GdVO4：Eu^3＋的激发光谱特性研究

测量了GdVO4：Eu^3 在室温下的光致发光光谱;研究了不同掺杂方式和烧结气氛对多晶GdVO4：Eu^3 发光性质的影响,探讨了GdVO4：Eu^3 的激发光谱在200～350nm范围内激发带的来源和GdVO4：Eu^3 中的能量传递。在200～350nm范围内的激发带可解释为来自于钒酸根团的配体O到V的电荷迁移跃迁吸收;硝酸溶液使部分正GdVO4形成多钒酸盐,还原气氛使GdVO4产生O空位和部分V变价,影响了钒酸根团间的电荷迁移跃迁吸收和钒酸根团间、钒酸根团与Eu^3 间的能量传递。产生激发谱带蓝移和激发带间强度比例变化。GdVO4中VO4^3-的π轨道能使得VO4^3-和稀土离子(Gd^3 、Eu^3 )的电子波函数有效地重叠,从而VO4^3-和稀土离子可通过交换作用有效地传递能量。GdVO4：Eu^3 在200nm处的吸收很弱,在此位置也没有Gd^3 或Eu^3 的4f^n-1 5d的吸收和明显的4f^n高能级吸收,而激发却十分有效,可解释为由于存在VC4^3-与Gd^3 或Eu^3 的4f^n高能级间有效的能量传递所致;由于Gd^3 的特征发射恰好在基质的强激发带。且Gd^3 的特征发射没有出现,可存在Gd^3 →VO4^3-→Eu^3 的能量传递。Gd^3 和^6GJ、^6PJ能级间隔与Eu^3 的^7Fl、^5D0能级间隔相近,处于^6GJ态的Gd^3 可通过共振能量传递激发：Eu^3 到^5Dn态,这可导致Gd^3 →Eu^3 离子的能量传递。     

面积为素数6倍的海仑三角形

边长和面积都是整数的三角形称为海仑三角形 (简记为△H) .文 [1]指出△H 的面积是 6的整数倍 ,但并不是所有正整数的 6倍都可以作为△H 的面积 (如 18就不能 ) .那么哪些正整数的 6倍是△H 的面积 ?这是一个相当困难的问题 .本文讨论了 6的素数倍为△H 面积的问题 ,得出如下结     

质量摆减振结构的实验设计

设计了一种质量摆减振结构的实验装置,减振率达到77.8%.可作为本科生或研究生进行减振理论学习和研究的一种有效实验手段.     

水波色散关系测量方法探讨

介绍了一种自制的水波测量装置.该装置使用LabVIEW控制,可以用3种方法(驻波法、行波相位法和多普勒效应法)测量水波色散关系.实验比较了3种方法的优劣,并对改进提出了建议.     

具有π共轭骨架的Salen-卟啉型同、异双核配合物的合成及谱学性质

设计合成了两类具有π共轭骨架的Salen-卟啉型配体及金属配合物. 以Salen-卟啉半体及相应的醛为原料, 运用金属模板法合成了单核镍和双核镍Salen-卟啉型金属配合物. 在单核镍的基础上可得到异双核镍、锌Salen-卟啉型金属配合物. 通过核磁共振氢谱(¹H NMR)、紫外-可见(UV-Vis)光谱、傅里叶变换红外(FTIR)光谱、电喷雾质谱(ESI-MS)和荧光光谱等多种谱学手段对其结构进行了表征. 研究表明, 单核镍及异双核镍、锌配合物中, 镍离子落入Salen 部分的配位空腔, 而锌离子则是与卟啉部分形成锌卟啉大环结构。由于卟啉环流效应及分子π共轭结构的影响, 导致配体上的氢原子的化学位移向高场或低场移动. 当金属离子与配体配位之后,卟啉部分的紫外-可见光谱的Soret带和Q带均发生显著变化, 而荧光则出现猝灭现象.     

CFO可以复制

在许多公司,财务帮助企业达成战略目标、构建可持续经营模式,他们超越了传统意义上的财务管理和经营职责。     

两个双四唑胺的铜配合物的合成、结构及荧光性质(英文)

用Demko-Sharpless方法自制的双四唑胺配体,再混以乙二胺和丙二胺螯合配体,合成了2个新颖的铜的配合物Cu(bta)(en)(H2O)(1)与Cu(bta)(1,3-pda)(H2O)(2)。X-射线单晶衍射表征了2个配合物的结构。2个配合物的水溶液都表现出了双四唑胺配体的特征吸收波长与荧光发射波长。     

应用PhIO-HBF4试剂检测废水中的氯离子

利用价廉易得的PhIO-HBF4试剂,通过产生白色沉淀的方法方便地定性检测Cl-。同时,根据沉淀颜色与性质的不同,可区分Cl-,Br-,I-,S2-几种阴离子。氯离子的检出限为0.004 mol/L。     

氢化物发生-原子荧光光谱法测定食品添加剂碳酸钙中的砷

用氢化物发生-原子荧光光谱法测定食品添加剂碳酸钙中的砷,优化了仪器的工作条件,考察了酸度、还原剂和预还原剂的影响以及共存元素的干扰情况。结果表明,加入硫脲-抗坏血酸溶液后,碳酸钙中可能存在的共存元素铁、铅、镉、铜、硒、锡、铬、锌等不干扰砷的测定。方法检出限为0.0124μg/L,回收率为101.2%—102.0%,精密度为0.37%。该法具有操作简单,灵敏度高,重现性好等优点,能满足日常检验的要求。