40kbar内碘酸锂(LiIO3)的P-T状态图

在0一40kbar,20一750℃的压力与温度范围内探索了碘酸锂(LiIO₃)可能存在的高压相,发现在1.5—4.9kbar及310—450℃的压力及温度范围内以及15kbar以上的高压范围内分别存在一个高压结构。较精确地测定了各相的相界,改正了国外1969年发表的相图中的一些错误,并对高温高压下各相的稳定性进行了初步讨论。 关键词：     

掺杂N的浓度对SiC薄膜的光敏特性影响

在热丝化学汽相沉积（HFCVD）法制备SiC薄膜过程中，研究不同的N掺杂下制备样品的光敏特性．对薄膜在室温和较高温度（410℃）下进行光敏特性测试，结果表明，薄膜的制备工艺参量对其光敏特性有较大影响；较高温度下其敏感特性和室温下测试的结果大体一致；在合适条件下制备的薄膜对不同波长的光有较好的敏感特性．可以看出，SiC薄膜在研究高温光敏器件领域具有很好的应用前景．     

影栅云纹法中的离面位移与斜率耦合条纹的光力学分析

基于传统的概念,影栅云纹法只能实时获得表征物体大离面位移(深度)的条纹。若要获得反映斜率的条纹,则只有用镜面试件通过反射云纹法或其它的光测法来获得。在研究中发现,在一定的条件下,用影栅云纹法可以获得离面位移与斜率的耦合条纹图。这个新发现打破了已有的传统概念。实验证实了简单实用的影栅云纹法不但能获得物体大变形时的离面位移,而且也可以获得与之对应的斜率条纹。给出了典型的可实时获得的耦合条纹图,并对其基本原理、计算方法和实验技术进行了论述。     

聚酰胺-胺(PAMAM)树状大分子对甲氨蝶呤的包合及缓释研究

以甲氨蝶呤(MTX)为模型药物,研究了G5.0PAMAM树状大分子对其包合和释放,并用13^CNMR对PAMAM-MTX包合物进行了表征.UV-Vis研究结果表明,1个G5.0PAMAM树状大分子能包合27个MTX分子,体外释放研究表明,在37℃,pH=7.4的10mmol/LTris-HCl缓冲溶液中G5.0PAMAM树状大分子对MTX具有明显的缓释作用.     

石墨炉原子吸收法测定硝酸银中的痕量金

卤化银感光材料面世已有一百余年的历史,其基本原材料之一的硝酸银的纯度,对感光材料的感光特性有着不容忽视的影响。国外各著名感光材料厂家对硝酸银中杂质的含量,都有严格的内控标准。但分析方法一般不公开发表。文献上偶见到少量工作^[1-3],一般也非感光材料厂家的实用技术。     

蒙药三子汤散剂中微量元素的含量与其抗炎作用的探讨

测定了蒙药三子汤散剂中的微量元素,结果表明,一些人体必需的微量元素含量比较高;这些元素在体内易于形成多种化合物和配合物,构成体内发挥生物学作用的生化及药理基础。三子汤散剂中的微量元素含量与其抗炎作用有一定的内在联系。     

Ni离子注入多晶ZrO2的表面电性能和结构

对氧化钇(Y₂O₃)部分稳定氧化锆(ZrO₂)样品在室温下进行了Ni离子注入(140kev,5×10¹⁵-2×10¹⁷ios/cm²)和热退火处理.应用电学测量,Rutherford背散射技术(RBS),X射线光电子能谱(XPS)和喇曼光谱方法研究了Ni离子注入多晶ZrO₂的表面电性能,注入层结构及其热退火的影响。     

顺铂与DNA键合机制的CNDO/2研究

本文用CNDO/2法研究了顺铂与DNA键合的机制.计算结果指出,在所考虑的几个模型配合物中,从Pt-N_7间重叠集居和双原子能分析,以顺铂与两个鸟嘌呤的N_7键合形成[(NH_3)_2PtG_2]~(2 )的可能性最大,因而支持了顺铂和DNA的相邻两个鸟嘌呤的N_7键合的链内交联机制.但是,螯合机理不能完全排除,在一定条件下,顺铂可能与一个鸟嘌呤的N_7和O键合形成一定量的螯合物.然而,由于它较[(NH_3)_2PtG_2]~(2 )不稳定,因此,不能成为顺铂伤害癌细胞的主要原因.至于链内交联机理如何造成DNA复制障碍尚待进一步研究.     

数字光弹性法综述

将光弹性法与计算机图像处理技术相结合 ,来自动采集光弹性数据和分析应力的方法 ,称为数字光弹性法 ,与传统光弹性法相比 ,它可以进一步提高实验速度和精度。本文详细讨论了以下两个方面 :一是光弹性条纹的细化和倍增处理技术 ;二是自动确定光弹性参数的技术 ,包括相移法、傅立叶变换法、逐步载荷法、广谱分析法和RGB光弹性法等。通过对近二十年来国内外在这些方面的研究、应用和进展作了综述 ,认为采用白光的彩色域相移技术计算光弹性等倾角 ,结合采用白光源或三色光源的相移法来确定光弹性等色线级数 ,有望成为解决静态二维和三维冻结模型薄切片应力分析的最佳方法 ;另外 ,设计一种能实时和同步采集多幅条纹图的实验装置 ,通过相移法来自动获取动态光弹性数据 ,是数字动态光弹性法很有前景的发展方向     

Ni在非晶Si中扩散机制的原位X射线衍射研究

通过对非晶Ni和Si多层组分调制膜(ML)中Ni和Si互扩散规律的原位X射线衍射法研究,考察了金属Ni在非晶Si(a-Si)中的扩散现象。得到了较低温度下Ni在非晶Si中扩散系数及规律,并且提出了Ni在a-Si中受非平衡缺陷延迟的间隙扩散机制。这个扩散模型较好地解释了Ni在a-Si中的扩散。 关键词：