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42.
正关键词:电生自由基约束加成反应·氧化石墨烯D. Chen, Z. Lin, M. M. Sartin, T. X. Huang, J. Liu,Q. Zhang, L. Han, J. F. Li, Z. Q. Tian, D. P. Zhan.Photosynergetic Electrochemical Synthesis of Graphene Oxide, J. Am. Chem. Soc., 2020,142, 6516.电解剥离石墨并同步实现石墨烯功能化是石墨烯产业化挑战性课题.受田昭武先生"约束刻蚀"思想的启发,厦门大学詹东平教授和李剑锋教授采用草酸根离子作为插层离子和共反应剂,有效延长电生OH·的寿命并将其约束在石墨-石墨烯/溶液界面, 相似文献
43.
本文用ESR、1H-NMR及IR研究了Fe(phen)Cl3-(i-C4H9)3Al体系催化丁二烯聚合的机理。ESR谱表明,聚合活性中心上的铁为Fe(Ⅱ)。同时观察到自由基的信号,为其还原历程提供了证据。体系中不存在丁二烯时有很宽的ESR信号(ΔHpp=900G)、加入丁二烯时可以观察到一窄信号(ΔHpp=50G),二者有明显区别。提出了Fe(phen)Cl3-(i-C4H9)3Al体系催化丁二烯聚合的反应机理,两个体系的1H-NMR和IR谱图的比较证实了这个机理。 相似文献
44.
EXAFS研究Ni-B和Ni-Ce-B超细非晶态合金的退火晶化 总被引:1,自引:0,他引:1
采用同步辐射EXAFS技术定量地研究化学还原法制备的Ni-B和Ni-Ce-B超细非晶态合金中Ni原子的局域环境结构随退火温度升高而产生的变化,结果表明,对于Ni-B和Ni-Ce-B超细非晶态合金初始样品:Ni-Ni最邻近配位壳层的平均键长RNi-Ni、配位数N、热无序σT、结构无序σs分别为0.275nm,11.9.0.0069nm,0.034nm;0.276nm,12.4,0.0067nm,0.035nm,Ni-B最邻近配位壳层的RNi-B,N, σT,σs分别为0.215nm,2.7,0.0055nm,0.0048nm;0.214nm,2.0,0.0058nm,0.0042nm,Ni-Ni配位的σs很大,是其σT的4-5倍,比Ni-B配位的σs大近一个数量级,在300℃退火后,Ni-B样品开始发生晶化生成晶态Ni3B,其RNi-Ni和σs分别为0.254nm和0.011nm,σs降低近2倍;而.3%原子比的Ce掺入后使Ni-Ce-B超细非晶态合金的晶化温度升高100℃左右。在500℃退火后,Ni-B样品的结构参数与Ni箔的相近,但Ni-Ce-B样品中的Ni-Ni配位的σs仍为0.0073nm,Ni-B配位的N为1.2,表明稀土元素Ce(以CeO2)显著增强了Ni与B的相互作用,且同时使退火晶化成的Ni晶结构产生畸变。 相似文献
45.
46.
We report the observation of bichromatic coherent population trapping under the transition ^87 RbFg = 1 → Fc = 0 with two linearly polarized laser beams by means of a Hanle effect configuration. The mechanism behind this effect is identified, and numerical solutions for the pump rates equations are presented. 相似文献
47.
48.
介绍了一种新的配送中心(DC)选址模型,在该模型中考虑了一般库存和安全库存成本,同时把从供应商到DC的运输成本也结合进去综合考虑,运输成本是由固定成本加可变成本两部分组成,反映了运输规模经济. 相似文献
49.
50.