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31.
32.
本文报道通过对YBa2Cu1-xCox(Cu1-yZny)2Oz(0≤x,y≤0.1)体系晶体结构、氧含量、正常态电阻-温度关系、Hall效应以及超导临界温度等的综合测量,发现随着Co和Zn含量的增加,体系经历了从正交结构的超导金属向四方结构的非超导半导体的转变,超导临界温度Tc和载流子浓度nh均迅速下降,Co 关键词:  相似文献   
33.
报道了5种新的α,α′-二氧代烯酮环二氮代缩醛化合物的NMR谱,初步探讨了分子结构对化学位移的影响.  相似文献   
34.
Dynamic and static scattering of light was employed to investigate mixed micelles of two homologous anionic surfactants-sodium octyl sulfate and sodium hexadecyl sulfate, above the phase boundary temperature and critical micelle concentrations (cmc). The results indicate that the mixed micelles change from prolate to sphcrical as the molar ratio SOS/SHS increases from 1 to 8. Below 1 or above 8, the formation of micelles is due to one surfactant dissolving the other.  相似文献   
35.
This paper through discussing subdifferentiability and convexity of convex functions shows that a Banach space admits an equivalent uniformly [locally uniformly, strictly] convex norm if and only if there exists a continuous uniformly [locally uniformly, strictly] convex function on some nonempty open convex subset of the space and presents some characterizations of super-reflexive Banach spaces. Supported by NSFC  相似文献   
36.
A series of (di)picolinic acids and their derivates are investigated as novel complexing tridentate or bidentate ligands in the iron‐mediated reverse atom transfer radical polymerization of methyl methacrylate in N,N‐dimethylformamide at 100 °C with 2,2′‐azobisisobutyrontrile as an initiator. The polymerization rates and polydispersity indices (1.32–1.8) of the resulting polymers are dependent on the structures of the ligands employed. Different iron complexes may be involved in iron‐mediated reverse atom transfer radical polymerization, depending on the type of acid used. 1H NMR spectroscopy has been used to study the structure of the resulting polymers. Chain‐extension reactions have been performed to further confirm the living nature of this catalytic system. © 2006 Wiley Periodicals, Inc. J Polym Sci Part A: Polym Chem 44: 2912–2921, 2006  相似文献   
37.
根据生产任务选择加工设备进行制造资源重组是实现可重构制造系统的关键问题之一,由于设备的选择涉及到多种因素,既有定量指标,又有定性指标,传统的依靠人工经验的方法显得力不从心。本文首先结合实际情况,提出了一套设备选择评价体系,通过对模糊判断矩阵采用最小对数二乘法确定各评价因素的权重系数,针对定性指标和定量指标采用不同的方法确定其性能指标值,通过模糊积分对评判指标进行综合评判,最后进行了实例研究。所提出的方法有效地简化了决策过程,为可重构制造系统设备选择提供了一套行之有效的方法。  相似文献   
38.
Natural populations, whose generations are non-overlapping, can be modelled by difference equations that describe how the populations evolve in discrete time-steps. In the 1970s ecological research detected chaos and other forms of complex dynamics in simple population dynamics models, initiating a new research tradition in ecology. However, in former studies most of the investigations of complex population dynamics were mainly concentrated on single populations instead of higher dimensional ecological systems. This paper reports a recent study on the complicated dynamics occurring in a class of discrete-time models of predator–prey interaction based on age-structure of predator. The complexities include (a) non-unique dynamics, meaning that several attractors coexist; (b) antimonotonicity; (c) basins of attraction (defined as the set of the initial conditions leading to a certain type of an attractor) with fractal properties, consisting of pattern of self-similarity and fractal basin boundaries; (d) intermittency; (e) supertransients; and (f) chaotic attractors.  相似文献   
39.
铝互连线的电迁移问题及超深亚微米技术下的挑战   总被引:2,自引:0,他引:2       下载免费PDF全文
张文杰  易万兵  吴瑾 《物理学报》2006,55(10):5424-5434
铝互连线的电迁移问题历来是微电子产业的研究热点,其面临的电迁移可靠性挑战也是芯片制造业最持久和最重要的挑战之一.从20世纪90年代开始,超深亚微米(特征尺寸≤0.18 μm)铝互连技术面临了更加复杂的电迁移可靠性问题.从电迁移理论出发,分析概括了铝互连电迁移问题的研究方法,总结了上世纪至今关于铝互连电迁移问题的主要经验;最后结合已知的结论和目前芯片制造业现状,分析了当前超深亚微米铝互连线电迁移可靠性挑战的原因和表现形式,提出了解决这些问题的总方向. 关键词: 电迁移 铝互连 微结构  相似文献   
40.
The oxidation of SiGe film epitaxial grown on top of SOI wafers has been studied. These SiGe/SOI samples were oxidized at 700, 900, 1100 °C. Germanium atoms were rejected from SiGe film to SOI layer. A new Si1−xGex (x is minimal) layer formed at SiGe/Si interface. As the germanium atoms diffused, the new Si1−xGex (x is minimal) layer moved to Si/SiO2 interface. Propagation of threading dislocation in SiGe film to SOI substrate was hindered by the new SiGe/Si interface. Strain in SOI substrate transferred from SiGe film was released through dislocation nucleation and propagation inner. The relaxation of SiGe film could be described as: strain relaxed through strain equalization and transfer process between SiGe film and SOI substrates. Raman spectroscopy was used to characterize the strain of SiGe film. Microstructure of SiGe/SOI was observed by transmission electron microscope (TEM).  相似文献   
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