基于伽辽金级数的空间电荷场计算模型

利用局部伽辽金矩量法,建立了电子注空间电荷场的2.5维计算模型. 将空间电荷场在径向展开为各个模式的叠加,利用伽辽金级数表示,通过求解其系数方程组, 最终求得空间电荷场.利用本文的模型,计算分析了电子注空间电荷场的特性, 并研究了模型中仿真参量对空间电荷场计算结果的影响.本文的空间电荷场计算模型利用粒子模拟基本方法, 可以应用到速调管注波互作用计算模型中.     

(n-1,1)-型分数阶共轭边值问题的正解

本文研究了(n?1,1)–型分数阶共轭边值问题正解的存在性与多解性问题。利用Krasnoselskii–Zabreiko不动点定理,结合与Green函数相关的不等式,获得了几个存在性结果,推广了一些现有的结果。     

场方法的改进及其在积分Riemann-Cartan空间运动方程中的应用

和Hamilton-Jacobi方法类似,Vujanovi?场方法把求解常微分方程组特解的问题转化为寻找一个一阶拟线性偏微分方程(基本偏微分方程)完全解的问题,但Vujanovi?场方法依赖于求出基本偏微分方程的完全解,而这通常是困难的,这就极大地限制了场方法的应用.本文将求解常微分方程组特解的Vujanovi?场方法改进为寻找动力学系统运动方程第一积分的场方法,并将这种方法应用于一阶线性非完整约束系统Riemann-Cartan位形空间运动方程的积分问题中.改进后的场方法指出,只要找到基本偏微分方程的包含m(m≤ n,n为基本偏微分方程中自变量的数目)个任意常数的解,就可以由此找到系统m个第一积分.特殊情况下,如果能够求出基本偏微分方程的完全解(完全解是m=n时的特例),那么就可以由此找到≤系统全部第一积分,从而完全确定系统的运动.Vujanovi?场方法等价于这种特殊情况.     

高峰值功率多注速调管电子光学系统的研究

 分析了存在于高峰值功率多注速调管电子光学系统中的问题。采用间接设计方法设计了S波段50 MW多注速调管的电子光学系统。设计中采用分立屏蔽筒结构解决电子枪区聚焦场的旁轴对称问题。利用2维电子光学软件EGUN、3维电磁模拟软件MAFIA和PIC粒子模拟程序对电子轨迹进行了模拟,结果表明：分立屏蔽筒结构可以获得较好的旁轴对称场,电子光学系统的电子轨迹比较理想。     

低温二次电子产额测试系统设计与研究

在合肥先进光源（HALF）建设中,由低温超导材料组成的真空部件被大量使用,尤其是超导高频腔。超导腔以高加速梯度、低束流阻抗、高无载品质因数和低运行成本等特点,成为21世纪国际上拟建的大型加速器的首选。而超导腔和低温真空室内表面的二次电子发射可能会引发电子云（EC）现象。超剂量的二次电子倍增功率沉积会引起低温区域热负载增加、超导腔失超等现象,因此降低超导高频腔内二次电子发射成为合肥先进光源设计过程中的巨大挑战。在常温材料二次电子产额（SEY）测试系统的基础上,作者自主研发设计低温样品架结构,使液氦流经样品台并通过热传导冷却样品,计算漏热来反推所需要的制冷量和液氦的消耗速率。在系统集成调试后进行降温性能测试,搭建了低温材料二次电子测试系统。     

品味概率与函数的交汇性问题

概率是高中数学的新增内容,是新课程高考的一大亮点和热点,是中学数学知识的一个重要交汇点,已成为联系多项内容的媒介.本文仅展示概率与函数的交汇性问题,从中可以看到二者联袂使呆板、平淡的数学题充满活力和无穷魅力.     

政府网站评估DEA模型

本文运用DEA（Data Envelopment Analysis）技术，建立了电子政务网站评估的DEA模型，并对全国28个省市的政府网站进行了详细的评估。该评估模型与目前常用的电子政务网站评估方法不同之处在于，不仅比较各网站的物理表征指标与服务内涵，还考虑到各省市的社会、经济发展基本指标。这样将电子政务的活动同其建设环境联系起来，更客观地评估人在电子政务中的能动作用，以及电子政府作为建设项目的投人产出效率。同时，利用DEA分析方法进行评价，还能向各网站提供如何改进网站的建设工作的指导信息，为有关部门对政府网站的评价和管理提供了一种新方法。     

“双语教学”在数学教学改革中的实践与创新

在数学课堂上如何进行双语教学,如何使双语教学达到比较理想的教学效果,对这一问题还没有一个较清晰的令人满意的答案.作者从教学内容,教学设计以及英语在课堂中的使用这三个方面进行了探索和实践..     

Fabrication of SiO_2 microdisk optical resonator

The silica microdisk optical resonator which exhibits whispering-gallery-type modes with quality factors of 9.67×10~4 is fabricated with photolithographic techniques.Reactive ion beam etching(RIBE)is used to get the silica disks with photoresist masks on SiO_2/Si made by standard ultraviolet(UV)photolithography, and spontaneous silicon etching by XeF_2 is used to fabricate the silicon micropillars.This fabrication process can control the microcavity geometry,leading to high experiment repeatability and controllable cavity modes.These characteristics are important for many applications in which the microcavity is necessary,such as the quantum gate.