基于远场同轴全息的激光M2因子测量技术

激光光束质量M²因子的动态测量对激光器的设计、制造与应用均具有重要意义。本文提出了一种基于远场同轴全息的光纤激光器光束质量M²因子动态测量方法。通过偏振移相同轴全息技术直接获取待测激光的远场复振幅信息,利用角谱传输及透镜变换理论求解激光在自由空间中的光场强度分布,从而实现M²因子的动态测量。实验搭建了远场同轴全息装置,测量了不同纤芯直径光纤在632.8 nm波长下的激光光束质量,其结果与BEAM SQUARED商用光束质量仪的测量结果一致。本文所提方法仅需0.02 s即可实现光纤激光的M²因子测量,比商用光束质量仪的测量速度提高了两个数量级以上。此外,本装置结构紧凑,能够避免透镜引入的装调及加工误差。     

阳离子表面活性剂中相微乳的形成和特性

自1943年SdriAn。等人山发现微乳液体系并予以命名以来，对微乳液研究不断深入·微乳液是由油、水、表面活性剂和助表面活性剂组成的各向同性、透明的、热力学稳定的分散体系，微乳液可分为单相微乳液和多相微乳液问．中相微乳液是多相微乳液中，与过剩盐水相和过剩油相达到三相平衡的Winsor皿型微乳液，它在三次采油、日用化工、微环境、酶催化等方面具有特殊重要的应用I‘，‘］．近年来对阴离子表面活性剂中相微乳液的形成和特性进行了较多研究［5。8］．但对阳离子表面活性剂中相微乳液的研究，目前尚未见报导，本文以澳代十四烷基毗…     

基本弱Hopf代数和弱覆盖箭图

研究了代数闭域K上具有强分次Jacobson根r的有限维基本可裂弱Hopf代数,并刻画了有限维基本可裂半格分次弱Hopf代数H,即存在有限Clifford半群S,使得H/rkS^*.还引入了弱覆盖箭图的概念,其路代数具有半格分次弱Hopf代数的结构,其箭图作为弱覆盖箭图被刻画.进一步地,证明了对上述H存在弱覆盖箭图Г和由长度大于2的路生成的理想I,使得kГ/IH.     

弱Hopf代数上的弱Alternative Doi-Hopf模

该文首先引入了弱Hopf代数上的弱Alternative Doi-Hopf模,然后构造了从弱Alternative Doi-Hopf模范畴到模范畴(余模范畴)忘却函子的伴随函子.     

F与CH~3F反应的可见化学发光

利用分子束装置研究了F与CH~3F反应可见光范围(450-900nm)的化学发光.观察到HCF(A~1A"-X2A')的七个振动带和HF^+电子基态振动广频跃迁的四个振动带和它们的强度随反应物流量的变化.求得HF分子的V'=4,5,6能级相对振动布居和V'=3的转动温度.分析表明两种光谱都是第二步反应(F+CH~2F)引起的,这步反应造成了HF高振动能级的统计性粒子分布和转动能级的玻尔兹曼分布.     

2H NMR和DSC法研究十二烷基磺酸钠-正戊醇-水三元体系的溶致液晶

测定了十二烷基磺酸钠/正戊醇/水体系的相平衡,在相图中的液晶区选取样品点,采用²H NMR和差示扫描量热方法,并结合其液晶纹理,研究了该体系液晶相的结构特点。结果表明,在一定温度下,整个液晶区均为层状液晶,其相结构不随水含量和醇含量的变化而变化。在组成固定的情况下,该体系液晶的相结构随温度的升高而发生变化。     

毛细管电色谱法的研究进展

比较全面地综述了毛细管电色谱法的发展及研究状况。     

小波相位解调轮廓术

针对傅里叶变换轮廓术因混频难以准确提取基频的问题,可将小波变换用于三维形貌相位直接解调。对其原理进行了研究,通过编程实现了小波相位解调。取Morlet复小波作为小波母函数,对调制栅线图逐行进行连续小波变换,从各位置的沿尺度方向的小波变换系数幅值的极值中可直接求取对应的相位数据。由于小波函数具有空域_频率两域的局部化特性,因此它对变形栅具有很强的自适应能力。为验证新方法,对其进行了仿真分析,同时还对石膏半球模型和化妆品瓶进行了实际测量,并分别用傅里叶变换和小波变换进行了处理。结果表明,新方法有效地克服了混频的问题,改善了相位解调效果,提高了测量精度,特别适合于复杂物体的形貌测量。     

分子印迹聚合物吸附性能的影响因素探讨

分子印迹聚合物具有对特定分子的亲和性和高选择性,稳定性好、使用寿命长、应用范围广等特点,因此在很多领域,如色谱分离[1]、固相萃取[2]、仿生传感[3]、模拟酶催化[4]、临床药物分析[5]、膜分离[6]等得到日益广泛的研究和应用。影响分子印迹聚合物与模板分子之间识别作用的因     

新型共聚物涂层毛细管电泳柱及其分离蛋白质的研究

 研究新型共聚物——ＺＢ系列表面键合剂在毛细管电泳中的应用。采用物理吸附的方法制备了ＺＢ－００４,ＺＢ－０１４,ＺＢ－０１６等３种涂层毛细管柱,在ｐＨ３～５范围内,３种涂层均能有效地降低管壁对蛋白质的吸附作用和电渗流,其中亲水性较弱的ＺＢ－００４涂层的分离性能最好。在ｐＨ＜５时,涂层具有较高的稳定性和良好的分析重复性,但在更高的ｐＨ值条件下,仍然存在着峰形畸变和电渗流迅速增加的现象。