首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   19篇
  免费   19篇
  国内免费   6篇
化学   11篇
综合类   1篇
数学   1篇
物理学   31篇
  2023年   2篇
  2020年   1篇
  2019年   1篇
  2018年   1篇
  2016年   2篇
  2015年   2篇
  2014年   1篇
  2012年   3篇
  2011年   2篇
  2010年   1篇
  2009年   4篇
  2008年   4篇
  2007年   7篇
  2006年   3篇
  2005年   4篇
  2001年   3篇
  1998年   1篇
  1996年   1篇
  1986年   1篇
排序方式: 共有44条查询结果,搜索用时 15 毫秒
41.
李晓林  柯敏  颜波  唐九耀  王育竹 《物理学报》2007,56(11):6367-6372
利用解析和数值方法计算了Z形磁阱的囚禁势,发现当囚禁中心和芯片表面距离较远时(该距离和Z形线中部导线的一半长度相差不超过一个量级),势阱的深度不能近似表示成偏置磁场By对应的能量,而要减去囚禁中心的势能高度;而增加By进行磁阱压缩到一定值时,势阱深度反而会下降.此外介绍了原子芯片的制作方法,以及利用原子芯片上Z形磁阱囚禁中性87Rb原子的实验装置和实验过程.最终有2×10687Rb原子被转移到Z形磁阱中.  相似文献   
42.
We propose a surface planar ion chip which forms a linear radio frequency Paul ion trap. The electrodes reside in the two planes of a chip, and the trap axis is located above the chip surface. Its electric field and potential distribution are similar to the standard linear radio frequency Paul ion trap. This ion trap geometry may be greatly meaningful for quantum information processing.  相似文献   
43.
原子芯片提供了一个稳定、精确且功能强大的实验平台来制备和操纵中性超冷原子。本文概述了近年来原子芯片的研究发展状况,并介绍了原子芯片上微势阱的设计原理以及几个典型的原子芯片实验,然后讨论了芯片实验中的原子损失、加热和退相干机制,最后对原子芯片可能的发展方向进行了预测。  相似文献   
44.
质子束刻写技术利用MeV能量的聚焦质子束对抗蚀剂材料直接刻写m甚至nm尺度微结构。研究了质子束刻写中抗蚀剂胶层样品厚度与涂层机旋转速度的关系以及曝光对抗蚀剂的影响,解决了质子束刻写中抗蚀剂厚胶层样品的制备、固化、显影等技术问题,利用扫描质子微探针系统,在正型抗蚀剂胶层上刻写出m尺度的海宝图形、 双矩形结构,在负型抗蚀剂上刻写出m尺度的平行线条、十字形微结构。  相似文献   
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号