极紫外多层膜残余应力初步研究

 针对极紫外多层膜在激光等离子体诊断、极紫外光刻等方面的应用,进行了Mo/Si多层膜残余应力的实验研究,讨论了多层膜残余应力的成因。实验结果表明：Mo单层膜表现为张应力, Si单层膜表现为压应力;通过传统方法制备的13.0 nm处高反射率的40对Mo/Si多层膜会产生-500 MPa左右的压应力,其压应力主要是由膜层之间的贯穿扩散引起的;通过改变膜层比率可以在一定程度上补偿因贯穿扩散产生的压应力,但是以牺牲多层膜反射率为代价。     

《中国光学》约稿信

尊敬的光学科技工作者：为了整体把握中国光学的研究进展、展望光学学科发展方向，为国内外科研人员更好地了解中国光学的总体状况，经国家新闻出版总署批准，《中国光学与应用光学》期刊从2011年起正式更名为《中国光学》。     

《中国光学》约稿信

尊敬的光学科技工作者:《中国光学》自2008年创办以来,一点坚持服务科研、服务产业的办刊宗旨,学术质量和编辑质董都有明显的提高,标准化和规范化向国际期刊靠拢,期刊实行网络化管理,点击率和单篇下载量逐日攀升。经中国光学学会常务理事会讨论通过,自2012年起《中国光学》成为中国光学学会会刊,由中科院长春光机所与中国光学学会共同主办,这对提高期刊的学术水平和彩响力,打造光学领域精品期刊具有重要意义。     

软X光激光用多层膜反射镜的设计与性能模拟计算

介绍在研制软Ｘ光激光用多层膜反射镜中发展起来的一套设计方法。给出了这类反射镜在现阶段所研究的部分Ｘ光激光波长下的设计结果。利用波动光学迭代方法模拟计算了反射镜的性能，并讨论了膜厚控制误差、表（界）面粗糙度等对性能的影响。     

退火对ZnS纳米晶结构相变及发光的影响

采用共沉淀法制备了ZnS及ZnS：Eu纳米晶粉末,并对其在不同温度进行了退火处理。通过X射线粉末衍射(XRD)技术及差热分析实验(DTA)对ZnS纳米粒子在退火过程中的从立方到六角晶相的结构相变进行了研究。实验结果表明,同体材料相比,由于ZnS纳米晶具有较大的表面活性,其相变温度大大降低了。在由纳米粉末退火制备的样品中,观察到峰值位于460nm和520nm的两个发光带。前者是ZnS的自激活发光;后者归因于纳米晶制备过程中引入的缺陷或者在退火过程中形成了杂质能级。在退火温度低于800℃条件下,由纳米粒子制备的样品和由商用生粉制备的荧光粉相比较,前者的发光明显较强。铕的掺杂并没有形成新的发光中心,但却极大的增强了ZnS的缺陷发光。     

软X射线（60—900eV）超薄膜的光学常数

用反射率方法测定了软X射线波段(60～900eV)超薄膜的光学常数.反射率测量在同步辐射光束线上完成.对测量数据做非线性最小二乘曲线拟合得出光学常数,同时还精密确定了超薄膜的膜厚与薄膜与基板表面粗度的均方根值.文中介绍了样品制备、反射率测量、数据解析及误差分析的方法,并给出了C、Au、Pt超薄膜的相应结果.     

激光等离子体软X射线光源光谱强度测量方法

提出了一种新的探测和测量激光等离子体软X射线源光谱强度的方法。该方法使用通道电子倍增器和定标过的硅光电二极管为探测器 ,前者是非标准探测器 ,后者为标准探测器。应用电荷灵敏前置放大器测量探测器产生的电量 ,并以高分辨率的光谱仪为分光元件 ,在已知光栅效率、通道电子倍增器增益、硅光电二极管能量响应的条件下 ,给出了计算激光等离子体软X射线源在某一波长光谱强度的公式     

软X射线Bragg-Fresnel二维聚焦镜的设计理论和方法

Ｘ射线Ｂｒａｇｇ－Ｆｒｅｓｎｅｌ元件是近十年发展起来的一种用于Ｘ射线波段的新型光学元件。本文介绍一种具有二维聚焦效能的Ｂｒａｇｇ－Ｆｒｅｓｎｅｌ元件的设计理论和方法。设计中采用衍射理论并用Ｃ语言编制计算机程序系统对衍射图形进行设计。对于使用波长１３．８ｎｍ，入射角５°，使用焦距２００ｍｍ的使用条件，设计结果为３５Ｍｏ／Ｓｉ双层多层膜，周期厚度７．１４ｎｍ，理论反射率约为６０％；衍射图形共４００个环带，最内环半宽度５２．５μｍ，最外环宽度１．３μｍ。     

Mo/B4C软X射线多层膜结构特性研究

在6.7<λ<10.0nm波段选择Mo/B₄C作为多层膜材料,并采用磁控溅射法制备出多层膜样品.这些多层膜样品的周期结构为3.35nm～5.52nm.采用X射线衍射仪和透射电镜(TEM)对样品的微观结构进行研究.结构表明,这些多层膜样品的结构质量很高,并有很好的热稳定性.     

《中国光学》约稿信

正尊敬的光学科技工作者:《中国光学》自2008年创办以来,一直坚持服务科研、服务产业的办刊宗旨,学术质量和编辑质量都有明显的提高,标准化和规范化向国际期刊靠拢,期刊实行网络化管理,点击率和单篇下载量逐日攀升。经中国光学学会常务理事会讨论通过,自2012年起《中国光学》成为中国光学学会会刊,由中科院长春光机所与中国光学学会共同主办,这对提高期刊的学术水平和影响力,打造光学领域精品期刊具有重要意义。