橄榄苦甙的NMR数据解析

对橄榄苦甙进行了¹H和¹³C MNR检测, 通过DEPT和¹H-¹H COSY、HMQC、HMBC、NO ESY等2D NMR对其¹H和¹³C NMR数据进行了全归属和较详细的解析, 并指出其NMR数据特征.     

50MeV/A~(12)C轰击~(197)和~(209)Bi核的线动量转移

用裂变碎片折叠角技术测得50MeV/A~(12)C轰击~(197)Au和~(209)Bi靶的线性动量转移分布,得到每个~(12)C核核子线动量转移的最可几值与靶核相关,其值分别为184和173MeV/c。在线动量转移分布中,0.3附近有一小的突起,似乎可以认为是相应于弹核的α集团转移。     

纳米粒子与单晶硅表面碰撞的反弹机理研究

应用分子动力学方法模拟了纳米粒子与单晶硅(001)表面碰撞、反弹飞离的现象，分析了粒子的反弹行为、基体弹性形变和塑性形变的原子构型特征，以及碰撞过程的能量转化.碰撞后单晶硅表面形成半球形的小坑，小坑周围的基体原子呈非晶态.碰撞过程中与颗粒相邻的基体原子立即非晶化，在非晶层外面基体以可恢复的(111)［110］滑移结构存储弹性形变能.在射入过程，基体发生压缩弹性形变；颗粒反弹时基体势能振荡下降,交替形成压缩形变构型和拉伸形变构型.射入过程中存贮的压缩弹性形变能的释放为颗粒提供了反弹、飞离的能量. 关键词： 碰撞 纳米粒子 单晶硅表面 分子动力学模拟     

机械制造系统生产水平的综合评价

运用数理统计和模糊数学的某些概念，本文提出了一种评价机械制造系统生产水平的新方法，机械制造系统可以用模糊变换器来描述，这个模糊变换器比较客观和全面地揭示机械制造系统的内在规律。借助这个模糊变换器来综合评价机械制造系统具有很大的理论和实践价值，并为机械制造系统论奠定新的基础。无心磨削系统的实验研究证明了本文基本观点的正确性。     

不同掺杂的钇系-123薄膜磁通特性

我们在磁场中分别测量了最佳掺杂的YBa2Cu3O7-δ、钙0．2掺杂的Y1-xCaxBa2Cu3O7-δ及钙0．5掺杂的Pr1-xCaxBa2Cu3O7-δ薄膜的电阻温度关系．利用最近Zhang et al.[Phys．Rev．B71（2005），052502]提出的热激活能的分析方法对薄膜的磁通特性进行了分析、比较与讨论．     

Deep InP Gratings for Opto-Electronic Devices Etched by C12/CH4/Ar Inductively Coupled Plasma

Deep InP gratings are etched by C12/CH4/Ar inductively coupled plasma （ICP） at room temperature. A comparison is made between SiNz mask patterns formed by wet and dry etching. SF6 reactive ion etching is adopted for smooth and vertical sidewall. The etching conditions of C12/CH4/Ar ICP are optimized for high anisotropy, and a 1.7-μm-deep InP grating with an aspect ratio of 10：1 is demonstrated. The technique is then used for the fabrication of 1.55-μm laterally coupled distributed feedback A1GMnAs-InP laser.     

Ti-Zr-Ni单相准晶合金的室温力学性能研究

以Ti40₄₀Zr40₄₀Ni20₂₀合金为研究对象，用铜 模吸铸法制备出直径为3mm的致密单相准晶棒，通过维氏显微硬度测定和单向压缩实验方 法研究了该合金的室温力学性能 .结果表明：Ti40₄₀Zr40₄₀Ni20₂₀准晶具有良好 的弹性变形能力，室温弹性应 变可达125%.同时，它具有相对高的室温硬度（约55GPa），是普通Ti合金的15倍.T i40_{40 关键词： 准晶 Ti-Zr-Ni合金 解理断裂}     

第一届全国应用化学学术报告会在京举行

第一届全国应用化学学术报告会于8月1日至5日在北京西郊卧佛寺别墅举行。来自全国各地的科研单位、高等院校、工厂企业等200余名代表出席了会议。中国科学院长春应用化学研究所所长中国化学会应用化学委员会副主任委员王佛松主持了第一天的大会。中国科学院化学研究所名誉所长中国化学会应用化学委员会主任委员柳大纲致开幕词。他详细阐述了开展应用化学研究对促进四化建设的重要意义,指出工程师并不就