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131.
建立快速消解分光光度法检测高氯废水中低浓度化学需氧量(COD)的方法。通过提高催化液中硫酸银的浓度(46 g/L)充分络合氯离子,同时降低消解液中重铬酸钾的浓度至0.061 2 mol/L来抑制重铬酸钾与氯离子的反应,达到有效消除Cl~–干扰的目的。水样在165℃消解30 min,于600 nm波长检测吸光度,标准曲线法计算COD。实验结果表明,水样中COD质量浓度为20 mg/L时,2 000 mg/L的Cl~–不干扰COD的测定(相对误差小于10%),并且随着COD质量浓度的增加,Cl~–产生的干扰误差逐渐降低。对国家环境保护部标准样品进行了测定,COD测定值与标准值一致。样品加标回收率为97.0%~103.7%,测定结果的相对标准偏差为2.01%~6.33%(n=6)。该法快速,有毒试剂用量小,成本低,具有较高的准确度和良好的精密度,可以用于多数工业废水中COD的测定。 相似文献
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133.
在反转恢复测试中磁化矢量的演化特征:辐射阻尼效应 总被引:1,自引:0,他引:1
在强辐射阻尼存在下,水样(90% H2O in D2O)的反转恢复实验表明:当两脉冲的相位相差180°且反转脉冲角<180°时,或两脉冲相位一致但反转脉冲角>180°时,在检测期观测到的信号强度将不发生从负极大值到正极大值的突变;在同样的条件下,如果存在频率偏置,信号强度存在波动,即beating效应.只有当两脉冲的相位一致而反转脉冲角<180°时,或两脉冲的相位相差180°但反转脉冲角>180°时,在检测期信号强度才发生突变,即jumping效应.这些现象都可通过辐射阻尼理论予以合理地解释.另外,在检测期当磁化矢量运动到-z轴附近(对应于τ=Trdln{tan[(π±δ)/2]}),信号强度与理论预计的偏差实际上与T1弛豫效应有关. 相似文献
134.
135.
β-烷氧羰基乙基三氯化锡配合物的合成、结构表征及酯交换反应 总被引:3,自引:0,他引:3
合成了13个标题化合物ROCOCH2CH2SnCl3.L (R=C1-5烷基;L=DBSO, HMPA), 通过元素分析、IR和1H NMR进行了表征。n-PrOCOCH2CH2SnCl3.DBSO的晶体结构分析表明, 该晶体属正交晶系; 空间群P212121; a=1.062, b=1.427, c=1.635; Z=4。该化合物为含有分子内羰基配位和Lewis碱配位的具有畸变八面体构型的单分子有机锡化合物。研究了CH3OCOCH2CH2SnCl3.L和醇的酯交换反应, 提出了分子内Lewis酸催化的反应机理。 相似文献
136.
137.
MODELING AND SCALING OF CHIELECTRIC RELAXATION OF NONLINEAR OPTICAL POLYMERS IN FREQUENCY DOMAIN 下载免费PDF全文
chielectric relaxation theory was demonstrated, chielectric relaxation that selectively probes chromophore reorientation in the frequency domain was described by the Havriliak Negami(HN) function, chielectric spectra of several nonlinear optical (NLO) polymers were fitted well by the HN function. To describe the scaling of chromophore reorientation relaxation in frequency domain, two-shape parameters m and n describing the low- and high- frequency wings of the chielectric spectra need to be specified, besides the chielectric characteristic relaxation time τ and the chielectric strength Δχ(2). From the temperature dependences of m and n of NLO polymers, the relations between the chromophore relaxation and the a relaxation of the polymer host have been revealed. 相似文献
138.
139.
140.
用磁控溅射方法在玻璃基底上制备了非晶Si/SiO2超晶格.利用透射电子显微镜 (TEM) 和X射线衍射技术对其结构进行了分析,结果表明,超晶格中Si层大部分区域为非晶相,局域微区呈现有序结构,其厚度由1.8—3.2nm变化,SiO2层厚度为4.0nm.并采用多种光谱测量技术,如吸收光谱、光致发光光谱和Raman光谱技术,对该结构的光学性质进行了系统研究.结果表明,随纳米Si层厚度的减小,光学吸收边以及光致荧光峰发生明显蓝移,Raman峰发生展宽,即观测到明显的量
关键词: 相似文献