呋喃分子多光子电离解离过程的反应通道

1引言呋喃分子在450nm附近的多光子电离实验中[1]，质谱中观察不到母体离子C4H4O＋，主要碎片离子的相对丰度C＋＞C2＋＝CHO＋＝C3H3＋．这些离子的选质量光谱研究表明它们是呋喃分子先吸收3＋1个光子电离为母体离子C4H4O＋，然后C4H4O＋再进一步吸收光子逐步解离产生．陕哺离子的初级解离过程已比较清楚[2－4]，吹响离子能量在1～5eV之间解离通道是：这三个平行解离反应可用RRKM理论来描述[4]．但是陕哺离子在高能量下的解离反应，特别是次级解离过程还不清楚，因此无法确定MPIF实验中观察到小离子碎片产生的机理，为此本文在速…     

表面窄缺陷深度的光声检测方法

为实现对表面缺陷深度的激光超声定量检测,建立了与缺陷宽度有关的深度测量理论。建立了含有宽度修正项的深度测量公式,并定义了缺陷尺寸比值概念,划分了窄缺陷、极窄缺陷与宽缺陷三种缺陷类型,以及在这三种不同类型下缺陷深度测量方法的适用性,并采用有限元仿真加以验证;搭建了激光超声检测实验平台,对铝合金表面缺陷样品进行了深度检测。结果表明:引入宽度修正项可实现对窄缺陷深度的定量检测,该方法的平均测量误差不足5%,很好地实现了缺陷深度的精确测量。     

Mn overlayers on PbTe（111）： Substitutional adsorption and interface formation

The formation of the Mn/Pb Te（111） interface is investigated by photoemission spectrum. The core level behavior of Mn 2p is consistent with Mn substitutional adsorption during the initial Mn deposition, forming a（√3 ×√3）R30？-Pb0.67Mn0.33 Te phase of the second layer. Further deposition of Mn can cause metallic Mn islands to cover the substitutional substrate. Ultraviolet photoemission measurements show that the Fermi level is shifted into the conduction band, indicating Ohmic contact formation at the Mn/Pb Te（111） interface. The valence band maximum associated with the Pb0.67Mn0.33 Te layer is located at 1.27 e V below the Fermi level, and a schematic electronic structure of the Mn/Pb Te（111）interface is given. The work function of the substituted substrate with Pb-covered Mn islands is determined to be 4.16 e V,in comparison with 4.35 e V for the Pb-covered substituted substrate and 3.95 e V for the pristine Pb Te（111） surface.     

纳米氧化铁/膨润土催化剂的制备、表征及复相光降解罗丹明B的研究

钠基膨润土与羟基铁溶液反应,经过焙烧,制得性能良好的纳米复合型催化剂,结合比表面孔隙分析(BET)、X射线衍射谱(XRD)和高分辨扫描电镜(HRTEM)对催化剂的比表面积、晶相和粒度进行表征。用光度法对该催化剂降解染料罗丹明B进行了研究,详细考察了溶液起始pH值、H₂O₂浓度、催化剂用量和起始浓度对降解的影响以及催化剂的可重复使用性,紫外-可见光谱对降解过程进行跟踪检测,并对复相光助Fenton过程与均相光助Fenton过程进行了比较。结果表明,复合型催化剂具有很高的比表面积,铁以高催化活性的α-Fe₂O₃存在于复合催化剂中;在pH 3.0,催化剂浓度为0.3 g·L-1,H₂O₂浓度为10 mmol·L-1实验条件下,100 mL 2.5×10-5 mol·L-1罗丹明B,紫外光照射4 h后,紫外-可见光谱显示罗丹明B的特征峰消失,其脱色率和COD_Cr去除率分别为97%和71%,对该催化剂进行处理后,可以重复使用,复相光降解率要远大于均相光降解率。     

HO3、HO+3、HO-3光谱和结构的MP2和DFT理论研究

用B3LYP和MP2量子化学理论,详细地计算了HO3、HO+3、HO-3可能的平衡构型、能量和光谱参数,分析了它们可能的解离通道和稳定性.还分析了HO3的电离势(IE)及电子亲和势(Ea),讨论了HO3、HO3-自由基的光电子能谱的特征,及用光电子能谱去探测HO3的可能性.     

C2H4在清洁和有Cs覆盖的Ru(0001)表面吸附的TDS研究

用热脱附谱(TDS)方法研究了乙烯(C₂H₄)在Ru(0001)表面上的吸附.在低温下(200K以下)乙烯可以在清洁及有Cs的Ru(0001)表面上以分子状态稳定吸附,在衬底温度升高至200K以上时,乙烯发生了脱氢分解反应,乙烯分解后的主要产物为乙炔(C₂H₂).在清洁的Ru(0001)表面,乙烯有两种吸附状态,脱附温度分别为275K和360K.而乙炔的脱附温度为350K.在Ru(0001)表面有Cs的存在时,乙烯分解 关键词： 乙烯 钌(0001)表面 铯钌(0001)表面乙烯 钌(0001)表面 铯钌(0001)表面     

K_3C_(60)在200K附近的取向相变机理

研究了K3C6 0 单晶薄膜在 2 0 0K附近的导带结构 .样品温度为 190K时 ,同步辐射角分辨光电子谱能够观察到[111]方向有规律的能带色散 .而在 2 2 0K附近色散不存在 .这一实验结果与K3C6 0 在 2 0 0K存在取向相变相符合 .用反铁磁Ising模型对实验结果进行了分析 .结果表明 ,K3C6 0 在 2 0 0K的相变是由低温下的一维无序取向结构转变为2 0 0K以上的双取向结构畴与无序分子 (约占 40 % )的混合     

乙烯在Ru(1010)表面价带电子特性研究

在200K以下乙烯(C2H4)可以在Ru(1010)表面上以分子状态稳定吸附,200K以上乙烯发生了脱氢分解反应生成乙炔(C2H2).乙烯分解生成乙炔后,σCC和σCH分子轨道能级向高结合能方向分别移动了0.5和1.1 eV.偏振角分辨紫外光电子谱(ARUPS)结果表明:在Ru(1010)表面上,乙烯和脱氢反应后生成的乙炔分子的C-C键轴都不平行于表面,而是沿表面(0001)晶向倾斜.     

氧原子和甲基自由基反应机理的理论研究

用分子轨道从头算和密度泛函理论（DFT）中的B3LYP方法以及适中基组6-311+G(2df,2p)对氧原子与甲基CH3反应进行了系统的研究。计算给出了反应通道上各驻点物种的构型参数、振动频率和能量。结果表明： CH2OH比CH3O稳定,能量约低26.63 kJ/mol,且生成氢和甲醛为其最主要反应通道。