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31.
光学系统中,为防止像差的引入造成成像质量下降,光学元件的准直与间距必须严格保证。所以,在光学仪器接口设计过程中,提高接口的重复性定位能力和降低接口的接触应力水平是非常重要的。在30 m望远镜(TMT)三镜系统设计过程中,三镜作为Ritchey-Chirtien(R-C)式光学系统中重要的光学元件,需严格保证其位置和姿态。三镜系统寿命周期中,由于清洗、镀膜的要求,需要多次拆装,为保证装配精度,需设计了一套定位用运动学接口。从运动学定位原理出发,使用赫兹接触理论以及IBM磨损理论对运动学接口进行了相应校核,并分析了影响运动学接口重复性定位精度的相应误差源,使用蒙特卡罗方法进行了相应仿真。另外,以三镜面形作为评指标,使用Ansys软件模拟了运动学接口,研究了接口参数对于三镜面形的影响。分析结果显示,在现有的设计及精度下,接口的接触应力水平满足使用要求,三个方向的重复性定位精度以及支撑效果能够达到设计指标。 相似文献
32.
33.
关于灰色关联度中的几个问题的探讨 总被引:19,自引:1,他引:18
何文章、郭鹏.关于灰色关联度中的几个问题的探讨.本文通过理论分析及实例探讨了灰色关联度存在的主要缺陷,同时指出了不能用灰色关联度代替数理统计中的相关系数及多元统计分析方法。最后阐明了我们的观点及看法 相似文献
34.
From (+)- camphor, six new (+)-camphor derivatives were synthesized. According tothe structure and chemical properties of the derivatives, the relation between the substitutedgroups and the stereoselectivity of alkylations and reduction was examined. It is found thatthe chemical shift of protons of C(8), C(9) methyl groups and chemical properties of carbonylO(2) are associated with the substituted groups. 相似文献
35.
采用真空阴极电弧离子镀方法制备氮化钒(VN)涂层,并研究了VN涂层的结构、力学性能以及不同载荷对摩擦磨损行为的影响. 结果表明:VN涂层结构致密并呈柱状方式生长,其晶体类型为NaCl-型面心立方结构. 涂层具有强的膜基结合力以及良好的摩擦学性能. 随着载荷增加,VN涂层的摩擦系数降低,而磨损率增加. 基于赫兹弹性接触模型以及摩擦产物的成分分析结果,发现载荷越大,界面接触应力越大,界面摩擦化学反应越剧烈,这有利于降低剪切应力并促进V元素氧化生成V2O5润滑相,导致摩擦系数降低. 此外,因韧性不足、抗塑性变形能力弱等原因,随载荷增加,涂层磨损率增大. 相似文献
36.
37.
针对不通视条件下的相机位姿估计问题,可通过移动平面镜实现相机对目标镜像的多次观测,进而求解相机与目标之间的相对位姿关系。本文研究了该配置下位姿估计误差的CramerRao下界问题,推导了平面镜反射中心透视投影模型中物点、光心、镜像虚拟像点三者之间的共线方程及位姿估计误差理论下界的计算公式,并进行了数字仿真验证。结果表明:增大平面镜摆动角度、减小平面镜到相机的距离或增加平面镜有效移动次数,都可降低位姿估计误差的CRLB。上述结果可为某些不通视条件下摄像测量的现场布设提供可靠的性能指标。 相似文献
38.
SAPO-34分子筛由于其独特的拓扑结构和适宜的酸性,在以甲醇制烯烃(MTO)和氨气选择性催化还原NOx (NH3-SCR)为代表的系列催化反应中显示了优良的性能,因此吸引了研究者的广泛关注。但是,在合成过程中如何通过选择有机模板和控制硅含量来得到合适酸量的SAPO-34催化剂是极具挑战的。本文中,四个系列的SAPO-34分子筛,即分别由四乙基氢氧化铵(TEAOH)、二异丙胺(DIPA)、正丁胺(nBA)和吗啉(MOR)为有机模板剂合成不同硅含量的样品,通过热重量分析(TG),结构精修和固态核磁进行了研究。TG和结构精修结果显示在TEAOH和DIPA合成的SAPO-34分子筛cha (一种复合结构单元)笼子中只有一个结构导向剂而MOR和nBA合成的SAPO-34分子筛的cha笼中有两个。采用固态核磁氢谱(1H ss-NMR)探究碱性探针分子氘代乙腈(CD3CN)和分子筛骨架之间主客体的相互作用,并对其酸性(酸量和酸强度)进行了系统的研究。例如,TEAOH合成的SAPO-34分子筛随着硅含量的增加酸强度增加而酸量却保持着不变。而DIPA合成的SAPO-34,与前者存在较大的差异,即随着硅含量的上升,酸量显著下降而酸强度只发生了微小的变化。该工作为SAPO-34分子筛催化剂酸性的定向调变提供了理论基础。 相似文献
39.
For the purpose of producing high intensity, multiply charged metal ion beams, the dual hollow cathode ion source for metal ions (DUHOCAMIS) was derived from the hot cathode Penning ion source combined with the hollow cathode sputtering experiments in 2007. To investigate the behavior of this discharge geometry in a stronger magnetic bottle-shaped field, a new test bench for DUHOCAMIS with a high magnetic bottle-shaped field up to 0.6 T has been set up at the Peking University. The experiments with magnetic fields from 0.13 T to 0.52 T have indicated that the discharge behavior is very sensitive to the magnetic flux densities. The slope of discharge curves in a very wide range can be controlled by changing the magnetic field as well as regulated by adjusting the cathode heating power; the production of metallic ions would be much greater than gas ions with the increased magnetic flux density; and the magnetic field has a much higher influence on the DHCD mode than on the PIG mode. 相似文献
40.