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为了制作能满足YBCO涂层导体(coated conductor)所需要的高强度、低磁性的立方织构基带,本工作用粉末冶金方法制作了Ni-5at%W合金基带.为评估基带中立方织构的发展,用March-Dollase函数对各种热处理样品的择优取向度进行了研究,结果与用X射线极图法和电子背散射衍射法得到的结果基本一致.研究结果表明,在实验中所用的工艺参数范围内,随总加工率和热处理温度的提高,基带中立方织构百分数明显增高.提高总加工率实际增加了冷加工样品中立方织构晶粒或立方核心的数量.实验中得到了较好的和实用的工艺制度,用这种工艺可以制作出具有99%~100%立方织构百分数,并具有很好一致取向度的Ni5W基带. 相似文献
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X-Ray Emission from Zr, Mo, In and Pb Targets Bombarded by Slow Highly Charged Ar^q+(q = 13, 14, 15, 16) Ions 总被引:1,自引:0,他引:1 下载免费PDF全文
We study the L x-ray emission from Zr, Mo and In targets and M x-ray emission from Pb target under bombardment of low energy Ar^q (q = 13, 14, 15, 16) ions. The relative x-ray yields were measured in the projectile kinetic energy range 210-360 keV. It is found that the relative x-ray yields from Zr, Mo and Pb targets increase with the increasing projectile kinetic energy for Ar^14 and Ar^16 projectiles and depend on the potential energy of the projectile remarkably. 相似文献
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硼在高压下具有复杂的结构和多样的物理性质,对其结构和性质的深入研究具有很重要的意义,一直引起理论和实验研究领域的关注。高压下进行电学性质测量是获得物质物理性质的有效手段,利用集成在金刚石对顶砧上的微电路,在高压下和两个不同温度范围内对β相硼进行了电导率测量,分析了导电机制随压力的变化规律。在0~28.1 GPa范围内,β相硼的电导率随着压力的增大是逐渐增大的,卸压后样品的电导率不能回到最初的状态,是一个不可逆的变化过程;由室温到423 K的范围内,β硼的电导率随着温度的不断增加有明显的上升趋势,并且随着压力的升高,电导率变化逐渐加快。此外,对样品在14.5 GPa和18.6 GPa压力下,用溅射到金刚石对顶砧上的氧化铝薄膜做绝热层,对样品进行了激光加热实验,最高温度达到2 224 K,电导率随着温度的上升而增大,结果显示,β相硼的电学特征仍然属于半导体的特征范围内。 相似文献
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利用倾斜衬底沉积法在无织构的金属衬底上生长了MgO双轴织构的模板层,在这一模板层上实现了YBa2Cu3O7-x薄膜的外延生长.在外延YBa2Cu3O7-x薄膜前,依次沉积了钇稳定的立方氧化锆和CeO2作为缓冲层.利用X射线衍射2θ扫描、扫描、Ω扫描和极图分析测定了这些膜的结构和双轴织
关键词:
2Cu3O7-x镀膜导体')" href="#">YBa2Cu3O7-x镀膜导体
2缓冲层')" href="#">CeO2缓冲层
厚度依赖性
外延生长 相似文献
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采用积分球配以CCD光谱测试系统,在蓝色半导体发光二极管激发下,对Sm3 掺杂的低声子能量、高折射率铋碲酸盐玻璃的荧光光谱进行测试。实现了荧光发射特性绝对评价为目的的绝对光谱功率分布测定,为发光与激光材料荧光发射特性的精确测量与表征提供了一种准确方法。荧光测试系统由直径为25.4cm的积分球配以CCD探测器组成,通过标准卤素灯定标,辅助卤素灯校正积分球内环境变化,解析出样品的绝对光谱功率分布,并进一步计算出光量子数分布,求得荧光量子产率等荧光特征参量。测试与计算结果表明,对应可见区Sm3 四个特征发射峰,总荧光量子产率为7.55%。 相似文献
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电感电路和电容电路在电子技术的滤波电路中有着重要作用,损耗电阻的大小是设计滤波电路参数的重要依据.人们通常在讨论电感和电容特性时,都把电感和电容当作纯电抗性元件,认为在低频段它们不存在损耗电阻,只有在10。Hz以上的高频范围内才有损耗电阻存在,事实是这样吗?事实并非如此,本文试图通过实验测试分析电感电容在10^3~10^4Hz的频率范围内它们的损耗电阻不能忽略,而且电感的损耗电阻随着频率的升高而增大,电容的损耗电阻随着频率的升高而降低. 相似文献
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We present a high power and efficient operation of the ^4F3/2 → ^4I9/2 transition in Nd:GdVO4 at 912nm. In the cw mode, the maximum output power of 8.6 W is achieved when the incident pump power is 40.3 W, leading to a slope efficiency of 33.3% and an optical-optical efficiency of 21.3%. To the best of our knowledge, this is the highest cw laser power at 912nm obtained with the conventional Nd:GdVO4 crystal. Pulsed operation of 912nm laser has also been realized by inserting a small aeousto-optie (A-O) Q-Switch inside the resonator. As a result, the minimal pulse width of 20ns and the average laser power 1.43 W at the repetition rate of lOkHz are obtained, corresponding to 7.1 kW peak power. We believe that this is the highest laser peak power at 912nm. Furthermore, duration of 65ns has also been acquired when the repetition rate is 100 kHz. 相似文献
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