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采用反应性磁控溅射法制备了NiOx薄膜,并结合椭圆偏振仪、XRD和XPS研究了溅射参量对其光学常量的影响.NiOx薄膜的光学常量随着O2/Ar流量比的增大而减小;热退火后,折射率增大而消光系数下降了50%;溅射功率越大折射率也越大,而工作气压越大折射率反而越小.这些变化分别与薄膜中存在间隙O和Ni空位、NiOx分解以及NiOx薄膜的致密度有关. 相似文献
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本文研究了一类具有积分型边界条件,带参数λ的与时间无关的积-微分方程的可解性,得出了参数λ使得方程存在解,特别是存在正解的取值条件,并给出了使正解存在时λ的取值的估计。 相似文献
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基于BA无标度网络,构建了舆论和网络结构相互影响的自适应舆论演化模型.舆论的演化不仅受制于网络拓扑结构,而且也导致拓扑结构的变化.研究表明,演化达到稳态后,网络结构不再是初始的无标度网络而呈现泊松分布,而且随着时间的推移,系统中的舆论演化表现出很强的趋同效应,原来初始状态的几十个舆论,在长时间的演化后,大部分舆论灭亡,只有少数的舆论存留,且发展壮大.这种趋向与社会上的舆论、意见、信仰的演化大体上是符合的. 相似文献
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探针诱导表面等离子体共振纳米光刻系统 总被引:3,自引:2,他引:1
提出了一种在原子力显微镜(AFM)基础上设计的探针诱导表面等离子体共振纳米光刻(PSPRN)系统.此系统不但实现了探针的精确控制,而且由于系统本身具有AFM的全部功能,因此可以实时检测样品表面的形貌以及光刻效果.系统采用改进的Kretschmann型共振耦合器件,在棱镜和样品基板之间注入匹配折射率油,使样品更方便更换;利用声光调制器与AFM配合实现了等离子体激发光照射时间的精确控制.通过初步实验,在银(Ag)膜表面获得了直径100 nm左右的光刻点,验证了PSPRN的可行性.研究了光照时间、激光功率、激光入射角、材料厚度等因素对光刻点大小、深度的影响,为实现更小的光刻点提供了参考. 相似文献
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采用有损耗介质和色散介质的二维时域有限差分方法,数值模拟了以光波长514.5nm的p偏振基模高斯光束为入射光源,激发Kretschmann型表面等离子体共振,并通过探针的局域场增强效应实现纳米光刻的新方法——探针诱导表面等离子体共振耦合纳米光刻.分别就探针与记录层的间距以及探针针尖大小,模拟分析了不同情况下探针的局域场增强效应和记录层表面的相对电场强度振幅分布.结果表明,探针工作在接触模式时,探针的局域场增强效应最明显,记录层表面的相对电场强度振幅的对比度最大;当探针针尖距记录层5nm时,针尖下方记录层表面的相对电场强度振幅大于光刻临界值的分布宽度与针尖尺寸相近.
关键词:
纳米光刻
表面等离子体共振
时域有限差分方法 相似文献
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本文在考虑恒定外场φ0和节点惯性eγkh的影响下,提出了网络结构和舆论演化相互适应的舆论演化模型.研究发现,在外场和节点惯性作用下,系统中的度分布经过时间演化后逐渐偏离典型的幂率分布;同时随着时间的演化,舆论分布会出现明显的趋同现象,这种现象的产生不仅与外场本身的强度有关,而且还取决于该节点本身惯性因子;研究还表明通过调节惯性因子和外场大小可以控制舆论总数的变化,甚至于还可以控制变化的快慢. 相似文献