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491.
Variation of Different Characteristic Parameters of Pentacene/Poly(Methyl Methacrylate) Transistors under Electric Stress 下载免费PDF全文
By investigating the variation of different characteristic parameters of pentacene/poly(methyl methacrylate) transistors suffered from electric stress in an environment without O2, H2O and light, we deduce lifetimes of the transistors by different criterion parameters. Defined by the time for the parameters changing one half, the lifetime is different from the minimum of 7h (using on/off current ratio as the criterion parameter) to the maximum of 2.38 ×10^8h (using transconductance as the criterion parameter). We also find that, under our experimental conditions, the main reason that affects the stabilities of the device is the increase of shallow traps formed in the organic semiconductors. 相似文献
492.
采用常压MOCVD方法在Al2O3(00.1)衬底上生长出了高质量ZnO单晶薄膜。由ZnO(00.2)面和Al2O3(00.6)面及ZnO(10.2)面和Al2O3(11.6)面X射线双晶(w/2θ衍射曲线的相对峰位,得到ZnO外延膜的晶格常数及外延层和衬底间的取向差异角。结果表明外延层和衬底在应力作用下产生了取向差和晶格畸变,并且取向倾斜方向与衬底的切割倾角方向一致;高温直接生长的样品的取向差比有低温缓冲层样品更大,晶格畸变也更严重。高温直接生长的样品弯曲半径小而应力更大;实验测量的应力值和理论计算的热应力值之间存在差异,原因主要是晶格失配应力的存在。有缓冲层的样品由于能更好地弛豫晶格失配引入的应力,热应力所占整个残余应力的比例相对更大。 相似文献
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494.
采用基于密度泛函理论的第一性原理计算方法,对未掺杂及B掺杂Mn_4Si_7的电子结构和光学性质进行理论计算.研究结果表明,未掺杂Mn_4Si_7是间接带隙半导体,其禁带宽度为0.786 eV,B掺杂后其禁带宽度下降为0.723 eV. B掺杂Mn_4Si_7是p型半导体材料.未掺杂Mn_4Si_7在近红外区的吸收系数达到10~5 cm~(-1),B掺杂引起Mn_4Si_7的折射率、吸收系数、反射系数及光电导率增加. 相似文献
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496.
旋成面叶栅一些杂交气动命题的新解法(Ⅰ) 总被引:1,自引:0,他引:1
本文提出了叶栅气动反命题和A型、C型及D型杂交命题的新解法。为此,引进了一种新的映象平面ξ-η。重点论述了C型杂交命题——设计出具有给定厚度分布和凸面流速分布的叶栅——的求解方法。这种新解法的优点是能更好地处理钝头叶型,也适宜与叶栅最优化理论配套使用,特别是它还易于推广到三元叶栅的杂交命题上去。 相似文献
497.
498.
通过核磁共振扩散张量成像(DTI)得到的特定值域的扩散各向异性指数(DAI) 可用于揭示水分子扩散椭球的形态学特征, 定量反映被成像物体内部水分子扩散的优势方向和强度, 间接得到被成像物体内部的组织结构信息. DAI的可靠性直接影响对DTI数据的分析和理解. 本文基于扩散张量椭球的几何学信息, 提出利用扩散椭球几何比(EGR)定量描述水分子扩散的各向异性程度. 通过蒙特卡罗模拟实验和对人脑DTI数据进行分析, 并与当前广泛应用的水分子扩散各向异性分数(FA)和近期文献提出的扩散椭球面积比(EAR)进行对比. 实验发现EGR在不同级别噪声影响下的对比度效果和抗噪性都优于FA及EAR. 而且EGR 加入了体积修正, 增强了盘形扩散张量情况下的敏感性, 能够更好地鉴别神经纤维束交叉情况, 对于各向异性扩散程度较高的白质深层和相对均质的表层都有较好的量化区分结果.
关键词:
扩散系数
各向异性扩散
扩散张量成像
扩散椭球几何比 相似文献
499.
Photoluminescence of amorphous carbon films fabricated by layer—by—layer hydrogen plasma chemical annealing method 下载免费PDF全文
A method in which nanometre-thick film deposition was alternated with hydrogen plasma annealing (layer-by-layer method) was applied to fabricate hydrogenated amorphous carbon films in a conventional plasma-enhanced chemical vapour deposition system.It was found that the hydrogen plasma treatment could decrease the hydrogen concentration in the films and change the sp^2/sp^3 ratio to some extent by chemical etching.Blue photoluminescence was observed at room temperature,as a result of the reduction of sp^2 clusters in the films. 相似文献
500.