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张进 《新疆大学学报(理工版)》2002,19(4):495-499
简述了在城镇土地定级成图过程中,如何利用AutoCAD和FoxPro两种类型的软件,进行不同数据之间的收集、整理、汇总、计算、转换直到成图的综合应用。对这两种软件的应用以实际的工作步骤为依据,从理论到最后成果图的完成作了简要的对比和分析。使我们认识到在实际工作中,如何充分利用各种应用软件的不同功能相互调用,以解决不同领域,不同专业的实际应用问题。 相似文献
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以酰氯或酸酐与N-(3′-氨苯基)氮杂冠醚反应合成了一系列含长脂链基团的单氮杂冠醚两亲分子。电镜观测结果表明:系列两亲分子在稀溶液中均能自组织稳定的以双分子膜为基本结构的囊泡,其大小为30~150nm,泡壁厚度为5~25nm;并用UV-Vis和微量差示扫描量热研究了双分子膜中分子的聚集态和相变过程。 相似文献
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两种含5-取代苯并-10-氮杂-15-冠-5的Schiff碱锰(III)、钴(II)配合物( , )及其吗啉基取代的类似物( , ) 用于催化α-吡啶甲酸对硝基苯酯(PNPP)水解。探讨了氮杂冠醚Schiff 碱配合物催化PNPP水解的动力学和机理;提出了配合物催化PNPP水解的动力学模型;考察了配合物结构、反应温度、缓冲溶液pH值等对PNPP水解反应的影响。结果表明,在25℃条件下随着缓冲溶液pH值的增大,催化PNPP水解速率提高;含取代苯并-10-氮杂-15-冠-5的Schiff碱配合物表现出更高的催化活性。根据阿累尼乌斯公式和不同温度下的表观一级常数求出水解反应的表观活化能。 相似文献
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以提高锂离子电池正极材料LiNi0.4Co0.2Mn0.4O2的循环性能为目的,以LiNO3和Al(OH)3为原料,采用固相反应法制备了α-LiAlO2包覆LiNi0.4Co0.2Mn0.4O2正极材料。微观组织结构分析结果表明,包覆热处理后LiNi0.4Co0.2Mn0.4O2颗粒表面形成了一层不均匀絮状包覆物α-LiAlO2。电化学测试表明,α-LiAlO2包覆处理有效减缓了充放电循环过程中总阻抗的增加,改善了材料的循环性能。3wt% LiAlO2包覆的正极材料在室温1C充放电循环100次后,平均每次衰减率由包覆前的0.19%下降到0.14%。 相似文献
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在乙二醇中,以聚乙烯吡咯烷酮(PVP)为分散剂,抗坏血酸(VC)为还原剂和抗氧化剂,还原CuSO4制得铜胶体溶液。 通过XRD、UV-Vis与共振光散射(RLS)光谱对铜胶体进行表征。 结果表明,铜胶体为面心立方晶体结构的0价铜,在592~602 nm呈现典型的等离子共振吸收峰,体系具有明显的RLS特征,最大散射波长在468 nm。 考察了反应条件、体系的稳定性与共存离子对乙二醇中铜胶体RLS的影响。 结果表明,适宜的反应条件为:试剂按照VC、CuSO4和PVP的加入顺序,3种物质量的比按照n(VC)/n(Cu2+)=15、n(PVP-K30)/n(Cu2+)=1.4;反应温度60 ℃;反应时间1 h,反应得到的铜胶体可稳定放置1 d。 在适宜条件下,ρ(Cu2+)在5.12~12.8 mg/L范围内与散射光强度(ΔIRLS)成正比,回归方程为ΔI=7 420.2ρ-631.8(r=0.9962),检出限(3σ)为0.63 μg/L。 0.64 mg/L MnSO4、CdSO4和ZnSO4,1.28 mg/L KI,64 mg/L Na2CO3和Ca(OH)2,960 mg/L CH3CH2OH,640 mg/L CH3OH和320 mg/L CH3CH2CH2OH均不干扰10 mg/L Cu2+溶液的测量。 由此建立一种利用RLS光谱测定乙二醇中铜离子的简便方法。 相似文献
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以工业固体废弃物粉煤灰漂珠(fly ash cenospheres, FACs)为载体, 采用水热法制备了新颖的漂珠负载Bi2WO6复合材料(Bi2WO6/FACs), 通过X射线衍射(XRD), 扫描电子显微镜(SEM), X-射线光电子能谱(XPS), 和紫外-可见漫反射光谱(DRS)技术对其进行了表征。XRD数据显示了正交相Bi2WO6的特征衍射峰。DRS结果证实了引入FACs后Bi2WO6对可见光的吸收增强。在可见光的照射下, 以亚甲基蓝溶液的光催化降解评价了Bi2WO6/FACs复合材料的光催化性能。结果表明:Bi2WO6/FACs的光催化性能优于纯Bi2WO6的, 其一级反应速率常数(k)为后者的2.4倍。尤其是由于漂珠质轻中空的特性, Bi2WO6/FACS复合光催化剂可长时间漂浮于水面, 既能充分吸收光能, 又有利于催化剂的回收和重复利用。 相似文献
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在离子束抛光工艺过程中,材料确定性去除特性对预测光学元件的各工位材料去除量和驻留时间具有极其重要的作用。采用射频离子源对熔石英光学元件的离子束刻蚀特性进行了研究,利用ZYGO激光干涉仪获得准确的去除函数,系统分析了气体流量、屏栅电压、离子束入射角和工作距离等因素对熔石英去除函数的影响,并分析了各单一工艺因素微小扰动时,材料峰值去除率、半高宽和体积去除率的相对变化率。实验结果表明,相同工作真空条件下,工作气体质量流量的微小变化对去除函数影响极小,在典型的工艺条件下,屏栅电压在±5 V、离子束入射角±1°、工作距离在±0.5 mm范围内变化时,熔石英峰值去除率、体积去除率和峰值半高宽的相对变化均小于5%,去除函数具有较好的确定性和稳定性。 相似文献