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11.
为探究稀土氧化物中氟(F)和氯(Cl)元素含量的快速检测方法,通过全自动高温水解仪对氧化镧铈样品进行前处理,并利用氢氧根体系离子色谱仪检测吸收液中F-、Cl-离子的含量,建立了基于全自动高温水解-离子色谱法测定氧化镧铈中的F、Cl元素含量的快速检测方法,该方法有效避免了传统前处理方法过程复杂、分析时间慢、极易受人为干扰的问题。称取0.3g氧化镧铈样品,在氧气流量为300 mL/min,1100 ℃高温下水解燃烧20 min,吸收定容为体积20mL的吸收液,以NAOH(15mmol/L)作为淋洗液,经色谱柱分离,测得F-与Cl-在质量浓度为1.00 mg/L-15.00 mg/L范围内,质量浓度与离子色谱峰面积呈线性关系,相关系数均为0.9999。检出限分别为0.003mg/L和0.12mg/L。全自动高温水解仪联用离子色谱仪检测系统对氧化镧铈中F-的平均加标回收率测定结果为98.4%,标准偏差RSD为0.94%;对Cl-的加标回收率测定结果为97.8%,RSD为2.86%。说明该方法较高准确度及精密度,测试结果准确可靠满足企业和检测机构的测试需求,为稀土氧化中氟、氯元素含量的研究及相关产品的开发提供了理论基础。 相似文献
12.
在酸性条件下,磷酸氯喹分子中氮原子被质子化后与阴离子AuCl4-形成离子缔合物,该缔合物被二氯甲烷带入鲁米诺的氯化十六烷基三甲基铵逆胶束中,离解出来的AuCl4-立即与鲁米诺产生化学发光.在一定的浓度范围内,发光强度与磷酸氯喹的含量呈线性关系,从而间接测定磷酸氯喹的含量.在优化的实验条件下,线性范围为0.001~15 mg/L,检出限(3σ)为0.02 μg/L,对1.0 mg/L的磷酸氯喹进行11次平行测定,RSD为1.6%.该法已成功用于片剂的分析. 相似文献
13.
分析比较了低温等离子体模拟中采用的流体模型、粒子模型和混合模拟方法及在放电特性分析中采用的电路模拟方法。给出了每种方法的基本原理,探讨了它们的适应性。利用粒子模型对外磁镜场作用下四阳极装置辉光放电所产生等离子体进行了模拟,分析了磁场对电子密度径向分布的影响。 相似文献
14.
15.
代际流动性是测度社会不平等的重要指标,区域发展不平衡则是中国的客观现实。运用人口普查数据和中国城市年鉴,可发现中国现阶段代际流动性的三个特征:(1)全国层面的代际收入弹性为0.673。(2)代际流动性呈现出显著的地区及城市差异,沿海、北方的代际流动性明显高于内陆及南方。代际收入弹性最低的省会城市是天津(0.107),最高的是江西南昌(0.686);地级市分别是山东莱芜(0.124)和云南丽江(0.76)。(3)具有以下特征的地区具有更高的代际流动性:沿海及经济发达地区,高校更多、中小学教育投入更多的地区,非少数民族聚集地,革命老区。从微观机理上分析代际流动性的地区差异,可以为中国区域平衡发展政策提供理论依据。 相似文献
16.
17.
We investigate the structure,trapping,and diffusion behaviors of helium(He) at vacancy in a Fe single crystal using first-principles simulations.Vacancy with more space can provide the lower electron density region for He binding in comparison with intrinsic Fe,causing He to diffuse into the vacancy inner easily.We provide the quantitative microscopic studies related to the atomic-level thermo-kinetic trapping processes.Moreover,such physical viewpoint can be applied to other vacancy-like defects such as vacancy clusters,void and grain boundaries which can open a space with reduced electron density region to increase He binding in metals and metal alloys. 相似文献
18.
19.
FORMATION OF A BURIED LAYER OF ALUMINIUM NITRIDE BY HIGH DOSE N2+ IMPLANTATION INTO ALUMINIUM 下载免费PDF全文
Aluminium films with various thickness between 700 nm and 1μm were deposited on Si (100) substrates, and 400 keV N2+ ions with doses ranging from 4.3×1017 to 1.8×1018 N/cm2 were implanted into the alu-minium films on silicon, Rutherford Backscattering (RBS) and channeling, secondary ion mass spectroscopy (SIMS), Fourier transform infrared spectra (FTIR), X-ray diffraction (XRD), transmission electron microscopy (TEM) and spreading resistance probes (SRP) were used to characterize the synthesized aluminium nitride. The experiments showed that when the implantation dose was higher than a critical dose Nc, a buried stoichiometric AlN layer with high resistance was formed, while no apparent AlN XRD peaks in the as-implanted samples were observed; however, there was a strong AlN(100) diffraction peak appearing after annealing at 500 ℃ for 1h. The computer program, Implantation of Reactive Ions into Silicon (IRIS), has been modified and used to simulate the formation of the buried AlN layer as N2+ is implanted into aluminium. We find a good agreement between experimental measurements and IRIS simulation. 相似文献
20.
共价氢化物与汞离子反应的研究:Ⅱ.痕量硒的高灵敏分析新方法 总被引:4,自引:0,他引:4
本文详细研究了硒化氢与汞离子反应条件并建立了氢化物发生-冷原子荧光法间接测定痕量硒的新方法。考察了各种实验条件,并将此方法用于合成水样分析,得到一些有意义的结果。 相似文献