光谱法研究核固红-Cu2+-阿莫西林体系及其分析应用

利用阿莫西林与Cu2+络合导致Cu2+对核固红的荧光猝灭程度减弱的特性,建立了荧光增强分析法检测阿莫西林含量的新方法。讨论了体系的紫外-可见吸收光谱、荧光光谱以及酸度、试剂浓度、反应温度、反应时间和离子强度等因素对体系荧光强度的影响。在最佳实验条件下,荧光强度的增强程度与阿莫西林质量浓度呈线性关系,线性范围为0.40~15.0μg/mL,检出限为0.29μg/mL。考察了一些金属离子和药物赋型物对体系的影响。将方法用于市售阿莫西林胶囊分析,回收率在100.4%~103.4%之间。     

金属离子对溴碘化银乳剂微晶体的掺杂效应——Ⅱ. Pb2+的掺杂

应用常规感光测定法、电镜法、介电损耗仪和微波光导仪研究了Pb²⁺对卤化银乳剂微晶的掺杂效应。结果表明:Pb²⁺使乳剂的感光度降低,灰雾明显升高,而反差变化不大。由电子显微镜照片表明,Pb²⁺对乳剂微晶大小和形状影响不大,但是离子电导和微波光导数据显示出,Pb²⁺的掺杂使离子电导率降低0.15个对数单位,电子电导成倍降低。上述结果暗示:Pb²⁺对照相性能的影响不是由于乳剂微晶大小和形状的变化,可能由以下两个原因引起:(1)Pb²⁺起了深的电子陷阱作用,使光电子徙动路程缩短,影响潜影的形成效率,(2)Pb²⁺(或PbBr₂)成为复合中心,加速光电子与空穴的复合,催化显影过程。     

核能与聚变裂变混合能源堆

未来20年将是核能发展的一个关键时期.2035年左右,快堆有望投入商用;磁约束聚变、激光聚变、 Z箍缩聚变也都有演示堆计划.聚变演示堆存在纯聚变与聚变裂变混合能源堆两种可能,而后者可降低聚变功率,缓解高能中子对材料的辐照损伤.另外,氘氚聚变供能时间有限.文章介绍了混合能源堆的概念.能源堆可充分利用铀资源,且后处理不涉及铀钚分离,有很好的防扩散性能.裂变堆、聚变堆、能源堆共同发展,可望使核能在不太长的时间内获得大规模应用,并可为人类提供千年以上的能源供应.     

可变入射距离平焦场谱仪的概念设计

从理论上证明了可变入射距离的平焦场软X射线谱仪设计的可行性。对于标称栅距σ0＝（1/1200）mm和象差修正项M20＝-20/R, R分别为5649和6000mm的光栅, 对不同的入射距离, 计算出与平焦场相对应的入射角和成象距离, 使一定波长范围内的光谱可以被聚焦在一个平面上,从而提高了变栅距光栅使用的灵活性。同时可通过取消谱仪中入射狭缝, 使谱仪的光通量提高约1个量级。     

Ag－与He原子碰撞的单电子脱附截面的实验研究

对Ag-与He原子碰撞的单电子脱附过程进行了实验研究,使用增长率方法在5~10keV能量范围内对脱附截面进行了测量,得到在20keV时的典型值为6.6×10-6 cm2。实验结果的不确定度约为8%。     

同轴引射强激光气动输出窗口实验研究

给出的同轴引射加抽气联合式气动窗口,采用环形喷嘴可调喉道面积和在腔室内装配有带节流小孔的多孔板结构,并在对该窗口进行了实验研究的基础上,报导了最近的工作,研制成功全自动远程操作控制系统,实现了阀门开度随气瓶内压力变化而自我迅速调节的功能,保证了气动窗口的密封性能和输出光束的光学质量,同时可由单瓶供气实现数十次工作的要求。在最低密封压力为0.67KPa时,耗气量为35g/s,strehl比达到0.98,在高功率氧碘化学激光器进行了联机试验,获得了满意效果。     

声光调Q Nd:YVO4晶体级联拉曼倍频窄脉宽657 nm激光器

本工作对声光调Q的Nd:YVO₄晶体级联自拉曼腔内二阶斯托克斯光倍频实现窄脉宽红光激光进行了研究.从改善自拉曼晶体热效应出发,综合考虑基频激光性能和提高拉曼变频性能,设计了三段式键合YVO₄/Nd:YVO₄/YVO₄晶体来提升拉曼转换效率和输出功率.选用针对二阶斯托克斯波长倍频的室温临界相位匹配切割的LBO晶体作为非线性光学晶体.其匹配角度(θ=86.0°,φ=0°)非常接近非临界相位匹配,具有较小的走离角,有利于实现高效的倍频转换效率.通过抽运光束腰位置、声光调Q重复频率等参数优化,在14.2 W抽运功率和60 kHz重复频率下,获得最高平均输出功率1.63 W、转换效率11.5%的657 nm红光激光输出.657 nm红光的脉冲宽度为11.5 ns,窄于普通掺钕激光晶体1.3 μm波段激光倍频实现的红光激光,表明通过级联拉曼倍频技术可发挥拉曼过程脉宽压缩特性实现较窄脉宽红光激光输出.     

WO3对掺铒碲酸盐玻璃光谱性质的影响

制备了掺铒碲钨酸盐玻璃(80-x)TeO₂-(10+x)WO₃-8BaO-2Na₂O-0.5Er₂O₃(x=0,5,10,15,20)玻璃,研究了WO₃对掺铒碲钨酸盐玻璃的光谱性质. 研究发现：随着WO₃含量的增加,Ω₄,Ω₆先增加后减小,受 关键词： 碲钨酸盐玻璃 3+光谱性质')" href="#">Er³⁺光谱性质 Judd-Offelt理论     

纳米晶粒多晶Si薄膜的低压化学气相沉积

利用低压化学气相沉积(LPCVD)方法,以充Ar的SiH4作为反应气体源,在覆盖有热生长SiO2层的p-(100)Si衬底上制备了具有均匀分布的纳米晶粒多晶Si膜(nc-poly-Si).采用扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)和拉曼谱等检测手段,测量和分析了沉积膜层的表面形貌、晶粒尺寸与密度分布等结构特征.结果表明,nc-poly-v膜中Si晶粒的尺寸大小和密度分布强烈依赖于衬底温度、SiH4浓度与反应气压等工艺参数.典型实验条件下生长的Si纳米晶粒形状为半球状,晶粒尺寸约为40nm,密度分布约为4.0×1010cm-2和膜层厚度约为200nm.膜层的沉积机理分析指出,衬底表面上Si原子基团的吸附、迁移、成核与融合等热力学过程支配着nc-poly-Si膜的生长.