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31.
本文研究了Sm_2(FeNiCoM)_(17)合金(M为非磁性组元)的磁性。样品由六角结构无序型的2∶17主相及少量FeNi合金杂相组成。在六角结构的e轴方向(易磁化方向)观察到下述异常现象:低温(273K以下)时的磁化及反磁化曲线发生明显的跃变,跃变时相应的磁场H_r随温度下降而增大;磁滞迴线是蜂腰型的,温度愈低蜂腰愈明显;升温时磁化强度随温度变化(1.5K至居里点T_C)的曲线上出现极大值,其相应的温度T_t随磁场增大而降低;降温时观察到了热磁滞后现象。但在基面(难磁化方向)上及Co含量增多(>18at%)时,样品却表现了正常的铁磁行为。本文提出用磁矩非共线结构排列的自旋再取向相变来解释上述异常现象,并给出自旋倒向所需越过的能垒高度U=9.2×10~(-15)erg,用设想磁结构的模型得到的磁化强度的计算值与实验值也符合得较好。 相似文献
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33.
设计并调试了闪光二号加速器气体主开关同步触发系统。该系统主要由同步控制部分和高压脉冲形成部分构成。整个触发过程包括同步信号的引出、整形滤波、快速比较电路传输、前级脉冲形成、高压脉冲产生。通过对同步信号的整形处理,解决了发生器电流上的高频信号干扰问题;经过快速比较电路和前级脉冲后,选取了同步信号开始工作的时间点,并形成十几V的触发信号;高压脉冲形成部分主开关采用场畸变结合预电离的方式,该结构的气体开关时间响应为50 ns,抖动小于5 ns,满足使用要求。调试结果表明:该系统输出脉冲电压幅值100 kV,前沿小于10 ns,系统的工作时延440 ns,抖动13.5 ns;可通过增加电缆长度来控制触发信号到达气体开关的时刻,实现气体主开关与Marx发生器的延时同步工作。 相似文献
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35.
初中学生在做平面几何习题时,遇到必须添置辅助线才能解决的题目,往往是无处下手,甚至是“胡思乱添”,达不到解题的目的。因此,学生普遍对较为综合的几何问题望而生畏。为了提高学生解平面几何题的能力,我们除抓好对学生的基础复习外,还重点加强了平面几何 相似文献
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为了说明问题的提出,现将不同资料中查到的金刚石、石墨熔点列表对比如下:(表一) 从上列数据可以看出: <1> 资料来源不同,金刚石、石墨的熔点也不同; <2> 有的资料只提供其中一种物质的熔点; <3> 有的资料提供的金刚石、石墨熔点是不确定值(大于3500℃); <4> 金刚石熔点比石墨高,或者相反。 相似文献
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本文导出了手征介子-夸克Soliton的量子涨落方程,并计算了介子-Hedgehog重子的散射相移.我们发现:手征介子-夸克模型(CMQM)对涨落是稳定的,并有共振态出现,其共振宽度与实验值符合较好,但共振能量仅是实验值的一半. 相似文献
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以闪光二号加速器为研究平台, 建立了微分环阵列和Rogowski线圈同时监测二极管电流的方法,监测了二极管绝缘体表面的滑闪现象。根据电流探头测量结果的差异,分析了绝缘体滑闪对电子束流参数的影响。二极管绝缘体出现滑闪,位置附近的微分环波形严重畸变,其它位置的微分环和Rogowski线圈测量结果基本一致。采用距离滑闪位置较远的微分环结果处理二极管束流参数,相对于不出现滑闪时的结果,束流强度和总能量没有明显的变化。绝缘体滑闪沿面局部放电,能量损失较小,尚未对电子束流造成较大影响。 相似文献
39.
40.
We report the simulation results on the thickness uniformity of optical coatings deposited on spherical substrates by optimizing the geometric configuration parameters, such as tilting angle of the substrate holder and position of the evaporation source in a 1 000-mm-diameter planetary rotation stage (PRS). We reveal that good film uniformity on convex spherical surfaces or flat substrates, as well as concave surfaces with weak to moderate curvatures can be obtained through appropriate tilting of the substrate holder. For 300-mm-diameter substrates with clear aperture to radius of curvature (CA/RoC) between 0.3 and 0.7, the achievable film uniformity is above 99%. The source position is optimized to achieve good film uniformity. 相似文献