Ag2S纳米粒子原位合成以增强PAI涂层机械和摩擦学性能

借助单源前驱体热分解在聚酰胺酰亚胺(PAI)涂层中原位合成了硫化银(Ag₂S)纳米粒子,并通过调节单源前驱体的含量进一步调控纳米粒子尺寸. 采用X射线衍射仪和高分辨场发射扫描电镜对原位合成Ag₂S纳米粒子的物相结构、形貌、尺寸和尺寸分布进行了表征和分析;详细研究了Ag₂S纳米粒子对PAI涂层机械性能和摩擦学性能的影响;对其增强机制进行了探讨. 结果表明:PAI涂层中原位合成的Ag₂S纳米粒子粒径较小而且分散均匀,且调节单源前驱体能有效调控Ag₂S纳米粒子的尺寸和尺寸分布. Ag₂S纳米粒子的原位引入(优化质量分数为5.0%)有效改善了PAI涂层的机械性能和摩擦学性能,其摩擦学性能的增强归因于机械强度的提高和诱导转移膜的形成.      

奥美拉唑在碳糊电极上的吸附伏安测定法研究

研究了奥美拉唑在碳糊电极上的电化学行为及检测方法 ;在1.2mol·L -1H2SO4 底液中 ,通过富集用碳糊电极吸附伏安法测定奥美拉唑 ;阴极峰电位为0.403V(vsSCE) ,峰电流与奥美拉唑的浓度在7.8×10-8～3.7×10-5 mol·L-1 范围内呈良好的线性关系 ;该法的检出限为1.43×10-8 mol·L-1;用标准加入法测得回收率范围为94 %～102 % ;对奥美拉唑胶囊用该法进行了测定 ,获得了满意的结果 ;该法的优点是成本低 ,操作方便 ,重复性好及检出限较低 ;对电极响应机理进行了探讨 ,奥美拉唑的电极过程是一个两电子两质子的准可逆过程     

青铜—石墨复合材料在干摩擦和水润滑下的摩擦磨损性能及磨损机理研究

对比考察了青铜 -石墨复合材料在水润滑和干摩擦两种状态下的摩擦磨损性能及磨损机理 .结果表明 :水润滑下青铜 -石墨复合材料的磨损率明显比干摩擦下的小 ,其最小磨损率为 1.0 1× 10 -6mm3 /N·m ,而摩擦系数比干摩擦下的大 ,复合材料在干摩擦下的磨损机理主要为粘着磨损、剥层磨损和犁削 ,磨损较严重 ;而在水润滑下 ,复合材料的磨损机理主要为磨粒磨损和疲劳磨损 ,磨损较小 .这是因为水有利于降低摩擦副接触表面的温度 ,有效地抑制了基体青铜的转移 ;同时水促进了不锈钢偶件的氧化 ,形成薄而致密氧化膜 ,从而降低了磨损     

修饰碳纤维电极为工作电极-溶出伏安法测定银离子

文中详述了碳纤维电极(CFE)的制备及处理方法,用电化学聚合法将噻吩单体聚合并修饰在CFE上.应用此修饰电极于测定银时,将试液在0.1 mol·L-1HNO3中在-0.5 V处预还原120 s,使Ag+离子与聚噻吩生成络合物,然后在0～0.6 V范围内扫描,使Ag+从上述络合物中从电极上溶出,实现了银离子的阴极溶出伏安测定,在0.24 V处可得银离子的氧化峰电位,其峰电流值与银离子浓度在5.0 × 10-7～1.0×10-3 mol·L-1范围内呈线性关系,方法的检出限(3S/N)为5.0×10-8mol·L-1.     

应用锑膜修饰电极示差脉冲伏安法同时测定多巴胺和抗坏血酸

应用电化学还原法自制的锑膜修饰玻碳电极(GCE)研究了多巴胺(DA)和抗坏血酸(AA)在此修饰电极上的电化学性质.DA和AA在此修饰电极上的氧化电位依次为0.676 V和0.360 V,两者相差316 mV.此电位差值远大于两者在裸GCE电极上的差值(136 mV).据此,可用锑膜修饰的GCE,用示差脉冲伏安法同时测定DA和AA.测定DA和AA的线性范围分别为6.80×10-7～1.33×10-2,2.60×10-6～1.20×10-3mol·L-1,方法的检出限依次为1.50×10-7,6.70×10-7mol·L-1.应用所提出的方法分析了DA的针剂和AA的片剂样品,所得结果与标示值相符,并测得方法的回收率在97.9%～99.3%之间.     

