闪光照相系统中的光学传递函数及应用

介绍闪光照相系统中光学传递函数(OTF)的概念、组成和调制传递函数(MTF)的测量方法，重点说明了光源调制传递函数用于确定光源尺寸和被照物体特性的方法。     

高功率电子束横向分布特性的间接测量

 用调制传递函数方法间接地确定高功率电子束的横向分布特性, 结果表明, 这一横向分布可以用具有一定比例的高斯分布和本涅特分布的某个组合来表征特性。     

高Z材料中X光散射规律的数值研究

用数值模拟研究以钨圆柱体或钨球作为客体的闪光照相系统中记录平面上散射成分随柱半径R、柱体高度H或球半径R变化的规律。结果表明：当柱体R固定时，散射照射量先随H增加而先增加后减小，最大散射发生在H=3cm处；当H固定时，散射照射量随柱体R增加而增加。在球形几何无后锥时，散射照射量先随球外半径R增加而先增加后减小，最大散射发生在R=1．75cm处；后锥是散射的主要来源。直散比既随H增加而单调减小，也随柱体R增加而单调减小；对于球形几何，直散比随球的外半径R增加而单调减小。     

校正磁场和cos/sin线圈的设计

 介绍了控制束心corkscrew运动的原理,给出了用cos/sin线圈产生校正磁场方法并比较两种设计的结果。指出用较严格设计的cos/sin线圈能更有效地调节校正磁场。     

高能闪光照相X射线能谱的理论研究

 用Monte-Carlo方法模拟球对称客体系统的闪光照相中X光光子的输运过程。分别在单客体情况和全系统情况下,给出了记录平面上各种光子谱及其在记录平面上的空间分布。结果表明：记录区边缘的谱形与源光子谱形很相似;深穿透区各点之间的谱形差别不大,谱平均光子能量近似相同,并且位于使高Z材料的光子线吸收系数最小的能量范围内。 结果还表明,高能闪光照相的光子能谱会因客体中光子的光程不同而有较大的差别。     

闪光照相中散射照射量的解析分析

 考虑了光子与物质的三种相互作用方式，用解析分析法确定光子在材料中能量的一次散射转化几率，并由此求得闪光照相系统中成像平面上的散射和最小直散比的表达式。用该公式求得的FTO客体的最小直散比约为1.0，与美国NIH实验结果0.5~1.5近似符合。     

热晕小尺度不稳定性解析理论的推导

本文在傍轴波近似和等压近似下推导出通过均匀介质传播的高能激光束小尺度不稳定性的线性解析理论。对扰动量方程在横向上进行傅里叶变换、在纵向和时间上进行各自的拉普拉斯变换,可以得到扰动量的解析表达式。最后,通过拉普拉斯反演后求得扰动量之傅里叶分量的解析解是用传播核(或格林函数)K_k(z,t)来表示的。     

多孔准直器性能的数值研究

在高能闪光照相中,多孔准直器法是用来扣除记录平面上照射量散射分量的技术。本文中初步研究了四种情况下多孔准直器的性能：（ａ）改变准直角θ;（ｂ）增加后保护锥到记录平面的距离;（ｃ）使用陡坡准直器;（ｄ）改变准直孔的孔径。结果表明：对全尺寸客体的闪光照相系统实施以上前三条措施之后,尽管前记录平面上的直散比ＤＳＲ与后记录平面上的照射量ＤＤ成分百分比均有所提高,但多孔准直器性能仍然不理想;也就是说,后记录     

闪光照相光源尺寸和分布特性的确定

简述了一般光学的光学传函数（ＯＴＦ）理论。将此理论中的调制传递函数（ＭＴＦ）概念引用到由刃边作为客体的闪光照相系统，确定不同分布类型的面源－刃边系统的ＭＴＦ，从而确定各种分布下的等效尺寸。对实际的闪光照相情况，利用刃边作为客体，可以间接测量出ＭＴＦ的实际分布，从而求出光源等效尺寸，并用不同份额的ＧＳ分布和ＢＮＴ分布的组合来表征光源的分布特性。     

高能质子照相的成像方程

与X射线闪光照相相比,GeV级质子照相因质子的穿透能力更强而更能满足流体动力学最佳光程、更小不确定度的要求。质子照相用于提取阴影客体信息的过程比X射线闪光照相复杂。为了便于分析质子照相过程及其特性,以质子照相的输运过程为基础,逐步考虑了质子与物质相互作用的各种过程——核反应、多次库仑散射、准弹性散射和弹性散射,并获得含各种过程的质子照相理论计算表达式。在含准直的系统中,理论计算公式中包含了多次弹性散射和准弹性散射项。通过与QMCPrad计算结果的对比得知弹性散射高斯近似下的理论计算结果与蒙特卡罗方法(MC)计算结果一致,与更准确的"黑体"模型的相对误差为3%~5%。这意味着在某种程序上,当研究质子照相规律或设计系统时,高能质子照相的理论计算公式能够替代MC模拟。