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111.
There are two different effects to generate group delay dispersion by multilayer thin film mirrors: chirper effect and Gires-Tournois effect. Both effects are employed to introduce desired dispersion in the designed mirror. Thus the designed mirror provides large dispersion throughout broad waveband. Such mirror can be used for dispersion compensation in Ti:sapphire femtosecond lasers. Most group delay dispersion of a 5-mm Ti:sapphire crystal can be compensated perfectly with only four bounces of the designed mirror. 相似文献
112.
113.
采用共沉淀方法,以碳酸氢铵(NthHC03)为沉淀剂制备得到Nd:YAG前驱物,将其在不同的温度下煅烧并采用红外光谱(FT-IR)、X射线衍射(XRD)、透射电镜(TEM)、荧光光谱分析等技术对样品进行了表征。在900~1000℃下煅烧前驱物,出现YAP和YAM中间相并对共沉淀法中间相出现的原因进行了分析;获得纯YAG晶相的煅烧温度为1100℃,晶粒粒度分布约为40~80nm,具有良好的分散性。光谱研究表明Nd:YAG纳米粉体的发光性能良好,其红外光谱及荧光光谱与单晶无明显的差异。 相似文献
114.
115.
在(2+1)维情况下,利用数值模拟研究了Kuramoto-Sivashinsky (K-S)与Karda-Parisi-Z hang (KPZ)模型所决定的非平衡态界面生长演化过程.结果表明,KPZ与K-S模型都表现出明 显的时间和空间标度特性.相对于KPZ模型而言,K-S模型所对应的表面具有更明显的颗粒特 征,当生长时间较长时,生长界面呈现蜂窝状结构.通过数值相关分析得到了生长界面的粗 糙度指数、生长指数和动态标度指数等参数.从两种模型对应的表面形貌特征和表面参数来 看,在(2+1)维情况下,KPZ与K-S模型所决定的表面具有完全不同的动态标度行为,属于不 同的两类物理模型.
关键词:
Kuramoto-Sivashinsky (K-S)模型
Karda-Parisi-Zhang(KPZ)模型
分形
数值模拟 相似文献
116.
Effects of oxygen partial pressure on optical absorption edge and UV emission energy of ZnO films 总被引:4,自引:0,他引:4
ZnO, with a band-gap of 3.37 eV and a large exciton binding energy (about 60 meV) at room temperature, is a promising material for optoelectronic devices, field- emission displays, and gas sensors. Recently, the interest in short wavelength display device is on the increase. In this regard, ZnO is a promising material[1-6]. High quality ZnO films have been prepared by many methods such as sputtering[7], reactive thermal and electron-beam evaporation[8], pulse laser deposition[9], chemical v… 相似文献
117.
118.
Graded-index ZrO2 films has been fabricated on K9 glass by glancing angle deposition. Because the index mismatch at the interface has been reduced, the film results in wideband high-transmission antireflection. From 400nm to 1200nm, the film reflection is lower than 0.8% and the lowest value is 0.2% at 432nm. 相似文献
119.
It is well known that conventional multi-layers are oftenused for antireflective coatings[1,2]. There are, however,only a handful of optical materials available, thus limit-ing the performance that could ideally be achieved. Onthe other hand, sub-wavelength structure surfaces, whichare surface-relief gratings with periods smaller than theincident wavelength, have been researched and foundto have antireflective properties[3,8]. Compared withstandard optical thin-film coating technologies, the h… 相似文献
120.
A series of thin Ag films with different thicknesses grown under identical conditions are analyzed by means of spectrophotometer. From these measurements the values of refractive index and extinction coefficient are calculated. The films are deposited onto BK7 glass substrates by direct current (DC) magnetron sputtering. It is found that the optical properties of the Ag films can be affected by films thickness. Below critical thickness of 17 nm, which is the thickness at which Ag films form continuous films, the optical properties and constants vary significantly with thickness increasing and then tend to a stable value up to about 40 nm. At the same time, X-ray diffraction measurement is carried out to examine the microstructure evolution of Ag films as a function of films thickness. The relation between optical properties and microstructure is discussed. 相似文献