全文获取类型
收费全文 | 6558篇 |
免费 | 1995篇 |
国内免费 | 2725篇 |
专业分类
化学 | 4438篇 |
晶体学 | 176篇 |
力学 | 636篇 |
综合类 | 336篇 |
数学 | 1481篇 |
物理学 | 4211篇 |
出版年
2024年 | 53篇 |
2023年 | 195篇 |
2022年 | 282篇 |
2021年 | 202篇 |
2020年 | 169篇 |
2019年 | 230篇 |
2018年 | 252篇 |
2017年 | 238篇 |
2016年 | 237篇 |
2015年 | 252篇 |
2014年 | 454篇 |
2013年 | 314篇 |
2012年 | 330篇 |
2011年 | 328篇 |
2010年 | 343篇 |
2009年 | 401篇 |
2008年 | 403篇 |
2007年 | 375篇 |
2006年 | 449篇 |
2005年 | 418篇 |
2004年 | 382篇 |
2003年 | 344篇 |
2002年 | 283篇 |
2001年 | 310篇 |
2000年 | 302篇 |
1999年 | 347篇 |
1998年 | 300篇 |
1997年 | 340篇 |
1996年 | 273篇 |
1995年 | 295篇 |
1994年 | 272篇 |
1993年 | 271篇 |
1992年 | 261篇 |
1991年 | 260篇 |
1990年 | 193篇 |
1989年 | 168篇 |
1988年 | 100篇 |
1987年 | 84篇 |
1986年 | 94篇 |
1985年 | 78篇 |
1984年 | 87篇 |
1983年 | 74篇 |
1982年 | 62篇 |
1981年 | 32篇 |
1980年 | 24篇 |
1979年 | 16篇 |
1978年 | 11篇 |
1965年 | 9篇 |
1958年 | 9篇 |
1957年 | 9篇 |
排序方式: 共有10000条查询结果,搜索用时 31 毫秒
941.
A general scheme of generating N00N states of virtually-excited 2N atoms is proposed. The two cavities are fibre-connected with N atoms in each cavity. Although we focus on the case of N=2, the system can be extended to a few atoms with N>2. It is found that all 2N atoms can be entangled in the form of N00N states if the atoms in the first cavity are initially in the excited states and atoms in the second cavity are all in the ground states. The feasibility of the scheme is carefully discussed, it shows that the N00N state with a few atoms can be generated with good fidelity and the scheme is feasible in experiment. 相似文献
942.
采用基于密度泛函理论(DFT)的平面波赝势(PWP)方法,研究了元素替代对Mg2NiH4释氢性能的影响. 计算给出了晶胞参数、电子态密度、原子间的键序和生成焓,分析了氢化物的结构稳定性和原子间成键作用之间的关系. 计算结果表明,生成焓的计算值随替代元素M(Ti,V,Cr)的变化趋势和实验测定的结果一致,且Ti的替代较好地降低了Mg2NiH4的结构稳定性,提高了Mg2NiH4的释氢性能. 分析电子结构可得,Ni(h)–H和M–H间的相互作用是影响Mg2NiH4结构稳定性的主要因素,替代元素正是通过改变M–H的相互作用来提高Mg2NiH4的释氢性能. 相似文献
943.
944.
945.
946.
依据离化杂质散射、声学声子散射和谷间散射的散射模型,在考虑电子谷间占有率的基础上,通过求解玻尔兹曼方程计算了不同锗组分下,不同杂质浓度时应变Si/(001)Si1-xGex的电子迁移率.结果表明:当锗组分达到0.2时,电子几乎全部占据Δ2能谷;低掺杂时,锗组分为0.4的应变Si电子迁移率与体硅相比增加约64%;对于张应变Si NMOS器件,从电子迁移率角度来考虑不适合做垂直沟道.选择相应的参数,该方
关键词:
电子谷间占有率
散射模型
锗组分
电子迁移率 相似文献
947.
文章研究了SOI衬底上SiGe npn异质结晶体管集电结耗尽电荷和电容.根据器件实际工作情况,基于课题组前面的工作,对耗尽电荷和电容模型进行扩展和优化.研究结果表明,耗尽电荷模型具有更好的光滑性;耗尽电容模型为纵向耗尽与横向耗尽电容的串联,考虑了不同电流流动面积,与常规器件相比,SOI器件全耗尽工作模式下表现出更小的集电结耗尽电容,因此更大的正向Early电压;在纵向工作模式到横向工作模式转变的电压偏置点,耗尽电荷和电容的变化趋势发生改变.SOI薄膜上纵向SiGe HBT集电结耗尽电荷和电容模型的建立和扩展为毫米波SOI BiCMOS工艺中双极器件核心参数如Early电压、特征频率等的设计提供了有价值的参考.
关键词:
耗尽电容
SiGe HBT
SOI 相似文献
948.
949.
950.
基于k·p微扰法计算了单轴〈111〉应力作用下硅的价带结构, 并与未受应力时体硅的价带结构进行了比较. 给出了单轴〈111〉应力作用下硅价带顶处能级的移动、分裂以及空穴有效质量的变化情况. 计算所得未受应力作用时硅价带顶处重空穴带、轻空穴带有效质量与相关文献报道体硅有效质量结果一致. 拓展了单轴应力硅器件导电沟道应力与晶向的选择范围,给出的硅价带顶处重空穴带、轻空穴带能级间的分裂值和有效质量随应力的变化关系可为单轴〈111〉应力硅其他物理参数的计算提供参考.
关键词:
单轴应力硅
k·p法')" href="#">k·p法
价带结构 相似文献