微晶硅薄膜在粗糙表面的大面积均匀生长机制在

用氩气稀释硅烷作为反应气体,利用感应耦合等离子体在廉价衬底上大面积均匀沉积微晶硅薄膜．X射线衍射和拉曼分析表明衬底能显著地影响晶向,且微晶硅薄膜由小晶粒组成．台阶仪测试表明,微晶硅薄膜具有大范围均匀的特点．探针分析表明衬底附近区域的离子密度及电子温度分布均匀．基于以上结果可知：粗糙表面在晶体结构形成具有重要的作用,电感耦合等离子体反应器可以大面积均匀沉积薄膜．此外,氩气能影响反应过程并提高微晶硅薄膜特性．     

原子间纠缠和光场模间纠缠的对应关系

本文应用negativity和concurrence两种纠缠度量标准，考察了双原子与双模光场相互作用系统中，原子间纠缠和光场模间纠缠随时间的演化规律，发现它们在时间演化过程中可以相互转换，在一定条件下两者具有很好的对应关系；对于两量子位系统，negativity和concurrence的取值范围一样，在判断纠缠存在与否的标准上也完全相同，但当系统处于混态时二者的大小不能始终保持一致. 关键词： 量子纠缠 negetivity concurrence 双原子 双模光场     

圆环杆与平板连杆的适合光路集成的二维正方晶格光子晶体

提出了一种基于圆环杆与平板连杆的二维正方晶格光子晶体结构,讨论了绝对禁带的计算过程和各参数对绝对禁带宽度的影响.通过平面波展开法结合逐次逼近方法发现其最大绝对禁带相对值达到19.026％,比采用圆柱杆和平板连杆结构的二维正方晶格光子晶体以及采用圆环杆但无连杆的二维正方晶格光子晶体的最大绝对禁带相对值分别提高10.181％和712.035 9％;圆环杆的外径、圆环的相对厚度以及连杆的宽度都存在一个最佳值,且连杆宽度对绝对禁带相对值的影响比较敏感.     

1,3-二(4-咪唑基)苯构筑的两个金属-有机框架化合物:合成、晶体结构和荧光性质（英文）

利用1,3-二(4-咪唑基)苯(L)和过渡金属盐反应,通过水热法方法合成了2个新颖的金属有机框架化合物:[Cd(L)(SO4)]n(1)和{[Ni(L)(SO4)]·H2O}n(2)。利用元素分析、红外、粉末衍射、热重分析等对MOFs进行了表征。通过X射线单晶衍射表明:1属于正交晶系,Pnma空间群,a=0.70728(5)nm,b=1.34381(9)nm,c=1.40731(9)nm,V=1.33758(16)nm^3,Dc=2.079 g·cm^-3,Z=4,F(000)=824,GOF=1.072,R1=0.0190,wR2=0.0506。2属于三斜晶系,P1空间群,a=0.98665(18)nm,b=1.1457(2)nm,c=1.3025(2)nm,α=65.029(3)°,β=83.497(3)°,γ=86.423(4)°,V=1.3260(4)nm^3,Dc=1.441 g·cm^-3,Z=2,F(000)=592,GOF=1.016,R1=0.0434,wR2=0.0771。2个MOFs均为二维的层状结构。此外,对MOFs的热稳定性和荧光性质也进行了研究。     

PAN共沉淀分离富集微量注射进样FAAS测定人发中的痕量镉

本文报道了采用PAN共沉淀分离富集微量进样技术-FAAS法对人发中的痕量镉的测定。镉的测定范围在0～25μg/L,回收率在96～107%之间,变异系数为7.2%,得到了满意的结果。     

基于分子动力学模拟流体输运性质的稳定性分析

利用线性响应理论对Ar流体输运参数进行了分子动力学模拟,结果发现:导热系数和黏度会随着自相关积分函数积分时间的增加而产生剧烈波动,而扩散系数却相对稳定. 针对积分稳定性这一问题,对导热系数和黏度中的热流密度和应力张量进行了分解分析,发现含分子间作用力项是影响稳定性的最大因素. 从牛顿力学出发对作用力项的影响机理进行了分析,指明减小这种影响的最主要方法是使在体系进行统计输运参数前达到稳定平衡状态,即最小的预平衡步数应该满足使体系达到该状态下熵最大或者能量最低,并尽量减小温度对体系的影响. 同时,还对模拟盒尺寸、统计步长等因素对积分稳定性的影响进行了分析,给出了保持稳定性的建议. 关键词： 分子动力学 输运性质 自相关函数 稳定性     

古塔的形变研究

利用投影多边形模型确定古塔各层的中心坐标,采用最小二乘法建立线性模型,借助三维高次曲线方程建立古塔的曲率模型和挠率模型。使用Matlab数值实验完成了对所有模型的求解,详细地分析了古塔的倾斜、弯曲和扭曲的变形趋势,为古塔的纠偏和保护工作提出了建议。     

低温等离子辅助蒸发纳米铝膜微结构及光学特性研究

采用低温等离子体辅助气相沉积技术在低压常温条件下制备稳定的纳米铝膜。利用发射光谱和Langmuir双探针法分析射频感应耦合Ar等离子体成分及分布密度特性,结果显示在衬底附近等离子体密度衰减趋于平缓且均匀,浮动电位0.329V;随着功率的增加,Ar+对成膜起主要影响。再结合铝膜的原子力显微结构,研究了不同的等离子环境条件对成膜质量及其紫外可见光谱的光学性质影响。结果表明射频离子源的加入,薄膜微结构发生较明显变化;随功率增加,膜反射率出现峰值;微结构特性对其光学性能影响较大,随着表面粗糙度的增加,紫外及可见光的透射率先减小后增大。     

Cr掺杂锐钛矿相TiO2光学性质的第一性原理研究

本文对Cr掺杂TiO2进行了基于密度泛函理论的第一性原理研究.模拟计算了完整及Cr掺杂TiO2的电子结构,介电函数及吸收光谱的偏振特性.计算结果表明完整的锐钛矿型TiO2晶体在可见光范围内无吸收;掺Cr后晶体的禁带宽度减小到2.25 eV,吸收边红移,并在可见光区域出现了2.51 eV(495 nn)的吸收峰,表明Cr掺杂有利于提高TiO2对太阳光的吸收.计算结果与实验结果基本相符.     

掺杂Rh离子SrTiO3晶体缺陷形成能和电子结构的研究

使用CRYSTAL-09软件包模拟计算了完整SrTiO3晶体的电子结构以及Rh离子掺杂SrTiO3晶体的缺陷形成能和电子结构.结果表明Rh离子在晶体中将优先占据Sr格位;Rh掺杂SrTiO3晶体在禁带中出现了一个4d态杂质能级,导致禁带宽度减小,可见光区的光催化活性提高;解释了Rh掺杂SrTiO3晶体具有较高H2产量的原因机理.