研究束破不稳定的色散关系法

利用色散关系法示解束破不稳定性（ＢＢＵＩ）的基本方程，确定ＢＢＵＩ的最大增长率公式，考察并决定ＢＢＵＩ的增长率的物理参数。结果表明，由本法所确定的ＢＢＵＩ增长率与常磁场情况下用傅立叶变换法的得的结果相同。     

FTO客体3m闪光照相的Monte Carlo研究

研究了客体模型FTO的闪光照相系统X光输运过程,给出了直穿照射量、散射照射量、直散比、直穿照射量能谱、散射照射量能谱、直穿X光通量能谱和散射X光通量能谱在记录平面的空间分布。结果表明：后锥是照射量散射成分的主要来源,后锥照射量占总散射量97%;后锥也是造成散射的空间分布不均匀的主要器件,这一不均匀性高达58%。照相系统的最小直散比非常小,表明锥造成的散射已经严重地淹没了直穿（轫致辐射）信号。计算中使用高空间分辨率记录法进行分点,合成图像对吸收系数的复原结果与国外报道的结果相符。     

闪光机照射量及其角分布的参量依赖关系

系统研究了电子束能量、发射度、击靶半径和电子束横向分布对闪光机靶前1m处X-射线的照射量及其角分布的影响。研究结果表明, 电子束能量、发射度、击靶半径的影响很大, 在闪光机的总体设计中必须加以认真考虑。     

高功率电子束横向分布特性的间接测量

用调制传递函数方法间接地确定高功率电子束的横向分布特性, 结果表明, 这一横向分布可以用具有一定比例的高斯分布和本涅特分布的某个组合来表征特性。     

校正磁场和cos/sin线圈的设计

介绍了控制束心corkscrew运动的原理,给出了用cos/sin线圈产生校正磁场方法并比较两种设计的结果。指出用较严格设计的cos/sin线圈能更有效地调节校正磁场。     

闪光照相中光子散射照射量的解析分析

考虑了光子与物质的三种相互作用，用解析分析法确定光子在材料中能量的一次散射转换几率，并由此求得闪光照相系统中成像平面上的散射表达式。     

密度提取中吸收系数的使用

研究了能谱效应的影响，进行了理想的MC（Monte Carlo）数值闪光照相。能谱效应是由不同能量的X光与材料发生作用的微观截面不同引起的。能谱效应降低了密度提取的精度，因而在密度提取中需要考虑能谱效应，即使用反应能谱效应的有效吸收系数，而不是单能吸收系数。在闪光照相中能谱效应体现为：光路上面质量ρ（l）l越大，有效质量吸收系数μρ^-（l）越小；面质量越大，对应的自洽光程也越大，即μρ^-（l）ρ（l）l越大。     

高亮度注入器腔形径向电场的线性化

讨论了驻波腔内射频场力对电子束横向运动的影响，求出了使加速腔内径向电场线性化的阳极等位线方程。并给出了使径向电场Ｅ＿ｒ线性化的加速腔鼻锥设计所应遵循的原则，以及驻波腔径向电场线性化程度的判据。     

束发射度对X射线照射量的影响

在闪光照相中，用Ｍａｒｔｉｎ公式求得的１ｍ处Ｘ射线照射量往往偏高。考虑电子束的发射度和横向半径的影响，利用蒙特卡洛方法抽样束内电子在靶上的入射条件后，可以定量确定闪光机靶前１ｍ处Ｘ射线照射量的数值及其角分布。研究结果表明：在击靶时束半径一定的情况下，Ｘ射线照射量随发射度的增加而减小；在束发射度一定的情况下，照射量随束半径分布有一极值，当束半径小于ｒｂｍ时，照射量随束半径ｒｂ增加而迅速增加，但当ｒｂ