首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   794篇
  免费   263篇
  国内免费   203篇
化学   385篇
晶体学   15篇
力学   64篇
综合类   25篇
数学   232篇
物理学   539篇
  2024年   6篇
  2023年   21篇
  2022年   33篇
  2021年   27篇
  2020年   34篇
  2019年   22篇
  2018年   29篇
  2017年   32篇
  2016年   24篇
  2015年   21篇
  2014年   71篇
  2013年   40篇
  2012年   49篇
  2011年   37篇
  2010年   43篇
  2009年   60篇
  2008年   56篇
  2007年   48篇
  2006年   61篇
  2005年   54篇
  2004年   57篇
  2003年   49篇
  2002年   37篇
  2001年   29篇
  2000年   23篇
  1999年   30篇
  1998年   19篇
  1997年   25篇
  1996年   20篇
  1995年   24篇
  1994年   26篇
  1993年   27篇
  1992年   21篇
  1991年   22篇
  1990年   15篇
  1989年   21篇
  1988年   8篇
  1987年   3篇
  1986年   3篇
  1985年   4篇
  1984年   10篇
  1983年   3篇
  1982年   2篇
  1980年   2篇
  1979年   5篇
  1964年   1篇
  1963年   1篇
  1960年   1篇
  1958年   1篇
  1955年   1篇
排序方式: 共有1260条查询结果,搜索用时 15 毫秒
11.
12.
本文采用解析的方法计算了应变Si1-xGex层中p型杂质电离度与Ge组分x、温度T以及掺杂浓度N的关系.发现常温时,在同一Ge组分下,随着掺杂浓度的升高,杂质的电离度的先变小,而后又迅速上升到1.在同一掺杂浓度下,轻掺杂时,杂质的电离度随Ge组分的增加先变大,而后几乎不变;重掺杂时,杂质电离能变为0后,杂质电离度为1.低温下,轻掺杂时,载流子低温冻析效应较为明显,杂质的电离度普遍较小,当掺杂浓度大于Mott转换点时,载流子冻析效应不再明显,电离率迅速上升到1.在同一Ge组分下,随着掺杂浓度的升高,杂质的电离度先变小,后变大,而后又迅速上升到1.在同一掺杂浓度下,轻掺杂时,杂质的电离度随Ge组分的增加变大;重掺杂时,杂质电离能变为0后,杂质电离度为1.  相似文献   
13.
Incident intensity, defined by the amount of particles deposited per pulse, is an important parameter in the film growth process of pulsed laser deposition (PLD). Different from previous models, we investigate the irreversible and reversible growth processes by using a kinetic Monte Carlo method and find that island density and film morphology strongly depend on pulse intensity. At higher pulse intensities, lots of adatoms instantaneously diffuse on the substrate surface, and then nucleation easily occurs between the moving adatoms resulting in more smaller-size islands. In contrast, at the lower pulse intensities, nucleation event occurs preferentially between the single adatom and existing islands rather than forming new islands, and therefore the average island size becomes larger in this case. Additionally, our results show that substrate temperature plays an important role in film growth. In particular, it can determine the films shape and weaken the effect of pulse intensity on film growth at the lower temperatures by controlling the mobility rate of atoms. Our results can match the related theoretical and experimental results.  相似文献   
14.
“阳”加速器钼丝X-pinch初步实验研究   总被引:1,自引:0,他引:1       下载免费PDF全文
 在“阳”加速器上进行了直径分别为10, 15, 20 μm, 交叉角为32°,45°,60°的钼(Mo)丝X-pinch实验。“阳”加速器产生的电流峰值约520 kA,上升时间80 ns。实验中通过X射线功率谱仪和纳秒分幅相机等仪器对Mo丝X-pinch辐射特性进行了诊断。实验表明:Mo丝X-pinch过程中会出现多次X射线爆发,箍缩过程中产生的热点辐射出能量超过3 keV的X射线,探测到的最小热点直径小于30 μm。  相似文献   
15.
散斑条纹的快速高精度处理技术   总被引:3,自引:1,他引:2  
李喜德  方强 《光学学报》1991,11(1):8-92
本文提出一种快速高精度散斑杨氏条纹(斑纹)场处理方法——同态阀值滤波法。用它实现了散斑场条纹的快速、逐点连续高精度处理。  相似文献   
16.
The quasiparticle relativistic random phase approximationmean field ground state in the response function formalism(QRRPA) is formulated based on the relativistic The pairing correlations are taken into accountin the Bardeen-Cooper-Schrieffer approximation with a constant pairing gap. The numerical calculations are performed in the case of various isoscalar giant resonances of nucleus ^120Sn with parameter set NL3. The calculated results show that the QRRPA approach could satisfactorily reproduce the experimental data of the energies of low-lying states.  相似文献   
17.
本改进了原有的本征态展开方法。通过从能量E到q=(2E)的平方根的表象变换,不仅准确地计算了在此方法中起重要作用的低能电子布居,而且大幅度地减少了计算时间。利用这个高效的方法,我们计算了在强激光作用下一个模型原子的高次谐波发射谱。  相似文献   
18.
第二节 进位加法 一、20以内的进位加法 两个一位数相加,和等于10或大于10的加法。我们称进位加法。如图所示:  相似文献   
19.
GaAs/GaInNAsSb超晶格性能的影响   总被引:1,自引:1,他引:0       下载免费PDF全文
用Keafing的价力场(valence force field)模型和蒙特卡罗方法计算了GaAs/GaInNAsSb超晶格中键的分布、原子的精确位置以及应变.用折叠谱(foldedspectrummethod)合Williamson经验赝势法计算了GaAs/GaInNAsSb超晶格应变条件下的电子结构.讨论了N和Sb原子以及超晶格单分子层数对电子结构的影响.发现导带底电子态在N原子周围的局域化减小了光跃迁矩阵元,从而影响了该超晶格的发光性能.计算并讨论了超晶格的电子和空穴的有效质量.  相似文献   
20.
潜热型热功能流体强化换热分析   总被引:4,自引:0,他引:4  
本文建立了分析带有相变微胶囊的潜热型热功能流体的流动和换热过程数理模型,应用有限差分法和移动热源法进行联合求解。计算结果表明,相变微胶囊的加入:较好地提高了流体的换热性能。获得了相变颗粒大小和体积分数对强化换热影响等结果。计算结果对该类流体的设计和应用提供了理论依据。  相似文献   
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号