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Equivalent Trap Energy Level Extraction for SiGe Using Gate-Induced-Drain-Leakage Current Analysis
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The gate-induced-drain-leakage of MOSFETs is analyzed to better understand the sub-threshold swing degradation of SiOe tunnel field-effect transistors and their band-to-band tunneling mechanism. The numerical model of the analysis is elaborated. Equivalent trap energy levels are extracted for Si and strained SiOe. It is found that the equivalent trap energy level in SiGe is shallower than that in Si. 相似文献
353.
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通过对三值FPRM(Fixed-polarity Reed-Muller)展开式和四值列表技术的研究,提出了一种三值FPRM电路极性间转换算法,并将其应用于电路面积优化.首先根据四值RM(Reed Muller)逻辑多项式系数的计算方法,推导出三值FPRM展开式极性间系数转换算法;然后利用该算法,结合三值模代数特点以及电路面积估计模型,沿非循环格雷码极性遍历路径进行三值FPRM电路面积最佳极性搜索,得到面积最优的FPRM电路.最后对8个MCNC基准电路进行测试,结果表明:与0极性Reed-Muller电路相比,三值FPRM电路的面积平均减少56.2%. 相似文献
356.
研究了氢化微晶硅薄膜费米能级以上的带隙态密度分布与薄膜微结构关系.采用拉曼谱和红外谱表征不同H稀释比制备的微晶硅薄膜的微结构.薄膜带隙态密度分布由调制光电流的相移分析技术测得.采用三相模型(非晶相、晶相和界面相)分析了薄膜带隙态密度与薄膜微结构的关系.结果表明,材料的带隙态密度随着界面相的增加而增加,当界面体积分数达到最大时,薄膜的带隙态密度也最大,即材料的带隙态密度与界面体积分数正相关.
关键词:
带隙态
界面相
微晶硅
调制光电流 相似文献
357.
在低温强磁场条件下,对In0.53 Ga0.47 As/In0.52AI0.48As量子阱中的二维电子气进行了磁输运测试.在低磁场范围内观察到正磁电阻效应,在高磁场下这一正磁电阻趋于饱和,分析表明这一现象与二维电子气中的电子占据两个子带有关.在考虑了两个子带之间的散射效应后,通过分析低磁场下的正磁电阻,得到了每个子带电子的迁移率,结果表明第二子带电子的迁移率高于第一子带电子的迁移率.进一步分析表明,这主要是由两个子带之间的散射引起的. 相似文献
358.
介绍了介子工厂 (DAΦNE)KLOE组的数据分析中运动学拟合程序TELESIS的运用 .利用KLOE 2 0 0 0年在e+e- 对撞能量Ecm =1 0 2 0MeV获取的部分数据开展→γη→ 3γ和→γπ0 → 3γ的分析 ,得到介子的产生截面σe+ e- →=( 4.0 4± 0 .0 4± 0 .2 4 ) μb ,以及→γπ0 → 3γ的分截面σ→γπ0 →3γ=( 5.3± 0 .3± 0 .6)nb .这些结果与理论预言以及俄国新西伯利亚的VEPP(CMD 2 ,SND ,ND各探测器 )的相应结果一致 . 相似文献
359.
360.
本文用X射线衍射和差热分析的方法测定了LaNi_5-NdNi_5,LaNi_5-CeNi_5两个赝二元系相图。用X射线衍射线宽化法测定了活化后LaNi_5-NdNi_5体系的样品晶粒尺寸的各向异性。考查了吸氢性能和第二相存在对LaNi_5吸氢性能的影响。测定和计算了两个体系中样品的点阵常数、单胞体积、原了间距吸氢前后的变化。从结构的观点,解释了LaNi_5-NdNi_5体系中活化后样品晶粒尺寸各向异性的原因。用本实验的结果,解释了RmNi_5(Rm代表混合稀土金属)的吸氢量和平台压力的差异。 相似文献