硫杂蒽酮类光引发剂的电子自旋共振研究

本文采用ESR手段对五种硫杂蒽酮类光引发剂2-甲基硫杂蒽酮(MTX)2,4-二甲基硫杂蒽酮(DMTX)、1,2,4-三甲基硫杂蒽酮(TMTX)、2-甲氧基硫杂蒽酮(MOTX),2-戊氧基硫杂蒽酮(AOTX)和三乙胺引发体系进行了研究,提出了该类光引发剂和三乙胺暗反应的机理。     

新型水溶性硫杂蒽酮类光引发剂的光化学行为研究

本文用紫外吸收光谱、荧光光谱、磷光光谱、电子自旋共振光谱对九种水溶性硫杂蒽酮类光引发剂的光学行为进行了研究,计算了摩尔消光系数、荧光量子产率、磷光量子产率,同时测定了溶剂效应对紫外、荧光光谱的影响,并对引发剂结构与光学化学性能之间的关系做了一定的探讨。     

退火处理对Ni-Cr纳米电刷镀层的结构、硬度和摩擦学性能的影响

采用电刷镀技术,以Ni-Cr镀液制备了Ni-Cr纳米电刷镀层并对其进行了退火处理;采用X射线衍射仪,扫描电子显微镜,能量色散谱仪分析了不同温度下退火处理的Ni-Cr纳米镀层的形貌以及结构;分别利用MH-5-VM型显微硬度计和CSM摩擦试验机测定了刷镀层的显微硬度和摩擦磨损性能.研究结果表明:镀层晶粒的大小均为纳米级,随温度变化不大,介于10~20 nm之间,在500℃以下,Cr以固溶体形式存在于Ni的晶格中,500℃以上Cr从Ni的晶格中析出;镀层的耐磨性随退火温度的变化与镀层的硬度随温度的变化大致相同:Ni-Cr刷镀层在400℃退火处理时,硬度最大,磨损率最小.     

三唑磷的免疫分析技术研究

将合成的三唑磷半抗原采用活性酯法分别与牛血清白蛋白和卵清蛋白共价偶联制备突出三唑磷分子结构特征的人工抗原与包被抗原。以人工抗原免疫新西兰白兔获得抗血清,采用硫酸铵分步盐析和DEAE纤维素反相吸附法从抗血清中分离纯化对三唑磷具特异性亲合力的抗体,以辣根过氧化物酶采用混合酸酐法标记半抗原。在此基础上,首次成功建立了对三唑磷具高特异性的间接竞争、包被抗体直接竞争酶联免疫吸附分析（ELISA）技术。在优化条件下,三唑磷测定的线性浓度范围为0．001～1．0mg／L,检出限0．11μg/L,其他类似结构的常用有机磷酸酯类杀虫剂和苯唑醇不干扰三唑磷的测定。     

聚苯胺/钴-氧化钴膜作传感元件的pH传感器的性能

研究了在玻碳电极上修饰不同物质所制得的pH传感器,通过电位滴定的方法比较得出先修饰聚苯胺,再修饰钴-氧化钴膜的电极对pH有较好的响应,能代替玻璃电极应用在实际样品测定中. 探究了最佳修饰条件为:先在0.1 mol/L苯胺的盐酸(1 mol/L)溶液中, 电位范围为-0.2～1.0 V,以100 mV/s 的扫描速率循环伏安扫描10圈修饰聚苯胺膜;接着在含2.0×10-4 mol/L Co2+的磷酸盐缓冲溶液(PBS)(pH=7.5)中,电位范围为-1.2～1.2 V,以100 mV/s的扫描速率循环伏安扫描 5圈修饰钴-氧化钴膜. 得到的修饰电极响应斜率为-61.60 mV/pH,响应范围pH值为0.5～13.