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对以SiH4/H2及SiCl4/H2为源气体、采用 等离子体增强化学气相沉积技术制备的非晶硅薄膜和多晶硅薄膜进行了光照稳定性的研究.实验表明,制备的多晶硅薄膜并没有出现 非晶硅中的光致衰减现象,其光电导、暗电导在光照过程中没有下降反而有所上升且电导率 变化快慢受氢稀释度的制约.多晶硅薄膜的光照稳定性可能来源于高的晶化度及Cl元素的存在.
关键词:
多晶硅薄膜
稳恒光电导效应
晶界
光致衰退效应 相似文献
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设计了一个取样位置能在射频辉光放电等离子体电极间自由移动的取样装置,用质谱计测量了SiCl4等离子体的离子信号。提出了一种线性拟合的方法用于计算SiCl4等离子体的消耗率,利用测量的离子信号,计算出了SiCl4等离子体中SiCln(n=0~2)中性基团的空间分布。实验结果表明,可移动质谱取样装置的设计是合理的;用线性拟合方法得到的等离子体消耗率和中性基团的相对密度,比以前的方法得到的更精确。 相似文献
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采用等效变换的方法,把嵌套正方晶格转化为可求解的正方晶格.利用重整化群变换,我们求得了正方系统的临界点.结合本文中给出的两个变换关系,得到了嵌套正方晶格上反铁磁高斯模型的临界点为K*=-0.707b. 相似文献
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采用靶向代谢组学技术,对赣南脐橙生长过程中的主要糖、有机酸和氨基酸进行准确定量分析。结果表明,赣南脐橙不同生长阶段之间生长生理变化及相关代谢物特征差异明显,单果重量逐渐增加,果形指数略有下降。随着果实成熟糖类物质大量积累,其中蔗糖含量最高,果糖和葡萄糖含量相当。大部分有机酸在果实成熟过程中逐渐降解,总有机酸含量下降,其中柠檬酸占主导地位,占6种主要有机酸总和的90%以上。天冬氨酸是主要的氨基酸,蛋氨酸、精氨酸和脯氨酸呈现上调趋势,其余氨基酸整体呈下调趋势。糖酸比先升高后降低,最后达到最佳比例范围,表明果实在生长过程中不断改善其滋味品质。相关性分析揭示赣南脐橙生长过程中的风味特征物质包括果糖、葡萄糖、奎宁酸、亮氨酸、丙氨酸、谷氨酸和甘氨酸。构建代谢网络并结合热图分析,发现赣南脐橙果肉的滋味相关代谢物的表达在不同的生长阶段差异明显,客观反映了生长期对脐橙生长代谢和滋味品质的影响。除了研究主要滋味物质不同生长阶段代谢变化,还进行了风味评价和相关代谢物代谢网络的构建,加深对赣南脐橙营养成分和滋味有效成分特性的认识,有利于功能性脐橙产品的开发,并对优化脐橙育种以提高果实品质提供重要参考。 相似文献
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以4,6-二氯-5-(2-甲氧基苯氧基)-2,2'-双嘧啶和4-叔丁基苯磺酰胺为原料,经缩合反应制得中间体N-{6-氯-5-(2-甲氧基-苯氧基)[2,2'-嘧啶]-4-基}-4-(叔丁基苯基)-磺酰胺(3);3与乙二醇经缩合反应合成了波生坦(1),总收率81.4%。3经水解反应合成了N-{6-羟基-5-(2-甲氧基-苯氧基)[2,2'-嘧啶]-4-基}-4-(叔丁基苯基)-磺酰胺(4);4与1,2-二溴乙烷经缩合反应合成了1,2-双{[5-(2-甲氧基苯氧基)-2-(2-嘧啶-2-基-嘧啶-4-基]-4-叔丁基苯磺酰胺}-乙二醇(5),其结构经1H NMR,13C NMR和MS确证。4和5为波生坦中可能存在的杂质。 相似文献
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以SiCl4和H2为气源,用等离子体增强化学气相沉积技术,在250℃的低温下,研究氢稀释度对多晶硅薄膜结构特性的影响.实验结果表明,对于以SiCl4和H2组成的反应源气体,氢对薄膜生长特性的影响有异于SiH4/H2,在一定功率下,薄膜的晶化率随氢稀释度的减小而增加,在一定的氢稀释度下薄膜晶化度达到最大值85%;随着氢稀释度的继续减小,薄膜晶化度迅速下降,并逐渐向非晶态结构转变.随氢稀释度的减小,薄膜的光学带隙由 1.5eV减小至约1.2eV,而后增大至1.8eV.沉积速率则随氢稀释度的减小先增加后减小,在无氢条件下,无薄膜形成.在最佳氢稀释度条件下,Cl基是促进晶化度提高,晶粒长大的一个主要因素.
关键词:
多晶硅薄膜
微结构
氢稀释
4')" href="#">SiCl4 相似文献
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EDTA连续络合滴定钍和稀土存在的主要问题是在滴定钍后调节pH 5—6滴定稀土时,由于生成了Th-EDTA-指示剂有色三元配合物,指示剂被封闭,使终点无法辨认。Pribil甚至认为用EDTA或CDTA连续滴定稀土是不可能的。为了解决此问题,本文选择了指示剂和有关络合滴定条件以及矿石中常量钍和稀土的草酸盐沉淀分离条件。试验结果表明:草酸盐沉淀最佳酸度是pH1.5—2.5,此时回收率最高,以二甲酚橙为指示剂滴定钍最佳酸度是pH1.8—2.2,此时终点敏锐,高达15倍的稀土;尚无干扰;在连续滴定稀土时,本文首次提出以钙萤素及PAR为混合指示剂,在pH5.0—5.2的条件下以铜盐反滴定至萤光消失的方法测定稀土总量。由于采用了萤光滴定,所以钍量高达75mg对稀土的滴定尚无干扰,终点变化比其它指示剂明显,从而解决了钍对指示剂的封闭问题。可用以测定独居石、钍石等矿石中钍和稀土。 相似文献
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研究了SiCl4浓度对等离子体增强化学气相沉积(PECVD)系统中以SiCl4/H2为反应气体的微晶硅薄膜生长及光电特性的影响.结果表明,微晶硅薄膜的沉积速率和晶化率均随SiCl4浓度的增加而增大,而晶粒平均尺寸在SiCl4浓度小于65;时呈增大趋势,在SiCl4浓度大于65;时呈减小趋势;此外,光照实验表明制备的微晶硅薄膜具有较稳定的微观结构,具有类稳恒光电导效应,且样品的电导率依赖于SiCl4浓度的变化.此外,还讨论了Cl基基团在微晶硅薄膜生长过程中所起的作用. 相似文献