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研究了丙烯酰胺(AM)与N-乙烯基吡咯烷酮(NVP)在水/四氢呋喃(THF)溶液中的自由基共聚。发现,当水溶液中含THF,AM的聚合速率下降,NVP的聚合速率提高。黏度测定发现,在THF质量分数为28%,AM/NVP物质的量比为5∶1的水/THF体系中,共聚物的黏度达到最大值,与该体系中NVP的聚合速率达到最大值相一致。溶液中加入氯化钠,AM的聚合速率提高,但随THF的含量增加而降低。加入尿素,在含水率达到较大值,NVP聚合速率最大。用透射电子显微镜(TEM)和核磁共振谱(NMR)对聚合物结构进行了表征。在水/THF中,共聚物链自组装形成"核―壳"状微聚体。NVP上的五元环聚集成"核"状,共聚物链的酰胺基团尽量舒展,形成"壳"状。溶剂的组成变化伴随"核―壳"状微聚体半径的改变,影响AM和NVP的聚合速率。 相似文献
363.
364.
为了进一步分析切延迟椭圆反射腔映射系统(TD-ERCS)混沌系统的密码学意义上的安全性, 采用TD-ERCS并行方式构造了一个结构简单的伪随机序列发生器.用户密码不再是固定不变的 ,可在[264,2672]区域内任意取值.对所产生的二值伪随机 序列(即TD-ERC S序列)进行了均衡性、游程特性、相关性等基本统计特性初步测试,并与m序列、logistic 序列、Chebyshev混沌序列、SCQC序列作了对比分析.实验表明,TD-ERCS序列有更好的统计 特性.
关键词:
混沌
TD-ERCS
PRNG
统计特性 相似文献
365.
366.
367.
368.
磁铁矿可以在很多生物组织中被发现,国外研究者同样在家鸽上喙皮肤组织中发现了规则分布的超顺磁磁铁矿颗粒。他们应用透射电子显微镜确认了这些小磁铁矿晶体为尺寸在1—5 nm的聚集体,集中存在于皮下组织中。这些超顺磁粒子聚集体又形成直径为1—3μm的粒子束,分布在大细胞之间的长形结构中,并且与神经组织紧密相连。应用光学显微镜和电子显微镜,国外研究者也对家鸽上喙传入三叉神经末梢的次细胞组织进行了研究。这些神经末梢组织直径大约5μm,内部包含着聚集成束的超顺磁磁铁矿颗粒。大约10到15个粒子束存在于一个神经末梢中,沿着细胞膜排列。每一个超顺磁粒子束包埋在一个纤维杯中,口朝向细胞表面,通过纤维组织,这些粒子束粘附在细胞表面上。除了超顺磁颗粒,非晶态铁磷酸盐也被发现,它们沿着神经末梢的纤维中心分布。解剖特征表明,这些神经末端可以探测很小的地磁场强度的变化,考虑到以超顺磁磁铁矿颗粒为基础的"磁接收器"理论,他们还给出了几个"磁接收器"的模型。 相似文献
369.
Directly extracting both threshold voltage and series resistance from the conductance-voltage curve of an AlGaN/GaN Schottky diode 下载免费PDF全文
An Ni/Au Schottky contact on an AlGaN/GaN heterostructure has been prepared. By using the peak-conductance model, the threshold voltage and the series resistance of the AlGaN/GaN diode are simultaneously extracted from the conductance-voltage (G-V) curve and found to be in good agreement with the ones obtained by using the capacitance-voltage (C-V) curve integration and the plot of dV/d(ln I) versus current I. Thus, a method of directly and simultaneously extracting both the threshold voltage and the series resistance from the conductance-voltage curve for the AlGaN/GaN Schottky diode is developed. 相似文献
370.
在 Si (l00) 衬底上用分子束外延在不同的温度下生长了不同组份的GeGe_xSi_1-x_/Si 应变层超晶格.用反射式高能电子衍射、x 射线双晶衍射、卢瑟福背散射、透射电子显微镜以及Raman散射等侧试方法研究了Ge Ge_xSi_1-x_/Si超晶格的生长及其结构特性. 结果表明, 对不同合金组份的超晶格, 其最佳生长温度不同. x值小, 生长温度高; 反之, 则要求生长温度低. 对于x为0. 1-0. 6 , 在400-600℃ 的生长温度范围能够长成界面平整、晶格完好和周期均匀的GeGe_xSi_1-x_/Si应变层超晶格.
关键词: 相似文献