的组成与热稳定性研究

采用X射线粉末衍射、热重-差热分析、等离子体发射光谱等分析手段, 对不同产地自然铜和煅自然铜的结构组成、热稳定性和微量元素进行测定和分析. 结果表明: 自然铜的主要物相为FeS2, 煅自然铜则因产地而异, 出现了FeS2(南京中医药大学样品中约86%, 湖南89%, 四川32%, 山西19%), FeS(湖南11%, 安徽24%, 四川24%), Fe3O4(安徽29%), Fe2O3(安徽14%)和FeO(OH) (南京中医药大学14%, 山西74%)等复杂物相. 自然铜在加热到450～800 ℃时, 逐渐发生了由FeS2转变为FeS的相变. 在这些药材中含有丰富的与人体健康密切相关的微量元素, 既含有对人体有益的Ca, Fe, Zn等微量元素, 也含有As, Cd, Pb等有害微量元素. 实验结果为该矿物药的鉴定和评价提供了科学数据.     

平面激光诱导荧光技术在交错电极介质阻挡放电等离子体研究中的初步应用

利用平面激光诱导荧光技术对交错电极介质阻挡放电过程中产生的痕量组分NO进行了检测. 通过数值模拟对实验结果进行了分析说明,并对介质阻挡放电等离子体流动控制原理进行了简要分析. 此外还通过平面激光诱导荧光技术对等离子体诱导流动进行了直观显示. 关键词： 平面激光诱导荧光 等离子体 介质阻挡放电     

含钛分子筛催化氧化噻吩反应的研究

 以TS-1为催化剂,水为溶剂研究了正辛烷中噻吩的选择氧化反应. 结果表明,在TS-1/水/正辛烷三相体系中,在常压和333 K下噻吩硫完全转化成硫酸并转移到水相. 以叔丁醇作溶剂时,噻吩同样能被氧化,只是反应速率较低. 采用甲醇和乙腈作溶剂时,噻吩的氧化反应被抑制. 可以认为,TS-1的骨架钛能够活化噻吩,并使其发生氧化反应. 由于TS-1骨架的憎水性,水分子不影响噻吩与骨架钛的作用. 分子较大的叔丁醇因空间位阻效应而不能与活性中心作用,因此也不影响噻吩的活化. 但是,小分子溶剂如甲醇和乙腈,由于可与骨架钛作用,因而抑制了噻吩的活化,导致噻吩不发生氧化反应.     

TS-1/过氧化氢催化体系中有机硫化物的选择氧化

 研究了TS-1/过氧化氢催化体系中几种典型有机硫化物的选择氧化脱除. 结果表明,噻吩和2-甲基噻吩仅在水或叔丁醇溶剂中才能被有效氧化脱除,且两者的反应历程不同. 噻吩分子中的硫原子先被氧化,2-甲基噻吩分子中的噻吩环先被氧化. 当过氧化氢与硫化物摩尔比为4时,噻吩和2-甲基噻吩均可被氧化为硫酸. 采用甲醇、乙腈和水作溶剂时,甲基硫醚和丁基硫醇均可被选择氧化脱除. 由于存在空间位阻,苯并噻吩、二苯并噻吩及4,6-二甲基二苯并噻吩在TS-1/过氧化氢体系中均不能被有效脱除.     

介质阻挡放电等离子体对近壁区流场的控制的实验研究

采用粒子图像测速仪对介质阻挡放电等离子体在静止流场中诱导出的速度场、等离子体激励对平板附面层的改变进行了研究.实验结果表明,等离子体激励作用主要集中在近壁面附近;激励电压与诱导速度近似为线性关系,激励频率对诱导速度的影响不大.将等离子体流动控制原理初步归纳为撞击效应和热效应,并通过数值模拟的方法研究了热效应对等离子体激励诱导速度场的影响.数值模拟结果表明,在无来流的情况下等离子体热效应对流场的影响比较明显,使局部水平方向速度大小提高近30%.简要介绍了提高等离子体激励强度的方法. 关键词： 介质阻挡放电等离子体 流动控制 边界层     

便携式测试设备

西德Wandel and Goltermann公司最近推出一种便携式光纤电源。据称,这种光源是市场上出脱的第一种产品,它能在850和1300毫微米这两种最常用的波长之间进行转换。这种用电池作电源的光功率源被称作OLS-2。由于采用了一种新的热补偿方法而使得该OLS-2的输出很稳定。这种光源不需预热即可在-10到 50℃之间所有温度上输出额定功率,其输出端是以一种标准的DIN47256连接器     

阻塞较高电压的光隔离器

美国Motorola公司已推出据称是最先可用的具有零交叉三端双向可控硅开关驱动器输出的800V阻塞电压光隔离器,其属MOC3081系列。 MOC3081系列的特点和Motorola的400V和600V光隔离器系列相同,后者包括一个GaAs发射红外光的二极管和一个单片硅芯片,而硅芯片又包含一个桥、滤波器,一个双向三端双向可控硅开关驱动器和零交叉电路。此外,这种新型光隔离器的击穿电压为800V,隔离电压为7500V,典型的dv/dt为1500V/S。     

以四丙基溴化铵为模板剂合成TS-1分子筛的研究

运用1H→13CCP／MASNMR、29SiMASNMR、IR、XRD和元素分析等表征方法，研究了以四丙基溴化铵（TPABr）为模板剂的合成体系中，Ti酯和模板剂用量以及不同碱源对TS-1分子筛的影响，考察了不同Ti含量固体样品催化丙烯环氧化反应．实验结果表明：随着凝胶中Ti酯用量的增加，制得的分子筛结构对称性由单斜晶系逐渐向正交晶系转变，其丙烯环氧化活性也相应增加．尽管凝胶中所加减源只调变凝胶碱度而不起模板剂作用，然而凝胶的强碱环境对骨架钛原子引入有利．当凝胶中TPABr／SiO2摩尔比值在0．05－0.25之间时，TPABr加入量的变化不影响TS－1分子筛中骨架钛含量．     

钛硅分子筛催化丙烯环氧化反应条件的研究

以用四丙基溴化铵（ＴＰＡＢｒ）为模板剂合成的钛硅分子筛ＴＳ－１为催化剂，Ｈ２Ｏ２为氧化剂，系统地研究了丙环氧化反应的规律，考察了反应温度、丙烯压力、催化剂用量、反应时间等反应参数的影响，找到了较佳的丙烯环氧化反应条件。研究发现：温度对反应结果有显著影响。随反应温度升高，Ｈ２Ｏ２转化率提高，但环氧丙烷（ＰＯ）选择性降低；丙烯压力对反应结果无明显影响，催化剂不经再生处理，多次重复使用产物分布保持不变，