关于感应起电机的一些经验

起电机的质量好坏,对起电与否固然有着很大关系,但是使用的不得法,无论质量多好,也不会得到好结果的。我们都知道起电机是由于感应产生大量电荷的。如果不起电,就认为多磨擦就会有电,这是很不对的,如果没有障     

迈克尔孙干涉仪测长的校正

讨论了非点光源及光源中心不在光轴上时，用迈克尔孙干涉仪测长所引起的样正量。     

利用介孔材料制备碳纳米管的形貌、结构和Raman散射研究

以碳氢气体为反应物,利用化学气相沉积方法,在不同的衬底上制备了碳纳米管。研究了不同衬底对碳纳米管生长方式的影响。对碳纳米管的形貌和结构进行了观察研究,在介孔二氧化硅衬底上制备了取向生长的碳纳米管。碳纳米管具有很高的密度和纯度。研究了取向碳纳米管的Raman谱,分析了碳纳米管的Raman共振特性与其微观结构的关系。     

Ce3+,Eu2+共掺Ba3Si6O12N2荧光粉发光特性及能量传递研究

通过高温固相法制备了一系列Ce3+/Eu2+共掺杂的Ba3Si6O12N2,利用X射线衍射(XRD)研究了其晶体结构.研究表明,Ba3Si6O12N2∶ Ce3+,Eu2+荧光粉在338 nm光激发下可以发射525 nm的绿光,且具有较大的半峰宽.研究还发现,单掺Ce3的发射光谱和单掺Eu2+的发射光谱存在交叠,同时Ce3+的5d1最低能级能量低于Eu2+的4f65d1最低能级,这二者共同证实了可能存在Ce3+到Eu2+的能量转移现象.同时还研究了Ce3+浓度对Ba(2.7-y)Si6O12N2∶0.3Eu2+,yCe3+(0≤y≤0.1)系列荧光粉发光强度和波长的影响.热猝灭性能研究表明,Ce3+引入可显著影响体系的热猝灭性能.     

奶酪中抗生素抗性基因检测及奶酪分离乳酸菌耐药性分析

抗生素抗性基因与细菌耐药性密切相关,其在食品中的存留状况越来越受到关注。奶酪是一种即食性发酵食品,在我国的消费量呈快速增长的趋势,本研究利用荧光定量PCR检测技术对国内外干酪和再制干酪样品中8大类抗生素抗性基因进行了检测,以期揭示其在奶酪制品中的存留和分布特点。结果显示:干酪和再制干酪这两类奶酪中存留了高丰度的抗性基因,除万古霉素类抗性基因外,其余7大类抗性基因在干酪和再制干酪样品中均检出,再制干酪中的各大类抗性基因检出率明显低于干酪样品,其中再制干酪中检出率较高的是氨基糖苷类、四环素类和大环内脂类-林可酰胺类-链阳性菌素B(MLSB)类抗性基因,干酪样品中检出率较高的是FCA(氟喹诺酮类、喹诺酮类、氟苯尼考、氯霉素和酰胺醇)类和氨基糖苷类抗性基因。分离自样品的18株乳酸菌药敏测试结果显示:耐药率较高的药物为磺胺恶唑(90.9%)和苯唑西林(86.36%);敏感率较高的是四环素(100%)和氨苄西林(100%)、氯霉素(81.8%);中介率最高的是环丙沙星(72.7%)和诺氟沙星(67.9%),上述研究结果表明市售奶酪中残留的抗生素抗性基因是一个不容忽视的问题。     

饱和砂性土流变模型的试验研究

正确合理的土体本构模型确定是地面沉降模拟的关键之一。上海和江苏地区多年来野外分层标的实际观测资料表明该区含水层系统砂层变形具有流变特征,表现出变形滞后于含水层水位变化的现象。本文基于粘弹性理论,选取了常州含水层系统原状砂性土样进行单轴压缩试验,分析了砂性土流变荷载曲线,并选择现有的相关本构模型进行识别,从而确定能更好反映研究区土体变形规律的流变模型。结果表明,研究区砂性土可采用Burgers模型进行描述,反演获得的4个流变参数随荷载的增加表现出一定的规律性。     

饮用水含氮消毒副产物N-亚硝基二甲胺前体物研究进展

N-亚硝基二甲胺(NDMA)作为一种新发现的饮用水消毒副产物,由于其具有高致癌风险,已逐渐成为水环境化学研究领域的一个热点。本文介绍了NDMA的相关背景,阐明了NDMA在水中的形成机制,主要包括亚硝化和非对称二甲肼氧化两种途径,评述了关于NDMA前体物的相关研究及去除NDMA前体物的各工艺性能。     

静电粉末喷涂法制备不同熔融指数聚醚醚酮涂层的机械和摩擦学性能

通过静电粉末喷涂法在不锈钢基材上制备了不同熔融指数的聚醚醚酮(PEEK)涂层.熔融涂层在冰水混合物中淬火得到无定形涂层,将无定形涂层在260℃退火处理30 min得到半结晶涂层.X射线衍射(XRD)测试结果表明,退火处理使不同熔融指数的PEEK涂层从开始的无定形结构转变成为半结晶结构.PEEK涂层的硬度和摩擦学性能研究结果表明,在相同条件下结晶处理,PEEK熔融指数越大,结晶度越高.与无定形涂层相比,不同熔融指数PEEK的半结晶涂层的硬度更高,摩擦系数和磨损率更低.熔融指数较大的PEEK-B和PEEK-C均能形成平整的涂层,摩擦系数和磨损率稳定,熔融指数对其影响不大.半结晶涂层B和C的摩擦系数低至0.15以下,磨损率低至20×10-6mm3/(N·m)以下,更适合静电喷涂制备PEEK涂层.