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101.
气体放电击穿过程的物理和数值研究 总被引:1,自引:0,他引:1
胡希伟 《核聚变与等离子体物理》1994,14(1):44-50
本文对低气压(10^-2Pa)热阴极气体放电的击穿过程给出了物理描述和相应的双流体数学型,并发展了一种选择和调整未知初始条件的有效算法,可以通过伴随试射法得到对初始条件十分敏感的非线性两点边值常微分方程组的数值解,从而给出这类气体放电中击穿过程的定量描述。 相似文献
102.
103.
求解非对称线性方程组的QMRGCGS方法 总被引:1,自引:1,他引:1
1 引言 求解非对称线性方程组Ax=b的双共轭梯度方法(BCG)[3]和它的变形共轭梯度平方方法(CGS)[6]都有典型的不规则收敛行为,后来Freund和Nachtigal提出一种BCG类方法,即拟极小剩余方法(QMR)[7],用来补救BCG方法的收敛性并且产生了光滑的收敛曲线。然而,象BCG方法一样,QMR方法要用到系数矩阵A及其转置A~T与向量的乘积,为了解决这一问题,Freund提出TFQMR方法,此方法具有拟极小剩余性,同时不需用到A~T与向量的乘积。 相似文献
104.
105.
Hongtao Sun Liyan Zhang Shilong Zhao Junjie Zhang Dongbing He Zhongchao Duan Lili Hu 《Solid State Communications》2005,133(6):357-361
Structural and infrared-to-visible upconversion fluorescence properties of Er3+/Yb3+-codoped oxychloride lead-germanium-bismuth glass have been studied. The Raman spectrum investigation indicates that PbCl2 plays an important role in the formation of glass network, and has an important influence on the upconversion luminescence owing to lower phonon energy. Intense green and red emissions centered at 525, 546, and 657 nm, corresponding to the transitions 2H11/2→4I15/2, 4S3/2→4I15/2, and 4F9/2→4I15/2, respectively, were observed at room temperature. The quadratic dependence of the 525, 546, and 657 nm emissions on excitation power indicates that a two-photon absorption process occurs under 975 nm excitation. 相似文献
106.
107.
108.
The present paper discusses our investigation of InGaAs surface morphology annealed for different lengths of time.After annealing for 15 min,the ripening of InGaAs islands is completed.The real space scanning tunneling microscopy(STM) images show the evolution of InGaAs surface morphology.A half-terrace diffusion theoretical model based on thermodynamic theory is proposed to estimate the annealing time for obtaining flat morphology.The annealing time calculated by the proposed theory is in agreement with the experimental results. 相似文献
109.
We demonstrated the polarization of resistive switching for Cu/VOx/Cu memory cell. Switching behaviors of Cu/VOx/Cu cell were tested by semiconductor device analyzer (Agilent B1500A), and the relative micro-analysis of I-V characteristics of VOx/Cu was characterized by conductive atomic force microscope (CAFM). The I-V test results indicated that both forming and the reversible resistive switching between low resistance state (LRS) and high resistance state (HRS) can be observed under either positive or negative sweep. The CAFM images for LRS and HRS directly exhibited evidences of the formation and rupture of filaments based on positive or negative voltage. Cu/VOx/Cu sandwiched structure exhibits a reversible resistive switching behavior and shows potential applications in the next generation nonvolatile memory field. 相似文献
110.
超高数值孔径Schwarzschild投影光刻物镜的光学设计 总被引:4,自引:0,他引:4
针对45nm及以下节点光刻相关技术的研究需求,确定了实验型投影光刻物镜的结构型式及设计指标。依据像差理论在非同心小遮拦的Schwarzschild反射系统中添加折射补偿镜组来进一步减小系统的中心遮拦,扩大像方数值孔径。设计了一套小中心遮拦,数值孔径为1.20的Schwarzschild折反式投影光刻物镜。设计结果表明,该投影光刻物镜工作带宽为100pm,像方视场为50μm,线中心遮拦比为13%,光学分辨力为80nm时(6240lp/mm)的系统调制传递函数大于0.45,全视场最大畸变为6.5nm,满足了45nm深紫外(DUV)浸没光刻实验平台对投影光刻物镜的需求。 相似文献